28纳米光刻机可以生产7纳米芯片吗（国产28nm光刻机可以生产多少纳米的芯片）

90nm光刻机能做啥样的手机？

您提起的上海那家公司是上海微电子装备有限公司，截止现在（2020/06/13）这家公司最先进的光刻机确实是90纳米的水平。但是不管是苹果和安卓，都没有经过90纳米的过程，第一代和第二代iPhone的CPU是ARM11，使用的是130纳米的工艺，第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺。到了iPhone4时已经用上45纳米工艺的自研A4处理器。

高通进入手机芯片制造稍微晚一些，是从65纳米开始的。从第二代S2系列以后才用上45纳米工艺。第一代小米手机M1用的是高通骁龙第三代S3系列的MSM8260处理器。

芯片制造主要看光刻机精度和工艺。按照现在的工艺，用90纳米光刻机经过两次曝光，可以获得45纳米的芯片，三次曝光可以最高达到22纳米的水平，三次曝光良品率过低，一般都控制在28纳米或者32纳米。也就是相当于苹果iPhone5/5S的A6/A7处理器水平，或者华为畅享6/7系列、小米红米4系列。

综上所述，利用现代工艺，在使用90纳米光刻机的情况下，我们可以做出90纳米、45纳米、28纳米的手机芯片。这几种芯片完全涵盖智能手机的范围，不会回到大哥大时代！

另外，上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破，将于明年（2021年）正式交付使用！28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米、14纳米、10纳米芯片，极限状态下，不考虑成本和良品率的情况下，也可以生产7纳米芯片。

90 纳米制程工艺的芯片到底有多大，能做什么样的手机？

想想，台积电在大概在2004年，2005年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来，其实上述这个标题表述不准确，不是90纳米的光刻机，应该说90纳米制程工艺，纳米就是比头发丝还小的概念，90纳米并不是说的芯片整体外观大小，而说的是在芯片上光刻布置的元器件的间距。在芯片上光刻元器件，电路就跟拿着图纸在地基上建设许多房子与基础设施一样，建成后形成一个强大的整体处理功能区，这就是芯片。

其实90纳米制程工艺的芯片整体外观大小与现在7纳米，14纳米制程工艺芯片整体外观差不多一样的，只是芯片上面布置的元器件多少的问题，比如90纳米制程工艺芯片上可以光刻上10亿个元器件，那么7纳米制程工艺的芯片就可能布置上50亿个元器件，很简单的问题，那么肯定的是7纳米制程工艺的芯片功能要强大的多，因为7纳米制程工艺的芯片上元器件要多得多，设计更完善，更合理，功能越强大。

那么有90纳米制程工艺技术的光核机能做啥样的手机？不要小看90纳米制程工艺的芯片在大概2004年时候才成熟，那时候用90纳米制程工艺做的芯片在很多大牌手机上用过，80后的大哥肯定用过这样的手机，比如德州仪器的90纳米制程工艺的 OMAP 1710 CPU，那时候这个处理器就搭载在诺基亚一系列型号手机上，像N90，N80，E70，E60，主要诺基亚的N系列与E系列产品上，用过诺基亚手机都知道手机本身整体也不大，因此90纳米制程工艺与7纳米制程工艺做出来的芯片并不是说外观上有大小的关系，主要是功能上大小的关系。

估计不会只做2G手机和大哥大！我虽外行不懂技术，可以想象一，1纳米是比一根头发小20000倍90纳米有多大？可能功能上不如7/9纳米，现在的手机某些功能对多数人没多大用或者根本用不上。因为竞争状态下厂家以功能争销量！所以说断供芯片不是手机一下回到2G或大哥大年代！压力变动力相信中国人定能解决这个难题！唯有如此！屈服只会换来更大的耻辱！

苹果的第一款手机cpu APL0098，于2007由三星电子90nm工艺制作的，它用于iphone 3G和第一代iphone touch上。

也就是说90nm工艺造出来的芯片只能用于几乎算第一代的智能手机上，现在即使程序支持这个cpu，但是跑啥程序都会卡的没法用。

别的不说，做出来的手机同样性能的情况下个头肯定不小。因为在相同性能的情况下芯片的面积需要大很多倍。再就是架构之类的也有很大的关系。纯小白，只能说这些了。

遇到困难迎难而上的是勇士，跪下求饶的是软蛋，自己跪下还对敢于面对困难的勇士冷嘲热讽嫌人不跪好的是贱人。90nm的工艺如果是我们能够使用的最好技术的话，在有限资源的基础上克服困难也会有一个能够接受的结果。至于目前貌似拦路虎的芯片问题，以中国举国之力，必将成为我们这个民族前进道路上的一个路标。

