光刻机太难了（为什么光刻机这么难）

光刻机技术很难吗，为何只有极少国家掌握了该技术？

光刻机的技术的确很难，哪怕放眼世界上的发达国家当中，也就是荷兰和日本两大国家拥有光刻机，并且大多数顶尖的技术都是被荷兰asml公司给掌握垄断的，这一家公司 *** 了很多欧美国家的技术，也有了时间的沉淀，所以才成为了世界上光刻机的王牌，并不是一朝一夕就可以做到的，我国还是需要很长的路要走。

我们都知道，这几年我国的科技和经济发展的非常迅速，一跃而起成为了世界第二大经济体，并且在不少科技领域都取得了很大的成就，比如说5G，高铁技术等，但是同样也有不少技术依然掌控在发达国家手中，一些顶端的科技还是被美日欧垄断，今天要说的光刻机也是我国科学技术上面的一大难题，目前世界上光刻机只有荷兰和日本两个国家研发了出来。

那么我国现在经济如此强大，为何还研发不出光刻机，是因为光刻机真的研发出来吗，说得对，光刻机的技术难度的确不是一般的国家可以短时间做到的，我国虽然目前科研水平增长的很快，但是比起一些老牌发达国家来说，不少领域方面还是有一定差距的，毕竟我国才发展了这么短的时间，论沉淀也不如其他的国家，目前世界上大多数顶尖光刻机技术掌握在了荷兰手中，也就是asml公司。

这一家公司几乎聚齐了世界上大部分欧美国家的先进技术，所以通过了时间的沉淀积累，才成为了世界上最大的光刻机供应商，目前美国为了遏制我们，就禁止荷兰对我国出口光刻机，所以想要研发出这样的光刻机，并不是短时间内可以做到的，目前我国研发的光刻机依然还是精度不算高的那种，所以说我国还有很长的路需要走。

光刻机为什么那么难制造 光刻机那么难制造的原因

1、首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长。其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国著名厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的，它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明，美国生产的7纳米芯片，是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难，因为相机只需要控制光圈，而光刻机不仅仅是要控制光的大小，还要能够利用光。

2、其次，光刻机的研发需要大量的资金支持，很多企业难以承担高昂的研发费用。美国等发达国家研究光刻机，几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用，几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。

3、最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克。从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。

给图纸也造不出来的光刻机，为何这么难做？

有图纸光刻机这种东西也不是说造就能造出来的，因为它不是一家公司产物，可以说一台高端的光刻机，它 *** 了全球几千家顶尖的科技公司的结晶，上万个精细的零件的配合才能够造出这样一台机器，说一台高端的光刻机是人类文明智慧的巅峰也不为过。

这种东西它主要作用就是个芯片，芯片才多大呀，你想一想你手机有多大，芯片只是占很小很小的一部分，但是这很小很小的一部分，他又能够处理你手机上的所有信息，无论是系统的控制亮度的调节，还是说声音大小全部都指望这样一个核心的东西呢，没有这个东西手机的很多功能都会缺失，但是它体积就那么小，它是非常精细的东西，这个东西可以说是除了人的大脑之外，手机的一个大脑。

他自己虽然不能主动地进行思考，但是它可以根据你的指令作出正式的反应，光刻机的发展最早的时候还没有那么难，但是随着进度的不断提升，现在到了5纳米这个级别的我们根本就做不出来，国内就是说现在最先进的就是14左右的，差了，七中好几代，三代可能都不止了，要说国内就不想研究出来的吗？谁都知道把这个东西关键技术攻克了，那利润空间绝对是很大很大的，国内的市场也非常的高，同样的价钱同样的性能国产的厂商为什么不用国内的呢？只不过是因为国内没有不是给钱就能研究出来了。

图纸这个东西只是一个样例而已，就是说大致方向是这样的那么复杂的一个东西，你觉得一张图纸就能包括吗？不是建房子那么简单，不是说把一些砖堆砌到一块，你这个房子就算建成了那个东西，你就算是用三维立体图去展示的话，也是一个非常复杂的模型，绝对不是一个图纸就能搞定的，而且核心的技术国外是绝对不会外泄的，这是他们最核心的东西，多少钱都不可能的，所以自力更生还是得靠自己。

光刻机到底有多难以生产？

光刻机很难生产的，这个东西对我们来说是一个技术难关，或者说技术壁垒，我们没有这样的技术，就算有精度也不够。不能达到现在实际生产需要的这个要求，这东西真正生产出来不是靠一家厂商可以搞定的。

