制造芯片的过程就是不断把一个又一个的小的芯片单位到一块这个小的芯片单位,越是小芯片的结构越是紧凑,他的这个精度就越高,芯片的性能就越好,一个光刻机的制造那是聚集了全世界5000多家顶尖的科技公司而研究出来的。
光刻机这三个字以前并没有真正进入人们的视野里,但是随着台积电宣布断供华为人们就逐渐的了解到了,这个东西卡住了我们的咽喉,因为我们的手机最核心的东西就是芯片,没有自己的芯片手机就没有性能,就像人的大脑一样,人要是没有了脑子,其他部位再怎么完整又有什么用呢,我们只具备自我研发能力却不具备制造能力卡住的,关键就是我们没有自己足够高精度的光刻机,据说国产的光刻机现在已经到了14纳米左右的进度,但是距离人家5纳米的还差太远了。
我们国家有很多优秀的人才,大国工匠的名字不是凭空来的,显然有我们独特的地方,但是单纯有我们独特的地方也没有用,因为光客机不是一个国家单纯凭自己的力量就可以造出来的,像美国,荷兰这些国家,他们是掌握着最主要的专利技术,但并不是所有的技术都是他们自己的,也有很多其他国家的一个足够优秀的性能好的光刻机,不说卖多少钱的问题,就是这个制造难度的问题,这不是轻易能拿到的,比如说荷兰美国闹得那么严重的疫情,都没有想过用光刻机来换口罩,换医疗物资。
短期之内我们是造不出来的,因为我们自己在光刻机这方面所用的专利技术太丑了,主要的技术在人家手里,你要想用必须得经过人家的允许人家对你进行技术封锁,给多少钱都不卖,你我们之前也想买过外国的光刻机,想着哪怕贵一点,毕竟我们处在技术的劣势地位,我们买回来研究研究兴许自己就有技术突破了,但是人家不卖你给多少钱都不卖,你因为外国就是有这种技术封锁,这不是一年两年的事情了。
2020年3月28日,中国计算机学会做了一个 CCF YOCSEF 技术论坛:量子计算机离我们还有多远?的主题,主题上 张辉(合肥本源量子计算 科技 有限责任公司副总裁,中国科学技术大学博士)做主题演讲时候有提到,3nm是经典计算机的工艺极限,就是因为量子的问题。本源量子是国内中科院旗下的做量子计算机方面的公司。
之前中芯国际副总曾经在喜马拉雅的音频节目中回答过这一提问,他说1nm的光刻机工艺并不是技术上难以逾越的门槛。只是目前采用投影或浸入式的技术还难以做到1nm工艺,但其实世界上已有直写技术可以做到1nm了,只是采用直写技术的硅片没有商用价值,只能制作掩膜版用,所以说3nm更不是极限了,那么光刻机的极限在哪里呢?接着往下看。
光刻机的极限
其实光刻机极限已经快到了,因为硅这种材料的极限在1纳米左右,如果想要超越1nm,那就得换材料了,但是目前地球上已经发现的材料中,没有比硅更适合的了,所以末来十年都很难超越1nm工艺,除非科学家能发现一种新材料,当然,这种可能很小。
超越1nm很难,那么达到1nm呢?目前要想达到1nm,目前当芯片内部线宽窄到3nm,电路中用于导电的铜线之间的间距太小,就会发生短路,所以说达到1nm都很难,只能寄希望于量子技术的突破了。
荷兰ASML(阿斯麦)公司的现状
在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
根据ASML之前的报告,预计2020年将会交付35台EUV光刻机,到2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时,支持7nm、5nm。
荷兰ASML(阿斯麦)公司的极限
与之前的光刻机相比,ASML新一代光刻机的分辨率将会提升70%左右,可以进一步提升光刻机的精度,毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的。不过新一代EUV光刻机还有点早,至少到2022年才能出货,大规模出货要到2024年甚至2025年,届时台积电、三星等公司就可以考虑3nm以下的制程工艺了,所以说到2022年光刻机的精度有望达到3nm,要想达到1nm,估计要到2030年了。
总结
总结来说1nm应该是光刻机精度的极限,预计要10年左右才能达到这一目标,我是小熵,你有什么看法?快到下方评论区留言吧!欢迎关注,持续为您答疑解惑。
在紫外光谱。不同的材料有区别。
光刻机比原子弹还难造的原因是光刻机本身的技术和零件是难以制造的,西方国家对我国实行技术封锁,连零件都不卖给我们。
从光刻机的零件来看,最难得是镜头,要求精度相当高。我国目前只能做出纳米级别14的镜头。还有一个原因是零件需要工程师们手工打磨。打磨这些零件需要耗费大量的时间。稍不留神,就会损坏。所以我国之前就直接从国外购买,这样价格便宜还能节约时间。光刻机的最著名的厂家的是荷兰ASML,其他国家认为这行投入大,产值低,太不划算。
