光刻胶最新发展趋势分析（光刻胶行业分析）

南大光电新走势分析今日？南大光电股市销率走势图？南大光电发行首日价格？

半导体行业不仅得到国家的大力扶持，也受到投资者的高度重视，其中南大光电股票是否值得我们投资呢，下面我来详细分析一下。准备讲述南大光电前，咱们先一块来了解一下这份半导体行业龙头股名单，点击就可以领取：宝藏资料！半导体行业龙头股一栏表

一、从公司角度来看

公司介绍：江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商，其主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、OLED材料等。南大光电依托企业自主创新平台，全面推进研发创新能力建设，自主研发的多个产品获得"高新技术产品认定证书"、"国家火炬计划项目证书"等荣誉。

大致讲述完南大光电后，下面我们从南大光电做的好的地方开始分析，看看它还值不值得投资。

亮点一：自主研发ArF光刻胶产品，加速公司光刻胶业务发展

公司成功自主研发出国内首支通过客户认证的ArF光刻胶产品，完成了国内ArF光刻胶从零到一的重大突破，目前公司已完成两条光刻胶生产线的建设，每年都会有25吨光刻胶被生产出来。如今，ArF光刻胶产品已接到小批量订单，光刻胶现在正逐步向国产化趋势发展，光刻胶业务将带动公司业绩迈入更高的境界。

亮点二：多维度布局半导体材料，技术优势明显

电子特气方面，新一代安全源、混气产品相继产业化，最新升级的超高纯砷烷产品品质在测试中已超过目前国际先进同行的技术水平，超高纯磷烷产品也跨入国际一流制程的芯片企业，公司氢类电子特气已跻身世界前端。MO源方面，公司通过提升MO源超纯化和超纯分析技术实现了在第三代半导体领域的新应用市场增长，高纯ALD/CVD前驱体产品也实现批量供货国内外先进半导体企业。因为篇幅有限，这篇研究报告把关于南大光电更深入的分析和潜在风险都详细写了，点击该链接便可了解：【深度研报】南大光电点评，建议收藏！

二、从行业角度看

十四五规划提到要对人工智能、量子信息、集成电路等项目进行扶持，这个肯定是有好处的。近几年，美国一直联手其他国家对中国进行高科技封锁，严格限制对中国的设备、技术出口，这样反而偷鸡不成蚀把米，把我们中国市场半导体技术国产化的需求大幅度提高了不少，也侧面的让国内半导体全产业链的发展得到了推动。

光刻胶方面：在供给端中，由于被晶圆厂扩产、疫情等影响到，光刻胶供应出现十分紧张的局面。在供应链中，国内多家国内晶圆厂也在积极增加每日产量，国内光刻胶需求量远大于国产产量且差额连年增长，特别是在ArF、高端KrF等半导体光刻胶层面，光刻胶作为“卡脖子”产品国产替代需求迫切。

总体来说，我国对身为高科技产业的半导体行业非常看重，南大光电作为行业的领军人物，发展的速度将会突飞猛进。可是文章存在延时性，如果想更准确地知道南大光电未来行情，直接点击链接，有专业的投顾帮你诊股，看下南大光电估值是高估还是低估：【免费】测一测南大光电现在是高估还是低估？

应答时间：2021-10-27，最新业务变化以文中链接内展示的数据为准，请点击查看

南大光电股未来走势？对南大光电的技术分析？2021南大光电股票价值？

半导体行业一直是投资者很看重的行业，国家也会大力扶持，那南大光电这只股票如何呢，有没有投资价值呢，我立马来为你们揭晓答案。正式开始谈南大光电以前，大伙先来瞧瞧这份半导体行业龙头股名单，点开就能查看：宝藏资料！半导体行业龙头股一栏表

一、从公司角度来看

公司介绍：江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商，其主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、OLED材料等。南大光电依托企业自主创新平台，全面推进研发创新能力建设，自主研发的多个产品获得"高新技术产品认定证书"、"国家火炬计划项目证书"等荣誉。

