28nm光刻机可以生产什么芯片（28nm光刻机能生产7nm芯片）

国产90纳米和国产28纳米光刻机，各自可以干什么？

国产90纳米光刻机。改写了中国无“国产”光刻机的历史。早前，已经有中国企业制造出了光刻机，改写了中国不能制造光刻机和没有光刻机可用这2个历史。同时还可以迅速占领光刻机低端市场。目前而言，全球80%的低端光刻机市场被我国占有。海外有40%的市场被我国占有。掌握低端光刻机技术。经过不断的探索，逐步掌握高端光刻机技术。同时还可以满足我国军用需求。比如在北斗卫星导航系统上，国产战斗机。和一些低端芯片上。国产90纳米完全够用。在军事领域不用被西方等国家卡脖子。还可以培养一大批相关的企业。形成一批配套的产业链。形成规模化。目前国产的90纳米的光刻机曾出售给了我国的长电科技，这家企业的主营业务是芯片封装测试。这类光刻机主要用于芯片封装。而国产28纳米光刻机是在国产90纳米光刻机所建立技术基础上的加速性和跨越式发展。

显见国产光刻机“自带性”和“促进性”的作用都发挥得很快。国产28纳米光刻机，成功量产。让我国成功掌握了中端光刻机制造的制造技术。我国可以在中端芯片市场市场有所作为，打破了国外的封锁。在这方面，上海微电作出了巨大的努力。虽然国产28纳米光刻机不能在民用领域。迅速占领市场。但是他也成功打破了欧美的封锁。目前我国正在朝着14纳米，7纳米方向努力。我们应当正视和西方国家的差距不足。国家也在下大力纠正这一问题。我国正在投入巨资。对顶尖的光刻机进行研发。但是这需要有一个过程。不是一朝一夕就能完成的。我们也需要给国产一点时间。来包容国产的不足。历史也充分证明了西方封锁什么。我国在相关领域就会有重大突破。

目前中国最先进的光刻机（国产28nm光刻机进展）

;     在新能源飞速发展和产品智能化的大背景下，高科技进入蓬勃发展阶段，所有高科技产品最不可或缺的核心部件就是芯片了。作为以智能手机为主要业务的

      华为

      ，对芯片的需求量更是巨大。

      大家都知道生产芯片最重要的器械就是

      光刻机

      ，但由于受到来自

      漂亮国

      的制约，“实体清单”规则被修改后，

      ASML

      因为生产光刻机的技术有一部分来自于漂亮国，受此影响，连带着芯片代工厂也无法为华为公司提供芯片代工服务。

      华为现在最先进的芯片是采用台积电5nm工艺制作的

      麒麟9000芯片

      ，但随着“限制令”的制约，

      麒麟9000

      芯片的库存正在一天一天减少，在无法获得5G芯片的情况下，华为只能采用

      高通

      的4G芯片，没有

      5G

      芯片的支持，华为的5G手机只能当成4G来用，也因此，华为的手机业务受到了重创。

      事实上，不仅是华为，我国其他高科技企业现在都处于“缺芯”状态。如果要解决“缺芯”难题，首先我们就要解决光刻机的自产自研问题。

中科院

      立功了

      为了实现我国高端光刻机的国产化，中科院长光所、上光所联合光电研究院在2009年，启动了“高NA浸没光学系统关键技术研究”，进行高端光刻机的攻坚。该项目于2017年在长春国科精密验收，曝光光学系统研发核心的骨干人员也在同年间转入长春国科精密继续钻研光刻机技术难题。

      在此之后，国望光学引入

      中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

      ，以及

      上海光学精密机械研究所

      推动国产光刻机核心部件生产。在2016年，国望光学研发出90nm节点的ArF投影光刻机曝光光学系统，之后将继续向28nm节点ArF浸没式光刻曝光学系统研发进攻。

      长春国科经济在2018年也传来好消息，攻克了高NA浸没光学系统的关键技术研究。这也是我国实现完全拥有自主知识产权的高端光刻机曝光光学系统的标志。这些成就的达成都离不开中科院的技术支持，可以说中科院立了大功了。

      为什么要花费那么大的精力去研发曝光光学系统呢?这对光刻机的制造很重要吗?这我们就要从光刻机的工作原理说起了。光刻机又叫掩模对准曝光机，它的工作原理简单地说类似于照片冲印的技术。

