光刻机品牌主要有:ASML,尼康,佳能,欧泰克,上海微电子装备,SUSS,ABM, Inc.
光刻机国产排名第一的是上海微电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司,分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说,国内仅有一家能够制造光刻机的公司,既上海微电子,所以上海微电子排名第一。
上海微电子公司简介:
上海微电子是半导体行业的上市公司,公司坐落于张江高科技园区。
公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发,生产销售与服务,IC制造与先进封装,MEMS ,TSV/3D,TFT -OLED等制造领域。
公司致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候,全方位,全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
第一,目前全球最先进的光刻机,已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。
而ASML也不是自己一家就能够完成,而是国际合作才能实现的。其中,制造光源的设备来自美国公司;镜片,则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。
第二,中国进口最先进的光刻机,是7nm。
2018年,中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机,当时预交了1.2亿美元的定金。请注意,当时这台机器还没有交付,而是下订单。
但国内市场上,其实已经有7nm光刻机。在2018年12月,SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。
第三,目前国产最先进的光刻机,应该是22nm。
根据媒体报道,在2018年11月29日,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米。
请注意该报道的标题:“重大突破,国产22纳米光刻机通过验收。”
也就是22nm的光刻机,已经是重大突破。
22nm的光刻机,关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备,打破了传统路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主知识产权。”
有关报道中的“全新的技术”,也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下,实现的这一次技术突破
中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。
华为麒麟受制于人,中芯国际不堪大用,澎湃芯片久不见进展,虎愤芯片勉强能用。
实用更是有很远的路要走。
大家放平心态。
中国芯片企业前十强是紫光集团、华为海思、长电科技、中芯国际、太极实业、中环股份、振华科技、纳斯达、中兴微电和华天科技(排名数据南方财富网)。
芯片是其中一款电子元器件,内含集成电路的硅片,体积很小,广泛应用于计算机和电子设备。众所周知,芯片制造业之所以难是因为芯片制造关系着众多的核心部件,最为关键的就是大名鼎鼎的光刻机。
紫光集团是清华大学控股的子公司,主要聚焦于IT服务领域,主要打造从“云-网-端”的产业链,是目前我国最大的综合性集成电路企业,依托着清华大学雄厚的科研力量,发展潜力巨大,IT服务领域在世界排行第二,也是中国十大芯片企业的第一名,能够为大型客户的信息化需求提供非常完整的IT服务。
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