在当今社会,很多智能设备里都含有芯片。芯片技术的高低是衡量一个国家半导体水平高低的一个标准。芯片是由光刻机来制造的。我国之所以没有大龄的芯片是因为缺乏先进的光刻机来进行生产。光刻机跟照相机冲洗照片的原理相似。就是利用曝光的手段在硅片上画画。目前只有荷兰ASML制造出高端的光刻机,而且西方封锁了光刻机的技术,甚至连光科机的零件不买给我们。我们只能摸着石头过河,自己摸索,目前也才达到纳米级别14DE水平。虽然与荷兰相比,我们还有很大的差距,但对那些通常用的设备已经够用了。
记得去年,国外的苹果手机为了赢得华为手机,打价格战。华为手机连芯片都造不出来,为了生存,不得不把华为荣耀卖掉,断臂求生。在国内外手机市场上,华为手机的市场被蚕食。庆幸的是,VIVO跟OPPO 还是占据了前三名。现在随着电动汽车的增多,芯片问题的解决也有助于电动汽车产业的发展。现在我国的电动汽车已经领先美国了,相信我国科研实力的增强,我们一定能欧研制出更精密的芯片,打破国外的阴谋。
作为国家的重要武器,原子弹和芯片都属于尖端的高科技。有专家提出造芯比原子弹还难,那么制造芯片的难点在哪呢?为此,许多网友表示了自己的看法。首先,制造芯片成本是非常高的,其次是制作芯片的过程非常漫长,而且技术也在不断的更新进步,所以,一直以来芯片制造是世界上难以掌握的核心技术之一。还有就是芯片的市场需求量比较大。
一、成本非常高
在人们日常生活中中,几乎绝大部分事情的处理几乎可以用钱来解决。但制造芯片不行,制造芯片不仅仅需要高昂的成本,更需要相关专业的人才。比如,数学家,化学家,物理学家,这些专业知识人才才可以。而制造芯片,前期需要投入大量的资金,并且需要持续性的投入。可以说是一个非常烧钱的行业。而且技术更新非常的快。关于芯片的制造,我们看似一个小小的芯片,实际上从设计,到制造却需要成千上万的高科技人才共同努力才能完成。
二、市场需求量大,制作过程漫长
随着社会不断的进步和高科技的不断更新与发展。高科技产品已经普及到了大家的生活当中,给人们的衣食住行带来了很大的便利。而芯片,也逐渐蔓延到了这些高科技产品当中。比如,汽车,手机,电脑,甚至是电动车。而这些也都是人们日常生活中所需要的必需品。几乎每个家庭都有汽车,每个人都有手机,而对于这些生活中必不可少的高科技产品,更新换代又太快,人们总是在不断的淘汰和重新购买。从而导致了芯片在市场上短缺的现象,而芯片的制造的过程是非常漫长的,从而影响了芯片制造的困难。大家都知道,芯片制造的原材料是在沙子中提取的。简单点讲,芯片是沙子制造而成的。可是沙子要盖成房子很容易,但要制作成芯片却是难上加难。
综合上述讲到的,大家总结分析出了制造芯片的难点。一是制造芯片的成本非常昂贵,二是很难掌握核心技术。还有就是国家欠缺制造芯片相关知识的人才。芯片在市场上需求量比较大,高科技产品,甚至人们的出行工具中都离不开芯片,而芯片制造的过程又比较漫长复杂,所以这些因素都是制造芯片的难点原因之一。
光刻机是制造集成电路中非常重要的设备,特别是现在市面上大部分的芯片都是属于电子芯片,当电子芯片的工艺小于一定的尺寸的时候,就必须依靠光刻机在制作芯片,也就是说如果没有光刻机就没有办法制造出顶级的芯片,比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可能造出。而芯片在生活中是非常重要的,比如电脑、手机等电子产品都少不了。
光刻机的制造难度
光刻机制造难度之大可以用荷兰ASML公司的一句话来表示,对方表示就算把光刻机的图纸拿出来,我们也制造不出光刻机。且不说对方是不是小看了中国制造,从侧面也反映出了光刻机的制作难度之大。因为现在还没有一个国家可以独立的制造出顶级的光刻机,就算是现在行业领先的ASML公司制造出来的光刻机,也是集合了十几个国家的顶尖技术。
一台小小的光刻机上面就有十几万的小零件,而且为了让光刻机可以领先,所有的零部件都是采用了全世界最领先的技术,所以说光刻机从插头、配件等都是选用了其他国家的顶尖技术,这相当于全世界的技术融合在一起才可以制造出顶级的光刻机,而且ASML公司背后有台积电、三星以及英特尔这样顶尖的企业投资支持,也是花了几十年的时间才有今天的成绩。
ASML光刻机
荷兰的ASML光刻机基本上都是供不应求,中国也一直想要购买,但是现在还没有收到货。ASML的光刻机基本上都是内部消化了,毕竟台积电、三星以及英特尔本来就是芯片大户,台积电能够在芯片代工领域有今天的成绩,跟手上有这么多的光刻机也有很大的关系。
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