中国光刻机的新突破(2016年茅台酒53度价格多少一瓶)
中国光刻机的新突破(2016年茅台酒53度价格多少一瓶)
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图为光量子芯片研究图
在遭受了美国制裁后，中国目前已经意识到了半导体工业受制于人的巨大危险，开始奋起直追大力投资开发本国半导体技术，而为了能早日避开美国的封锁，中国也投入巨资开始研发新一代半导体技术，比如光子芯片和量子芯片等，最近一个好消息传来，中国中科大又立功了，他们在光量子芯片研发领域内获得了重大突破，成功开发出了国产的可编程光量子芯片，据称这种芯片虽然现在相比普通芯片还体现不出优势，但只要技术成熟，它就能发挥出比普通芯片强大数百倍的性能优势，并且这款光量子芯片还不需要使用美国的光刻机制造，可以说中科大这次绕开光刻机攻克了大难题，给中国半导体工业带来了突破美国封锁的希望。
图为光量子芯片
光量子芯片被全球专家认为是下一代半导体的发展方向，众所周知传统的芯片基于半导体材料硅，这种材料与其他材料相互作用时可以呈现各种特殊的电性能，因此可以被用于制造芯片，而光量子芯片则是一种全新的芯片，它在运行时可以用自带的激光器产生光子，并利用光子代替电子进行各种逻辑计算实现和半导体一样的能力，因为光子的运动速度远比电子快，并且耗能极低，光量子芯片的性能比普通芯片高出100倍甚至好几百倍，功耗却只相当于普通芯片的几分之一，一旦投入使用就有望彻底颠覆整个半导体行业。
图为光量子芯片
据称这次中国科学家实现的就是光量子芯片的一大突破，中国科学家综合利用各种新技术开发出了可以编程的光量子芯片，目前其他国家研发的光量子芯片为了降低技术风险都选择了固定逻辑，虽然在处理特定任务时性能远比普通芯片强悍，但处理其他任务时性能却就存在瓶颈，而中国开发的可编程光量子芯片可以通过编程完成多种任务，通用性更加强大，性能也丝毫不落后。
更重要的是中国这次研发的光量子芯片不需要采用美国控制的光刻机技术就能制造，这意味着中国有望打破美国的光刻机封锁，众所周知普通芯片必须使用光刻机才能制造，虽然现在中国有能力研发光刻机，但却做不到西方产品那样的高性能，如果中国能成功将光量子芯片普及使用，就意味着中国不需要使用美国封锁的光刻机技术，也能制造高性能芯片，彻底打破西方国家在光刻机技术领域内的垄断。
图为芯片制造
目前光量子芯片还存在很多问题，暂时无法走出实验室投入市场，但中国这次取得的突破意味着中国在这方面已经成为了世界*，只要中国继续努力投入研发技术，最终就可以把光量子芯片投入使用，而依靠中国强大的产业链，只要光量子芯片被投入使用，中国就可以轻松对美国形成巨大优势，彻底颠覆被美国掌控的半导体产业。
美国面对此景显然不会坐以待毙，目前美国也在开发自己的光量子芯片技术，并且也取得了不少成就，对此中国也一定不能掉以轻心，要继续开发更加强大的技术，争取占据未来半导体产业的主动权。
香港万得通讯社报道，近日有行业媒体报道，53°飞天茅台的终端零售价已经接近3000元！
中秋国庆双节是白酒市场的传统销售旺季，白酒价格必然还会有一波上涨，今年茅台终端价格突破3000元已经基本无悬念。
控价仍在进行，但终端价仍在上行
出厂价969元的53°飞天茅台官方指导价是1499元，理论上在贵州茅台的官方旗舰店还可以买到，当然运气要足够好，基本每次放货都是秒光。贵州茅台选择电商平台来投放产品，是因为此前一轮又一轮的处罚“违规经销商”，希望平抑市场价格，但效果并不尽如人意，市场上要平价买到茅台几乎难于上青天。
2016年年初以来，茅台酒厂和经销商之间的关系俨然像是一场“猫和老鼠的游戏”。疯涨的茅台价格催生了庞大的利润空间，而其越等越涨的行情也使得惜售、捂售等现象层出不穷，两方面互为因果、层层发酵，市场脆弱而敏感。
