为什么有人说国内芯片产业还有很长的路要走?中国的刻蚀机确实达到了世界先进水平,而光刻机还很早,即使两者都是世界先进水平,也并不意味着中国芯片工业的未来不会很难。
目前,国内的刻蚀机确实处于领先地位,5纳米等离子刻蚀机已经通过台积电的验证,但光刻机更差。前次报告中提到的“中科院SP超分辨率光刻机”最多只能算是一个“样机”,无法与ASML光刻机相比,也无法用于芯片制造,一系列技术问题亟待解决。
退一步说,即使国产光刻机和蚀刻机已经达到世界领先地位,问题是否已经解决?ASML的EUV光刻机已订购交付。我们能在交货后生产7Nm甚至5nm的芯片吗?别把这个问题想得那么简单,因为只有用于芯片的光刻机和蚀刻机。芯片制造的技术、经验、技术和人才是一项系统工程。台积电不是一天建成的。有了光刻机,我们就不能制造顶级芯片。
再退一步讲如果一流光刻机和刻蚀机都国产,台积电也变成了国产企业,国产的芯片业就独步天下了么?当然不是,我们还需要高通、苹果、英伟达、英特尔、赛灵思、德州仪器这样的芯片设计、研发、制造和销售公司来打造整个芯片行业的产业链。芯片行业的产业链非常长,不是靠几台光刻机和刻蚀机就能解决问题了,上、中、下游都有众多厂商在其中竞争搏杀,从这个意义上来讲,国产的芯片行业并非全面落后,但前路的确依旧艰辛,需要我们继续努力!!
; 蚀刻机主要应用于航空、机械、标牌工业中,可对各种金属和金属制品的表面蚀刻图纹、花纹、几何形状,并能精确镂空,也可对不锈钢进行蚀刻和薄板切割,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻指的是通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。蚀刻机是在芯片生产的过程中所必须使用的一种设备,这种设备的作用就好像是雕刻中的刻刀一样,把一块完整的金属板中不需要的部分给去除掉,剩下的就是需要的电路了。
生产芯片主要用到两种机械,就是光刻机和蚀刻机,光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,光刻的过程就是制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶,接下来通过光线透过掩膜照射到硅圆表面,因为光刻胶的覆盖,照射到的部分被腐蚀掉,没有光照的部分被留下来,这部分便是需要的电路结构。然后蚀刻机把画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉,剩下的便是电路结构了。
不需要光刻机,真的能够制造出芯片吗?
芯片制造是我国科学家面临的大问题。有必要突破西方国家的芯片封锁,不仅需要升级闪电机,还需要具有高强度掌握光刻胶的应用。光刻和蚀刻机是芯片制造所需的两个主要设备。现在我国的研究人员通过蚀刻机的技术困难成功地突破,但瞬间机器的困难并没有破碎。很多人都担心,没有照明机器,芯片会不会做到吗?事实上,它不必担心太多了。这不是中国专家打破常规取代了光刻技术并给了!
有人说,中国希望制作芯片,即使有一个轻微的时刻还是不够,也有必要打破西方国家的垄断师的光致抗辩。光刻的第一步是在样品上施加光致抗蚀剂,然后将其覆盖到所需位置。目前,我国的光刻技术和欧洲和美国是差距,所以最好的方法是跳出来,取代了其他技术计划。据浙江新闻报道称,母鸡恏研究小组决定打破常规,用水而不是光致抗蚀剂,将样品放入真空设备中,在样品冷却后,然后注射水蒸气,等待它,研究人员将是他们自己的“冰明胶”。
“icelastic”技术是非常有利的,并且水蒸气可以覆盖任何形状的表面,即使是小样品也可以,并且水蒸气非常光,并且如果施加可以在脆弱的材料上加工。水的性质是相对特别有利的,并且电子束可以分散水,从而可以节省非常麻烦的步骤,并且不需要重新使用传统光刻等化学试剂。清洁模具并形成模具,不仅可以避免洗涤引起的污染,或避免由未清洁引起的质量问题。
该技术已经能够完成数十个纳米的程度,并且随着科学研究水平不断改进,当前光致抗蚀剂的最终雕刻也很可能也很可能。从世界研究的角度来看,对“冰胶”取代光致抗蚀剂并不大量的研究。除了我的国家外,只能使用两个实验室,另一个是丹麦。当我了解到我国获得的这个重要科研结果时,一些网友嘲笑,在这项技术中美国似乎很慢这次我给了西方课程。
1996年,美国牵头以西方国家为主的三十余个国家,在奥地利维也纳签下了一份禁售协议(瓦森纳协议)。该协议的主要内容为:成员国在出口敏感产品和技术前,在自愿前提下向其他成员国报备。该协议的初衷原是为了增加透明度,增强敏感产品或技术的可控性。但是在实践过程中,却明显违背了自愿性的原则,逐渐演变为美国的“一言堂”。这一点,在捷克的无源雷达设备、乌克兰的发动机、荷兰的光刻机等生意上,体现得淋漓尽致。