一台真正高端的光刻机，不要说现在还在实验阶段的，两纳米的这种，就是5纳米7纳米的这种机子，基本上国外只有有限的几家厂商可以生产。他们可以生产并不是说技术都是他们自己的，而是说他们与世界上其他很多尖端科技公司，上千家公司存在这方面的技术往来，就是每一个公司他负责一部分的精密零件，然后只有少数的世界上的这几个公司，他们具备这样较为完整的产品供应。然后自己具备关键的这个组装技术，有一些主要的框架技术核心技术，在他们自己这经过这样的整合，他们才能制造出一台真正可以投入生产的光刻机。

而国外对于这个东西是很保守的，就是统一态度，你要是想制造芯片可以我们给你代工，我们可以帮你生产，你给钱就行了。但是你想要光刻机不可以，你给多少钱也不能卖给你，就是不卖。这不是钱的问题，这东西在市场上是有市无价的，不要说10亿了，你就是出更多的钱也没有厂商敢卖给你，这不单纯是商业公司的问题，这是涉及到国家与国家之间技术壁垒的问题。

这东西很重要，因为你平常所使用的智能设备，手机智能手环电脑包括电视，它里面都会有芯片，有些芯片有些芯片是我们能自己制造的。但是真正高端的芯片，我们现在还是没有这个机子这是我们现在已经逐渐具备的设计的能力，我们能研发出来了，但是我们不能量产，没有真正高端的芯片还得靠国外的企业代工。但现在人家封锁你，人家不给你代工，这事情就很麻烦了，我们未来肯定是要集中资源和力量攻关这些技术的，但这个确实不是短期内可以搞定的。

仅2个国家掌握 造光刻机为何这么难

造光刻机难的原因有：

1、西方国家的技术封锁：

在光刻机领域，荷兰是最有发言权的，我国很早以前就跟他们取得联系，并且希望进行相关合作，若是双方进行合作的话，很容易就能解决技术问题，可是美国却总是从中作梗，要求荷兰方面封锁相关信息，不愿意让这个技术流到中国这里。

2、没有参照物：

这么多年以来，中国之所以能够发展得这么迅猛，一方面是因为拥有相对技术的经验，另一方面就是因为，可以买到具有参考意义的物品，进行模拟式的研究，而高端光刻机的参照物，我们始终都没有获得，简直就是一张白纸，相关工作很难展开。

3、光刻机技术：

光刻机技术并不仅仅是单纯的一项技术，而是一个 *** 性质的技术群体，在一个光刻机里面，至少有8万多个电子元件，光刻机凝聚了人类最高智慧。

在众多技术难关中有很多关卡，即便是解决了其中一部分，也没有办法将所有的东西拆解开来，与其自己研究，还不如通过商业合作的方式，使用其中某项功能，因此中国的光刻机研究，迟迟没有真正的实现技术突破。

世界的光刻机水平：

实际上中国能制造光刻机，只是不能制造先进光刻机。在2021年的时候，中国就有企业宣布制造出了能生产24nm芯片的光刻机。这个水平放到国际上大概是2013年到2015年的水平，而在2021年时国际领先水平是5nm芯片。

单论先进光刻机方面，在目前的市场上是一超多强。荷兰的asml是世界上最大、最先进的光刻机制造商，占据了全球光刻机市场80%的份额，在行业中基本做到了垄断。

整个世界有4大光刻机生产商，除了荷兰的asml，日本的佳能和尼康也在市场中占据一定份额，而中国也在里面有一个名额，那就是上海微电子。

上海微电子是全球主要的低端光刻机生产商，占据了全球低端光刻机40%的份额。所以就光刻机本身来说，光刻机并不难造，至少对于中国来说光刻机不难造，难造的是最顶尖的光刻机。

光刻机的制造为什么这么难?

首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长。

其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国著名厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的，它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明，美国生产的7纳米芯片，是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难，因为相机只需要控制光圈，而光刻机不仅仅是要控制光的大小，还要能够利用光。

其次，光刻机的研发需要大量的资金支持，很多企业难以承担高昂的研发费用。

美国等发达国家研究光刻机，几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用，几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。所以说对于我国很多中小企业来说，他们没有充足的资金去研发光刻机。并且加上目前市场已经存在一定的饱和，这些新研发的企业如果大量将产品投产到市场当中，无疑会使得竞争对手和自己两败俱伤。

最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克。

从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。并且从目前来看，上海微电子装备已经能够研发出90纳米工艺的芯片。而另外一家公司能够研发出半导体直写的光刻机。并且已经能够实现最高200纳米的量产技术。