在官方的定价体系之外，是贵州茅台的另一条定价体系：目前一批价2200-2300元/瓶。终端价2700—2950元之间，部分高端场所超过3000元。
针对飞天茅台市场价格“失控”，贵州茅台官方仍然在努力，近期茅台直营招标落地，华润、物美等6家企业中标，53度500毫升的飞天茅台酒在物美超市*正价销售，为回馈会员售价定为官方指导价1499元。但舆论普遍怀疑，能买到这种售价茅台酒的可能性。
囤酒
行业人士指出，贵州茅台用于控价而释放的茅台酒，大部分都是回流到经销商或囤积在炒酒客手中。
由于酱香酒酿造工艺复杂，存放要求严格，茅台酒的产量一直受限。2017年，茅台集团包含系列酒在内整体产量只有6.38万吨。而主打浓香型白酒的五粮液集团一年能生产18万吨，几乎是茅台的3倍。2020年茅台预计市场投放量仅为3.2万吨，2017-2020年三年间复合增速仅为1.95％，相较于高端人群复合增速13.5％有显著差距，囤酒有市场逻辑。
对于茅台的价格，有业内人士认为，茅台酒价格被哄抬，存在一定的泡沫。在看涨趋势下，部分茅台酒又被经销商囤起来待价而沽。
白酒营销专家表示，厂家增加的投放量相对于需求而言仍是杯水车薪，而且市场囤积态势也没有改变。在他看来，现在的茅台酒虽以大众、商务消费为主，但仍是“面子消费”的代表，甚至已成为一种社会符号，人为炒作更强化了“物以稀为贵”的消费心理。
京上兵伐谋品牌机构首席顾问刘立清直言，茅台作为中国超高端的快消轻奢品，根据中国的经济水平指数、白酒消费水平需求指数，1499元是实际的市场需求端的合理价格。加上投资需求指数，大慨承受价格也就是1900元至2000元。渠道巨大的暴利空间造就了终端价格的失控。从目前的情况看，茅台酒的出厂价为969元，当市场价格达到出厂价的两倍时，也就是1938元，就会进入危险区；而当价格达到出厂价的2.5倍，也就是2422元时，就容易引起价格崩盘。而一旦茅台酒的价格出现大的波动，恐怕会对整个白酒板块产生巨大影响。
本文源自Wind
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芯片有多重要，苹果近日又给上了一课。搭载苹果*A15系列芯片的iPhone 13，自上市后就非常热销，让苹果时隔6年再度成为国内手机市场的*。
近日，联发科和高通也先后发布了新一代芯片，而我们厂商却只能是抢*。
联发科发布的天玑9000芯片采用的是台积电4nm工艺，高通发布的骁龙8系列芯片采用的是三星4nm工艺。两家芯片都是高端系列，也只有台积电和三星能造。
因为要生产7nm以下的高端芯片，就必须要用到ASML*的EUV光刻机。
但EUV光刻机对我们大陆企业却限制出货，中芯国际曾在2018年时就向ASML订购了一台，价格为1.5亿美元，原计划于2019年交货，但后来因美方阻挠未到货。
这也是我们至今还没有突破高端芯片制造的根本原因之一。如今情况依然没有改变，前段时间ASML再次表态，除了EUV光刻机，其它产品都可以正常出货。
这意思是DUV光刻机出货没有问题，这其实也可以，目前我们正需要。但实际上并不顺利，之前中芯国际跟ASML续签了12亿美元的协议，据说还没有如期交货。
并且，EUV光刻机也再扩大限制，现在连外企在大陆的工厂也不可获得。
也就是说，关于光刻机的问题，我们只有突破它，尽快做出国产光刻机。好在是我们不是从头开始，上海微电子就能生产低端光刻机，有了这个基础自然更好前进。
现在，ASML还在国内建立了研发中心，并且申请了3000多项专利。这其实这些对我们发展并不利，因为这些都是我们前进道路上，需要面对并不得不克服和难题。
尤其是光刻机的核心光源，不少专利就掌握在他们手中，我们必须想法突破。不过，我们相关机构也在努力，关于光刻机光源，近期又有三个关键技术实现突破。
第一，中科院发布极紫外光源专利。去年芯片禁令实施后，中科院院长白春礼就表示，中科院要聚焦关键的核心技术，比如光刻机等，要集中精锐力量进行技术攻关。