      光刻的过程就是在制作好的硅圆晶表面涂上一层光刻胶，然后通过紫外线或深紫外线透过

      掩膜

      版，把上面的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，在

      光刻胶

      的覆盖下，这些被光线照射到的部分会被腐蚀掉，而没有被照射到的部分就会被保留下来，形成我们所需要的电路结构。所以曝光系统可以说是光刻机的核心组成之一。

国产光刻机正式传来好消息

      根据国望光学在发出的公示，

      投影光刻机曝光光学系统将应用于28nm芯片的批量生产当中。

      在这之前，我国只能制造出用于90nm制程的光刻机，但随着这两项技术的突破，我国对于28nm光刻机制程实现了突破性的进展。

      28nm芯片有着比90nm芯片更加优越的性能，用途也更加广泛，尤其是对于新能源产业，如新能源汽车或者智能家居产业填补了对于28nm芯片缺失的空缺。

      此外，根据媒体消息，上海微电子也做出披露，在2021到2022年将会交付出第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。这表明我国完全能实现28nm芯片自由。拥有完整的知识产权和自主产业链，就无畏海外市场在芯片上对我们“卡脖子”了。

      虽然28nm芯片已经能满足大部分的生产需求，但是对于华为这些手机厂商和其他一些国产芯片来说，28nm的精度还是不够用的，接下来我国的下一步目标便是进行5nm制程光刻机的攻克，手机对于芯片的精度要求要更高，所以目前我国还是不能停下研发的脚步。

      虽然目前我国还没研发出5nm制程的光刻机，但已经可以制造出5nm制程的刻蚀机了，这对于我国芯片发展也是一个鼓励性的好消息。

      成果是喜人的，但如果拿来与世界上最先进的7nm制程光刻机比的话还是远远不够的，国产化光刻机的道路还要走很远。

国内芯片突破！与荷兰光刻机完成联机！国内已可生产7nm芯片？

国内芯片突破！与荷兰光刻机完成联机！国内已经可生产7nm芯片？

为了打压中国 科技 兴起步伐，美方已经将国内众多科研机构以及 科技 公司列入了禁令名单，这点已经是大家清楚的。

打压的前提就是我们使用了这些技术，并且在某些方面已经威胁到了美方，因此我们可以将这份名单，从某种意义上来看作是一分光荣榜。

而在这份“光荣榜”上，华为和中兴国际是芯片领域的巨头，对于美方来说，对于华为最为头疼的就是华为的5G研发，和芯片设计。

就截止目前为止，华为方面5G专利已经超过了3100份，如此庞大的5G专利数量，就是美方举国内所有 科技 企业的5G专利数量加起来都达不到，这是其一。

其二，在芯片方面，华为海思除了能够设计研发最先进的5G芯片之外，其次还是中国两大安防企业海康和大华的最大合作伙伴，每年为其提供芯片，而所谓的“信息安全”是美方愿意看到的吗？

因此美方只能强力地对华为方面进行打压。

中芯国际呢？则与华为方面不同，就国内而言，中芯国际是最强的芯片制造企业，中芯国际CEO梁孟松说过，中兴国际目前14nm良品率已经达到了业界先进水平，7nm芯片也已经完成了研发，明年就可以进行风险量产。

而在美方呢？最大的芯片制造企业就是英特尔，但是目前英特尔在国际上地位逐渐势微，并且7nm芯片量产两次延期，如果这么看的话，中兴国际说不定要比英特尔方面还要快速量产7nm芯片，这也是美方打压中芯国际的原因。

可以这么说，华为是因为信息安全，以及芯片设计被美方打压，那么中芯国际就是在制造方面被美方打压。

这让我们知道了，如果国内想要实现突破，首先芯片制造的设别要跟上，其中包括现在网上最常说的光刻机、刻蚀机、离子注入机、涂胶显影机等等，这么多的设备，国内想要视图突破的难度可想而知。

曾经荷兰ASML公司说过，就算是将图纸给了国内，国内也造不出来，此言何其狂妄，不过也是事实，而国内一直没有放弃，一直在尽力追赶。

并且现在已经有了突破，上海微电子称，国产28nm光刻机即将交付，并且通过多次曝光技术，还可以用这台机器生产7nm芯片，也就是说7nm芯片，国内已经基本吃成为定数。