大概研究完南大光电后，下面将来分析一下南大光电的亮点，看看它是否值得购买。

亮点一：自主研发ArF光刻胶产品，加速公司光刻胶业务发展

公司成功自主研发出国内首支通过客户认证的ArF光刻胶产品，从而实现了国内ArF光刻胶从零到一的重大突破，并且公司目前已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶每年的产量高达25吨。近期，ArF光刻胶产品已获得小批量订单，光刻胶现在正逐步向国产化趋势发展，光刻胶业务即将带动公司业绩，进入一个新的成长空间。

亮点二：多维度布局半导体材料，技术优势明显

电子特气方面，新一代安全源、混气产品相继产业化，最新升级的超高纯砷烷产品品质在测试中已超过目前国际先进同行的技术水平，超高纯磷烷产品也迈进了国际一流制程的芯片企业，公司氢类电子特气已高居世界榜首了。MO源方面，公司通过提升MO源超纯化和超纯分析技术实现了在第三代半导体领域的新应用市场增长，高纯ALD/CVD前驱体产品也实现批量供货国内外先进半导体企业。碍于文章受限，这篇研究报告把关于南大光电更深入的分析和潜在风险都详细写了，点击该链接便可了解：【深度研报】南大光电点评，建议收藏！

二、从行业角度看

十四五规划提到要对人工智能、量子信息、集成电路等项目进行扶持，这是非常好的。最近这几年，美国跟其他国家一直联手对中国进行高科技封锁，不愿意让我们中国的设备和技术走向世界，这波操作反而增加了国内市场对半导体技术国产化的需求，也侧面的让国内半导体全产业链的发展得到进步了。

光刻胶方面：在供给端中，会受到晶圆厂扩产、疫情等的影响，光刻胶的供给局面很紧张。在需求端中，国内多家国内晶圆厂也在积极扩产，国内光刻胶的产量远不够需求而且差距还在连年增长，尤其在ArF、高端KrF等半导体光刻胶方面，光刻胶作为"卡脖子"产品对国产替代的需求越来越迫切。

总体来说，我国对身为高科技产业的半导体行业非常看重，南大光电作为行业的领航者，发展的速度将会突飞猛进。只不过文章存在时限性，倘若想更准确地看到南大光电未来行情，动动小手直接点链接，那里有专业的投顾能帮你诊股，看看南大光电估值有无高估或者低估：【免费】测一测南大光电现在是高估还是低估？

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国产光刻胶成功突破，粉碎日本垄断梦

近日，半导体领域迎来重磅消息，南大光电的ArF光刻胶取得突破，国产光刻胶终于来了！

南大光电光刻胶突破

早在5月30日，南大光电就已经发布公告称，公司自主研发的ArF光刻胶产品通过客户认证，具备55nm工艺要求。

7月2日，有报道称，南大光电的ArF光刻胶产品目前已经拿到了小批量订单。

这都在表明，国产光刻胶终于不再受制于人，而是实现国产化了。

芯片在制造过程中，除了硅这种主要材料之外，一些辅助材料也至关重要，其中有一种名为光刻胶的材料，在芯片制造过程中必不可少，然而，这个材料却长期被日本垄断，中国也在这方面一直被卡脖子。

而最近传出的一个消息，对我国半导体的发展非常不利，日本对中国供应的光刻胶出现了“断供”的现象。美国召开G7峰会后，日本宣布光刻胶断供中国，日本信越化学等光刻胶企业开始限制供应ArF光刻胶产品。

断供光刻胶，对半导体行业的人而言并不陌生，2019年日韩贸易冲突白热化，日本就断供了光刻胶，导致当时全球最大的芯片厂商三星陷入了困境之中。

虽然韩国积极向日本低头求和并开展自救，但芯片生产依然受到巨大影响，间接推动了2020年的芯片短缺。

巧妇难为无米之炊，没有了光刻胶，对于中国的晶圆厂而言是巨大的打击，芯片生产将被迫停止！

好在，光刻胶的国产化进程并不慢，日企断供短短半年时间，南大光电就已经将国产光刻胶投入市场中了。

南大光电，成立于2000年12月，是以南京大学国家863计划研究成果作为技术支持的中国高纯金属有机化合物MO源的产业化基地。

1986年，863计划启动，在高济宇院士的支持和指导下，学者孙祥祯牵头进行MO源的技术攻关。MO源是一种禁运物资，更是生产化合物半导体的源头材料，对我国国防安全、高 科技 民族工业有重要意义。