后来，中科院陆续有多项技术突破。近日又公布了“一种高功率波长可调的极紫外光源的产生装置及方法”专利。据介绍，这个专利将会被用于半导体光刻技术。
也就是EUV光刻机中的极紫外光源，运用这个专利技术就可以实现波长可调。
第二，四川大学发布光源系统专利。近日，四川大学原子核科技技术研究院申请了“一种强脉冲极紫外光源系统”的发明专利，这个可是制造光刻机的关键。
四川大学这个专利很了不起，正好解决了光刻机中需要的产生稳定高效的13.5nm光源的关键技术问题，这也是ASML当前DUV和EUV光刻机中在使用的光源。
由此看来，不仅是研发机构在攻坚，我们的学术机构也在努力进行相关突破。
第三，长春光机所双波长激光专利。前段时间，长春光机所才突破了突破了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术，还掌握了EUV多层膜制备的相关技术。
近日，又公布了一项名为“双波长激光共轴输出系统与方法”的专利。这一专利解决了激光器双波长无法同时输出的难题，将会提升EUV光刻光源中双波长效率。
这些关键技术的突破，都是在为实现国产EUV光刻机做铺垫、打基础。
不要小看这些关键技术的突破，因为光刻机涉及的核心技术较多，我们需要逐个进行突破。在技术实现突破后，还需要应用到实际，还需要突破相关工艺和制备技术。
因此实现国产EUV光刻机还需要一些时间，但其实绝大部分关键技术已经实现突破，差就差在我们的制造水平上，尤其是精密制造还需要些时间，但一定会突破！
相信，国产EUV光刻机一定会到来，因为这点连荷兰ASML都在担心 ！
科技日报记者 高博
11月29日，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。
中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备(供图：中科院科技摄影联盟)
光刻机相当于一台投影仪，将精细的线条图案投射于感光平板，光就是一把雕刻刀。但线条精细程度有极限——不能低于光波长的一半。“光太胖，门缝太窄，光就过不去了。”参与研究的科学家杨勇告诉科技日报记者。
使用深紫外光源的光刻机是主流，其成像分辨力极限为34纳米，分辨率进一步提高要用多重曝光等技术，很昂贵。
2003年光电所开始研究一种新办法：金属和非金属薄膜贴合，交界面会有无序的电子；光线照射金属膜，使这些电子有序振动，产生波长短得多的电磁波，可用于光刻。
如此一来，“宽刀”就变成了“窄刀”。光电所研制的光刻机，在*纳米波长光源下，单次曝光*线宽分辨力达到22纳米，相当于1/17波长。
光刻机为人所熟悉，因为它是集成电路制造业的核心角色。目前荷兰ASML公司垄断的*集成电路光刻机，加工极限为7纳米。光电所的光刻机分辨率为22纳米，但定位有所不同。
光电所的光刻机擅长加工一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片和超表面成像器件，这对中国的遥感成像，生化痕量测量，特种表面材料等领域有重要意义。
项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况（供图：中科院科技摄影联盟）
“ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的*纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很多用户大喜过望。”
光电所走高分辨、大面积的技术路线，掌握了超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心专利，技术完全自主可控，在超分辨成像光刻领域国际领先。