也正是因为该协议的存在,在“中国制造”走向“中国创造”的路上,很多人都注意到了某些领域的极端落后。这其中的主要代表,非芯片莫属。这块小小的集成电路,在电脑手机这样的数码产品和空调电视这样的智能家具上,扮演着不可或缺的重要角色。据金十数据报道:早在2018年,中国的芯片消费量就已经达到全球的33%,超过了美欧两大洲的消费总和。但是在出口方面却相当薄弱,中国芯片在全球芯片供应市场的占比仅有3%,而美国和韩国的数据分别是50%和27%。
这份落后,引起了大量有识之士的注意,于是乎,转折出现了。2019年9月,紫光集团旗下的长江存储带来一则“有望将中国存储芯片自给率从8%提升至40%”的喜讯,Xtacking架构的64层三维闪存已经开始量产。四个月后,三星(全球第一大存储芯片制造商)和SK海力士(全球第二大存储芯片制造商)传出2019年利润暴跌的消息。前者的年营业利润缩水52.9%,后者的2019第四季度营业利润缩水了95%。面对利润“跳水”,SKT海力士隐晦地归结为一句“供过于求”。但明眼人都知道,这背后是中国芯片崛起。
后不久,中微半导体设备公司也带来了好消息。该公司的CEO尹志尧博士表示“国产5nm蚀刻机已经问世,中微半导体作为全球唯一一家可生产5nm蚀刻机的设备供应商,已与台积电签订了合作合同”。该消息一经曝出,多家媒体给出了“芯片垄断进一步松动”的高度评价,很多网友也在第一时间想起来依赖台积电代工的华为。华为虽有研发7nm甚至5nm5G芯片的实力,但国内并没有有能力量产相应制程工艺芯片的供应商。而特朗普正是盯准了这一点,计划通过修改《外国直接产品规则》,来限制台积电向华为的芯片供货。
蚀刻机听起来和“光刻机”这么像,是不是就意味着华为有救了,中国企业可以独立制造5nm芯片了呢?答案是否定的。“光刻”和“蚀刻”是制作芯片过程中的两个重要流程,前者是将电路缩小,印照在涂抹了光刻胶的金属板上,形成晶圆。后者是对光刻胶的晶圆部分,进行化学腐蚀,最终得到想要的晶圆形状。所以光有蚀刻机,是不足以制造芯片的。虽然二者技术难度听上去相差不多,但是一台由荷兰生产的EUV光刻机有价无市,可以卖出十倍于国产蚀刻机的售价。
不过,也没必要因此而大感失望。毕竟作为一个条件相对艰苦许多的追赶者,一口吃不成一个大胖子,才符合商业和研发的规则。更何况,蚀刻机在所有制造芯片的设备中,技术难度仅次于光刻机,而中微半导体已经走在了全球前列。除此之外,中微半导体在重要性堪比光刻机的薄膜设备研制上也走在全球全列。倘若中微半导体能够保持在该领域的技术优势,完全有机会在日后实现,对以台积电为代表的制造芯片企业的反垄断。(李双喜)
蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备,不论从功能还是结构上来说都是天差地别,光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备,芯片的制程是由光刻机决定的,而不是蚀刻机。具体如下:
1、工作原理
如果把制造芯片比喻成盖房子,那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备,也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设,把不需要的地方给清除掉,只留下光刻过程中标注好的线路。
光刻机相当于画匠,刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光),后者按这张图去刻线(就像刻印章一样,腐蚀和去除不需要的部分)。
2、结构
光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路,其光源和光路的主要组成部分有四个,光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下,蚀刻机的结构组成就要简单很多,主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。
3、售价
ASML的EUV光刻机单台售价很高,蚀刻机的售价要低很多了。
4、工艺
刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。
5、难度
光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
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