要看是90纳米制程还是90纳米的光刻机。90纳米制程和现在主流7纳米相差太大不适合做手机芯片，因为手机芯片追求体积小巧和低功耗。如果是90纳米光刻机并不是做出来的芯片就是90纳米，可以曝光3次达到14纳米级别。但是7纳米以下基本就是euv能做，asml最先进的机器是13.5纳米，并不是波长5纳米7纳米

当年塞班软件挺好的，几百K大小。软件优化夏不行么？非的堆硬件？

90纳米的光 科技 根本不可能做手机，现在正常的手机用20纳米以上的工艺的都很难找到了，90纳米至少是十几年前就已经被手机和电脑处理器淘汰的产品了。

几周前随上科院去几家IC相关企业调研，得到的消息是，国内企业要抱团，1-2年，从头到尾，全国产国有自主，做出90nm，做出来就是伟大胜利的第一步。这个不是用不用在手机上的问题，就像当年的盾构机，是0到1的突破。制成到5nm要再进一步，2nm已经登天，花再大代价到更小制成，意义真不大，留给我们一些时间去追赶。当然，光芯片是另外的出路，也在研究积累。说实话，当我听到业界大佬说90nm，我开始是心里哇凉哇凉的，但转念一想，也能释然，不积跬步无以至千里。这次调研给我信心是，相关从业企业里年轻人挑起大梁，一点一滴的做着该做的事。

中科院光刻技术又获新突破，国产芯片距离先进水平还差多远？

自媒体经常以“光刻机或者芯片各种新突破”为标题夺人眼球，结果呢？不了了了之罢了！作为世界最尖端的技术之一，哪有那么容易突破？虽然我们期待我们的科学家、企业、国家能够早日取得突破，但是我们也要正视艰难，我们只能一步一步向前迈进，脚踏实地研究创造！

作为平凡的我们，想要为国家做点贡献的话，请支持国货！请给 科技 人员、企业和国家多一点时间和经济力量！

国内好像做到7毫米5毫米，向3毫米进入？这已经很快了。大有后来者居上的趋势。也有绕过心片的路径。

我们都希望在核心技术上面自主掌握，不被掐脖子限制，但是半导体领域上面，最关键的一些环节，我们仍然没有实现自主，还需要用过进口来满足，其中光刻机，光刻胶，硅片平磨设备等等这些都还要靠买，自己的确还没有这方面实现自主，有国内的权威说过，我们想要达到世界现在的水平，按照现在的投入还需要15年左右的时间。

怎么说呢我们现在真正国产化的只有90纳米技术的光刻机，上海微电正在研制的28纳米光刻机，一直都有报道说会在年底推出来，但是现实却是已经这样说了好几个年头了，而且内部的人接受采访说，短时间内很难实现市场运用，现在还在进行各项功能的调试，这个过程需要很长的时间。

也就是说现在还在实验室里面，距离产能化运用还有很长时间，而且据说生产的速度也是不够快每小时只有75片，这样的速度远达不到厂商的要求，更重要的是一个大家一直兴奋的消息，那就是研究获得了光刻机的修正技术，这个是最近发布出来的让很多人振奋的消息。

这的确是一大发现突破，只是这个要运用到现实生产当中，短时间根本不可能，因为这个技术现在只是理论论证阶段，也就是说还只是在纸面上，还需要发表论文，而远没有真正的进行实验，就更谈不上说短时间运用出来了，所以这个技术在长远来看对我们是一大突破，但是在短时间来看对我们没有任何帮助。

也就是说我们在未来的十年之内，仍然无法真正的摆脱现在的情况，现在我们运用的90纳米以内的生产工艺都是国外的，我们自己的只是达到90纳米的级别，所以在理论技术领域论证得到突破是好事，但是现实中还需要认清现实，现在的我们在这上面仍然差距巨大。

以现在的情况来看，我们距离世界先进技术，至少在15年以上，这个数字属于最保守的估计，毕竟我们在进步别人也并没有停下脚步，所以我们现在需要的付出会更多，现阶段不得不接受的现实就是，在半导体领域上面，我们跟外国的差距仍然非常的巨大，这不是说理论上面的突破就能短时间改变的。

如果说我们国产28纳米技术的光刻机，能在五年之内投入市场，那就是值得让我们欣喜若狂了，虽然说28纳米技术，但是可以生产出来七纳米工艺的芯片，而且良品率还是比较高的，这个投入市场才是最真实的稍微改变现实，而光刻修正技术，现在只是理论阶段，离现实太远，理论上的突破可喜可贺，但是短时间没办法帮助我们改变眼前的现实。