中微半导体的5nm刻蚀机，已经交付台积电方面进行使用，离子注入机也已经研发成果，一切都在有条不紊地进行着。

一切都变得越来越近，2021年1月7日，芯源微表示涂胶显影机已经实现突破，目前正在与荷兰ASML、佳能、上海微电子的光刻机实现联机试用。

涂胶显影机在芯片制造中是必不可少的一环，主要用于在光刻机之前，对晶圆进行涂光刻胶，这一步决定了此后光刻机进行光刻的成品率，此前该技术一直被美方与日本巨头垄断，如今国内已经实现了突破，虽然目前可能依旧有着技术差距，但是好歹是成功了，我们也不再被垄断。

国内对于芯片研发的决心是巨大的，并且身后有国家扶持，此前国家大基金已经为半导体准备了4000亿资金用于研发，并且在税收方面也给予了扶持，此后国内半导体企业将越来越多，全面赶超美方。

在如此大环境下，国内必将快速实现突破，并且技术正在不断突破，或许在以后就将验证比尔盖茨的那句话，美方或许终将后悔，对此你怎么看呢？

华为28nm国产芯片曝光：我们已经可以看到打破封锁的曙光

华为作为全球5G的领导者，旗下的麒麟芯片一直以来都以优异的表现受到无数消费者的追捧。但是由于来自美国的芯片禁令的影响，虽然华为依然可以完成芯片的设计，但因为包括台积电、三星在内的众多芯片代工厂商因为使用了美国技术因而无法为华为进行芯片制造。在缺少芯片的影响之下，华为手机的销量已经从2020年的全球第一跌到了不足10名开外。

但华为并没有坐以待毙，近日有一张华为海思的28nm制程芯片流出，代工厂商为成都中芯国际。不要小看这一个信息，在华为遭受禁令的前提下依然能为华为代工生产芯片，那就说明在28nm制程这个节点上已经完成了技术国产化。

28nm可不是一个普通的工艺节点，这是先进工艺和成熟工艺的分水岭。台积电在2011年完成了28nm，中芯国际在2015年攻克了28nm，而现在这块芯片则是完成了“去美化”的28nm芯片，这也意味着在28nm节点上卡脖子的问题已经基本得到解决。

虽然在手机芯片，电脑CPU、显卡GPU等领域一直在追求5nm、7nm等先进制程，但是实际上在包括智能手表、工程控制芯片、电视冰箱洗衣机等家电芯片上由于产品并不需要像手机和个人电脑一样考虑体积的问题，因此在平衡了性价比之后28nm及以上制程才是更合适的选择。因此28nm完成了“去美化”也就意味着除了手机、电脑等少数几个领域之外我们已经不用担心芯片的安全问题。

而跨过28nm“去美化”这一分割线之后也意味着打开了一条前进的道路，只要沿着这条道路走下去通过不断优化制程，未来的14nm、10nm只要按部就班就可以完成突破。同时作为追赶者本身就有后发的优势，专利保护期最大为20年，这也意味着后来者可以踩在前人的肩膀上前进。再加上资金投入上的优势——要知道ASML研发EUV光刻机的费用也只有40亿欧元，这在国内半导体每年2万亿的巨量需求面前可以说不值一提。

芯片并不是神造的，只是长期以来芯片很容易就可以购买到给了大家一个错觉，那就是我们没有必要自己完成整个芯片产业链，只要负责其中几个环节就可以，剩余的环节可以交给美国来完成。因此很长一段时间“造不如买”、“ 科技 无国界”、“拿来主义”等思想盛行，投入巨资进行自主研发反而成了一种错误的选择。

直到美国限制华为芯片后，曾经全球销量第一的华为一蹶不振时我们才发觉芯片产业的重要性。强大如华为尚且无法应对芯片禁令，那么其他那些更为弱小的企业一旦遇到和如今华为一样的困境还有抵抗之力吗？

所幸亡羊补牢为时未晚，从现在开始重视自主研发全力打造国产化芯片产业链依然有很大机会。要知道ASML在2004年才推出全球第一台134nm浸润式微影机完成了对昔日光刻机巨头尼康的超越，如今我们奋发图强在10年之内完成对ASML的超越也并非天方夜谭。

