低端光刻机能做什么（高端光刻机是干什么用的）

光刻机是什么东西?

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

国产90纳米光刻机可以干什么呢？

可能大家的目光被台积电和ASML（阿斯麦）吸引住了，以为芯片不用5nm工艺制程制造，都不好意思说自己是芯片，没有极紫外（EUV）光刻机，都不能说自己是芯片制造大厂。

90nm国产光刻机是目前我国最先进的光刻机，属于国家重大科技攻关项目。

但是，5nm工艺和极紫外光刻机都是高端货好吗，换句话说，全球也就是苹果、华为、高通等一只手都能数得出来的厂家在玩，即使这些土豪金厂家，也不是所有的芯片都用5nm工艺+极紫外光刻机的超豪华套餐，仅仅A14、麒麟1000、骁龙875等未来旗舰芯片在享用，至于中端的麒麟8系列、骁龙7系列，用的是低一个档次的工艺制程7nm。

这么说吧，全球最先进的光刻机和最酷毙的制程工艺，基本都用来伺候个位数的手机SoC芯片了，牛掰如英特尔，目前最先进的芯片制程工艺也就是10nm（相当于台积电深紫外{DUV}光刻机下的7nm工艺）。

即使在台积电这里，代工的大部分芯片看起来也是很“低端”的。

根据台积电2019财年第四季度报告，7nm在出货量中占比35%，10nm、16nm及以下工艺占出货量比例达到65%。

这是全球最先进晶圆代工厂的业务数据，到老五中芯国际这里，同样是2019财年第四季度，28nm及以下工艺占比达到99%，90nm及以下工艺占比达到46.8%，而且150nm及以下工艺比例达到39.1%。

连中芯国际这种能在全球排上号的晶圆代工厂，90nm及以下工艺比例接近四成，全国几百家冒不出头的芯片制造厂，90nm工艺妥妥的就是最先进的制造技术了。

也就是说，目前芯片制造的主流工艺其实也就是28nm到90nm，也是比较赚钱的技术段位（7nm及以上是最赚钱的）。

如果将芯片制程工艺比作金字塔，塔尖是10nm及以上工艺，14nm及90nm就是塔腰，90nm以下就是塔基。

说到这里，国产90nm光刻机的战略意义就展现出来了。虽然它是低端光刻机，但打破西方技术封锁，可以保证绝大多数国产芯片制造厂不被“卡脖子”，国产的wifi芯片、蓝牙芯片、电源管理芯片、显示芯片、单片机、低容量存储芯片等大量低端芯片，可以说没有了后顾之忧，保证了国民经济的稳定运行

光刻机到底是做什么东西的？

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；

在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

国产90纳米和国产28纳米光刻机，各自可以干什么？

国产90纳米光刻机。改写了中国无“国产”光刻机的历史。早前，已经有中国企业制造出了光刻机，改写了中国不能制造光刻机和没有光刻机可用这2个历史。同时还可以迅速占领光刻机低端市场。目前而言，全球80%的低端光刻机市场被我国占有。海外有40%的市场被我国占有。掌握低端光刻机技术。经过不断的探索，逐步掌握高端光刻机技术。同时还可以满足我国军用需求。比如在北斗卫星导航系统上，国产战斗机。和一些低端芯片上。国产90纳米完全够用。在军事领域不用被西方等国家卡脖子。还可以培养一大批相关的企业。形成一批配套的产业链。形成规模化。目前国产的90纳米的光刻机曾出售给了我国的长电科技，这家企业的主营业务是芯片封装测试。这类光刻机主要用于芯片封装。而国产28纳米光刻机是在国产90纳米光刻机所建立技术基础上的加速性和跨越式发展。

显见国产光刻机“自带性”和“促进性”的作用都发挥得很快。国产28纳米光刻机，成功量产。让我国成功掌握了中端光刻机制造的制造技术。我国可以在中端芯片市场市场有所作为，打破了国外的封锁。在这方面，上海微电作出了巨大的努力。虽然国产28纳米光刻机不能在民用领域。迅速占领市场。但是他也成功打破了欧美的封锁。目前我国正在朝着14纳米，7纳米方向努力。我们应当正视和西方国家的差距不足。国家也在下大力纠正这一问题。我国正在投入巨资。对顶尖的光刻机进行研发。但是这需要有一个过程。不是一朝一夕就能完成的。我们也需要给国产一点时间。来包容国产的不足。历史也充分证明了西方封锁什么。我国在相关领域就会有重大突破。