解读国产光刻机困局一(国产光刻机什么时候突破)

2022-12-04 22:51:00 基金 xialuotejs

中国光刻机技术如何了啊?

中国有了自己的光刻机,中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。这是世界上第一台利用紫外光实现22nm分辨率的超分辨率光刻设备,为纳米光学加工提供了全新的解决方案。在光电所的努力下,我国的RD光刻机跳出了通过减小波长、增加数值孔径来提高分辨率的老路,为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了全新的技术,也为超分辨率光刻设备提供了理论基础。扩展信息:利用超分辨率光刻设备,项目组为航天科技集团第八研究院、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、电子科技大学、四川大学华西第二医院、重庆大学等单位制备了一系列纳米功能器件。包括大口径薄膜反射镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射装置、生化传感器芯片、超表面成像装置等。验证了超分辨光刻设备纳米功能器件加工能力,达到了实用化水平。

中国自主光刻机为何如此难产?

因为这个制作起来非常的困难,而且制作起来的时间也是非常的长。

中国为什么需要光刻机?

中国需要光刻机其实是为了解决芯片问题。众所周知,美国对华为进行了芯片制裁,也就是说只要使用了美国的设备或者美国技术的半导体公司,都不可以继续为华为生产芯片了。华为本来最有卖点的就是自研的麒麟芯片,但是如今没有人愿意给华为代工,那么华为就没有芯片可以使用了。

电子芯片的制造

而现在市面上大部分的芯片全部都是电子芯片,如果想要在制造电子芯片上面有所突破的话,就需要要使用到光刻机,特别是高端的电子芯片,离开光刻机就没有办法完成。台积电因为每年都可以从ASML公司拿到一半的光刻机,所以它在半导体领域才会拥有这么大的优势。

台积电目前已经开始研究2nm工艺的芯片了,但是中国目前还停留在14nm工艺芯片的阶段,而且中国刚刚公布的好消息,可以成功研制出28nm光刻机,距离现在顶尖水平也还是存在差距的,所以说只要手上没有光刻机,中国的芯片困局就没有办法破解,一直要受到美国的牵制。

光刻机的制造

光刻机的制造更加困难,一台小小的光刻机就有十万多个小零件,而且现在没有一个国家可以独立的生产出顶尖的光刻机,就算是荷兰ASML公司所生产的光刻机,也是集合了好几个国家的顶尖技术,融合在一起才可以制造出来的,所以说如果中国想要依靠自己的力量生产纯国产的光刻机难度很大。

就算可以研发成功,首先需要很长的时间,其次需要大量的资金投入,所以说短期内还是比较难以实现的。ASML公司之所以会把每年产能的一般给到台积电,就是因为台积电也投资了ASML公司,毕竟研究阶段确实很烧钱。

解读国产光刻机困局一(国产光刻机什么时候突破) 第1张

国产光刻机真实现状

中国的光刻机现在达到22纳米。在上海微电子技术突破之前,我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm,意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后,高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁,成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展,手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机,从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视,无一不离开集成电路的发展,也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来,体积越来越小,性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展,芯片越来越小,集成电路越来越多,可以把终端做得小而精致。2002年,光刻机被列入国家863重大科技攻关计划,由科技部和上海市共同推动成立上海微电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年,国家启动了“02”重大科技项目,持续攻关。经过十余年的研发,我国基本掌握了高端光刻机的集成技术,部分掌握了核心部件的制造技术,成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。

1965年我国就有了光刻机,为何现在的发展却大幅度落后?

中国的光刻机之所以会走向落后,是因为经济发展因素、海外企业竞争力过强以及欧美国家对中国进行了技术封锁。

由于华为遭美国封杀之后,华为的芯片供应也出现了很多的问题,由于芯片的制造离不开光刻机,所以光刻机就成为了网友非常关注的东西,只不过令大家没有想到的是,中国曾在光刻机领域达到过世界先进水平。

一、经济发展的原因,导致中国在光刻机领域处于落后地位。

虽然中国当时在光刻机领域拥有着不错的技术水平,但是大部分企业在光刻机领域都无法赚得收入和利润,这导致很多企业逐渐放弃了光刻机的生产和研发,正是由于很多企业不看好光刻机的生产,所以才导致中国在光刻机领域出现了大幅度落后的情况。

二、国外企业的技术优势,使得中国的光刻机处于落后位置。

由于国外企业在光刻机领域,储备了大量的技术专利,这使得国外企业在进行光刻机生产研发时,总能够最大程度降低成本,由于国外生产的光刻机在价格上,远低于中国的国产光刻机,这使得很多芯片生产商都开始选择国外的光刻机,正是由于国外的光刻机生产企业展现出了极强的竞争力,这导致中国的光刻机领域受到了极大的冲击。

三、欧美国家对于中国的技术封锁,使得中国无法提升光刻机的技术。

虽然中国曾在光刻机领域取得了不小的优势,但是如果一直无法和国际接轨的话,那么中国在光刻机领域,也不可能取得太大的进步,再加上欧美国家对中国在光刻机领域进行了强力的技术封锁,这导致中国无法在光刻机领域吸收国外的经验和技术,由于缺少国外技术的帮助,中国在光刻机领域逐渐走向了落后。