历经重重困难，孙祥祯带领的课题组终于研制出了纯度大于5.5N的多个品种的MO源，全面向国内近20家研究单位供货，缓解了我国对MO源的急求。

这项工艺不仅促进了国防工业的发展，更为国内化合物半导体材料的发展奠定了原始的基础。

孙祥祯退休后，带领年轻人创立了南大光电，注册资本3770万元，生产拥有自主知识产权的高纯金属有机化合物，是国内唯一实现MO源产业化的企业，公司的技术主要来源便是南京大学863计划中的项目。

公司主要产品有三甲基镓，三甲基铟，三甲基铝，二茂镁等十几种MO源，在产品的合成、纯化、分析、封装、储运及安全操作等方面已达到国际先进水平，产品远销日本、韩国、欧洲市场，并占有大陆70%的市场份额。

作为国内唯一将半导体光学原材料实现量产的企业，南大光电对于光刻胶可以说十分熟悉，也是最有可能突破光刻胶技术的企业。

中国半导体在崛起

光刻胶到底是做什么用的呢？

芯片生产过程中，需要用光学材料将数以万计的电路刻在小小的7nm的芯片上，而这种辅助的光学材料，就是光刻胶。

在光刻胶领域，材料主要分为四种，分别为g线、i线、KrF、ArF光刻胶，半导体工艺越高，光刻机的精度越高，照射的光线频率越高，波长越短。

光刻胶的分辨率会随着光线频率的改变而不断变化，基本的演进路线是：g线（436nm） i线（365nm） KrF（248nm） ArF（193nm） F2（157nm） EUV（

其中，ArF光刻胶的制造难度是最高的，这也是14nm/7nm芯片制造过程中不可或缺的原材料。

芯片的工艺也分等级，平板电脑、 汽车 芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。

这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EVU光刻机来生产，更需要高端的光刻胶作为辅助材料，以及大量的芯片原材料，才能成功生产出华为手机所需要的芯片。

光刻机被美国和荷兰的公司垄断，现在EVU光刻机对中国处于断供状态，中芯国际花了12亿购买的EVU光刻机至今仍未到货；

芯片原材料，虽然国内已有部分原材料实现自主生产，但是硅片、光掩模、电子特气、抛光材料、溅射靶材、光刻胶以及湿电子化学品这其中原材料完全依赖进口。

在全球光刻胶市场，日本东京应化，JSR，住友化学，信越化学等企业，掌握了全球半导体光刻胶市场的90%左右份额，几乎是垄断的状态。

方正证券的报告显示，中国大陆企业在全球光刻胶领域占有率不到13%，在半导体光刻胶领域更是不足5%，完全被日本卡了脖子！

但是，进入2021年以后，中国半导体行业国产化的趋势越来越强！

首先是光刻机领域，上海微电子已经实现28nm光刻机的量产，预计2022年可以交付，这款光刻机的性能与荷兰ASML的DVU光刻机相似，可以生产14nm制程工艺的芯片。

另外，美国虽然断供了最先进的EVU光刻机，但是制程工艺相对较低的DVU光刻机却没有断供，而荷兰ASML也明确表态过，EVU光刻机也可以用于7nm工艺芯片，英特尔的10nm工艺、台积电第一个7nm芯片，都是用DVU光刻机实现。

这意味着，2022年，现有的光刻机技术或许能够提前量产华为所需的7nm芯片，打破美国封锁。

而生产7nm工艺芯片所需要的ArF光刻胶，在7月2日就已经有国外企业向南大光电订购了，这意味着半导体光刻胶原材料也实现了自主化。

另外，南大光电，容大感光、上海新阳等国内企业，也在持续研发高端光刻胶，争取在现有技术上进一步突破，追上日本的光刻胶技术。

剩下的6种完全依赖进口的原材料，国内的企业肯定也已经发现了商机，正在朝着国产化转变；最关键的两项技术突破后，中国实现手机芯片国产化的日子也就不远了。

空谈误国、实干兴邦，中国的半导体行业，正在默默地奋力追赶，一如这次南大光电突然给市场来个惊喜一样，未来还将会看到更多的一鸣惊人的突破。

中国半导体，正在以惊人的速度崛起！

作者 | 金莱