而等到我们的芯片产业完成了14nm、10nm、5nm、3nm、1nm……的突破之后，我们会发现所有曾经遭受的苦难都是值得的。

热点早解读：28nm光刻机有消息了。不管前途几何，都不能放弃

一、热点消息

今年，我国半导体产业已有不少好消息陆续传出。

被提及最多的光刻设备方面，近来有消息称上海微电子即将于

2021年交付首台国产的 28nm 光刻机。

再来看，之前的美国的制裁吧：

5月12日，美国半导体制造商LAM、AMAT等公司发布函件，要求中国的军用产品代工厂不得使用美国半导体来生产军用集成电路，同时启用“无限追溯”；5月15日，美国商务部产业安全局将华为及其在“实体清单”上的关联公司的临时通用许可证延期了90日，要求华为设备使用商者尽快寻找替代商。

二、形势不容乐观，但是28nm够用么？

很多人默默地打开了自己刚刚购买的新电脑

查看配置，处理器选项。

什么！才28nm，老子的锐龙处理器都7nm了，

停停停，先听我说完

或许在许多人看来28nm制程工艺相比7nm还相差甚远，

但实际上是一个分界点，

像是物联网、家电、通信、交通、航空航天等领域，已能满足

那就是满足了市场上的大部分需求。

从2019年全球晶圆代工产能分布，

包括我国每年进口的3000亿美元芯片中也可以看到，

28nm以上制程才是主流。

所以，这意味着

一旦完全掌握28nm芯片制造技术，我们很大程度上就能满足国内发展所需。

现在知道了吧，这比自己玩得爽的手机、电脑可不一样。

三、我们的芯片大多来自哪里？

1、我们拿货真多，却不能自给

根据第三方数据，仅2019年我国的芯片进口额就突破千亿美元，

作为全球最大的芯片进口国。

但是，我国每年的芯片自给率却不足30%。

2、谁掌控了这芯片

为了改善这一局面，不少企业投身芯片行业，但在芯片制造领域却很难有突破，

其中，最最主要的拦路虎，就是大BOSS“光刻机”

而在光刻机领域，荷兰ASML是当之无愧的巨头。

在华为被接连的芯片被动挨打中，他们俩的名号也算了普及到很多人了。

全球范围内能够生产出高端芯片的光刻机，只有荷兰ASML ，

大家记住哈~它是唯一的，

而且还每年限制产能，所以想给谁，想多少钱给，它说的算。

四、我们得自己造呀

1、放心，已经再造了

今天只说他们家。

好在，经过十余年的发展后，我国在光刻机领域也诞生了一位新巨头。

上海微电子装备有限公司，2002年开始生产研发光刻机

在短短18年里，他们创下了3200项专利，

成功打破技术封锁，造出中国最先进的光刻机，

目前，已经实现90nm光刻机的量产。

哎！反正你们看不上，

那不如我再多说一点。

2、那什么水平？

只相当于荷兰ASML15年前的水平！

但是，

ASML光刻机的技术虽然先进，但集结了以美国为首的多国结晶，

例如美国的光学设备、德国的蔡司镜头。

多达5万多零部件，也大多依赖进口。

上海微电子，生产的光刻机设备却是自主研发和创新。

民族热情高涨，来点掌声！

3、怎么解读这28nm

对内：政府的扶持（列入国家863重大 科技 攻关计划，国家重大 科技 专项02的项目之一），

对外：《瓦森纳协定》对华高 科技 出口管制。

与ASML的众星捧月不可同日而语。

公司高层在接受采访时表示：

“2007年，当光刻机的第一束光曝出来时，我们都热泪盈眶。”

“没有人才团队，没有技术积累，没有配套的供应链。

西方国家对这一技术限制很多。”

目前，团队还在超1000个技术与管理人才的共同努力下，全力追赶ASML，

而光刻机制造对资金以及技术积累要求苛刻，请多给一点时间！

虽然即便是28nm技术。

但倘若28nm沉浸式光刻机可顺利交付，

这将把我们的芯片事业推进到一个崭新的高度。

未来可期，未来可待！