近了，中国科学家只要团结一致，国产蕊片不出一年，最多二年面世。

举国之力，芯片指日可待

这点可以肯定，中国 科技 只要突破了，玩的都是先进，超越！只要是公开了，就离量产不远了。

科学技术是不能搞大跃进的！它是若干科学家技术人员长年累月辛勤付出，逐渐集累的成果！来不得半点虚假！要承认我们起步晚，和发达国家比差距还不小！

现在我们党和国家十分重视 科技 兴国，顷全国 科技 人员之力，赶追或超越世界先进水平。我们现在可以量产28，那么，不需很多年，中国会把芯片变成白菜价！

中国人会创造奇迹的？弯道超车，后来居上，后发先至。到时芯片白菜价。让制裁我们的后悔去，我相信我们的科学家，他们不会让国人失望。

其实，在芯片领域中国并非一事无成，芯片千万种，军用芯片，工业芯片，民用芯片，专用芯片，其中民用芯片又分千千万万，民用芯片以手机芯片最难，而最难的是设备，

残酷的现实再一次告诉我们：生于忧患，死于安乐！在美国这个强大的对手面前，中国要始终保持强烈的忧患意识，坚定不移地发展自已，久久为功，方能善作善成，丝毫都不能懈怠。芯片领域如此，其他领域亦如此！

28纳米国产化的意义 国产芯片产业翻身的关键

最近一段时间以来，关于国产28纳米光刻机的传闻越来越多，以至于在A股市场上很多的芯片股都受到了影响，那么28纳米国产化的意义到底有多大呢？这篇文章就跟大家聊聊。

首先给大家说一点，其实28纳米是很先进的芯片制程工艺了，并不是说别人不赖要的技术。可能大家觉得手机芯片的制程都到了5纳米了，国产28纳米太落后了。完全不是这么一回事，日常生活中用到芯片的地方很多，大到汽车小到手表都是需要芯片的，比如生产一辆汽车需要的芯片可能就达到数十颗。

这些设备需要的芯片并没有手机那么高的性能要求，所以制程工艺是不需要很先进的，因此很多的芯片产品的制程都是微米级的！据相关媒体的数据，在大家使用的芯片中，百分之七十左右制程都在28纳米以下，也就是说如果国内能做出去美化的28纳米生产线，我们就可以去抢芯片领域这百分之70的市场！

其次，28纳米是一个非常重要的节点，就像是迈过了一个非常重要的门槛。往后的14纳米，以及7纳米都是由28纳米演进而来，也就是说只要能搞定28纳米，就等于搞定了7纳米工艺，只是中间还需要一些时间。这也是市场为何如此关注28纳米工艺的一个原因，都在等国产光刻机迈过这个历史性的门槛！

最后一个意义就是，因为28纳米这个制程占了芯片领域接近百分之七十的市场，所以只要能达到28纳米，那么国内的半导体产业就可能开始盈利，而国外的相关产业就会减少盈利！也就是说国产光刻机能达到28纳米的话，就可以有造血能力开始赚钱了，可以把赚到的钱投入到研发中，而相应的国外相关的企业研发的费用就会减少，从而进一步加快国产芯片产业追赶的脚步！

综合以上信息，各路消息都在传闻今年下半年去美化28纳米生产线的横空出世，也希望这篇文章能让大家更了解28纳米对国内芯片产业的意义，有兴趣的投资者可以研究一下相关的公司！

如果用日本尼康光刻机制造芯片最小能到几纳米?

15纳米。

在上世纪九十年代，尼康和佳能才是全球光刻机霸主，当时根本就没有ASML什么事，只是后来包括尼康和佳能都陷入了157纳米光刻机技术困境当中。

而他们又不转变思路，结果荷兰ASML通过采取台积电建议的浸入式技术，实现了技术上的突破，然后开始把尼康和佳能远远甩在身后，从2011年之后，ASML就几乎垄断了全球所有的高端光刻机市场。

我国光刻机研发

我国也有不少企业和科研院所在研发光刻机，而且我国在2007年就实现了90纳米光刻机的技术突破，但直到现在我国真正量产的光刻机也一直停留在90nm，虽然前段时间上海微电子宣布已经成功研发出28纳米光刻机，但要真正量产也需要等到2021年底或者2022年。

但是从28纳米到7纳米还有很长的路要走，在这过程当中，首先要突破14nm才可以，因此我国什么时候能够研发出7纳米光刻机还是一个未知数。