国产光刻机最新进展知乎股票价格（国内光刻机第一股）

中国光刻机技术如何了啊？

中国有了自己的光刻机，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。这是世界上第一台利用紫外光实现22nm分辨率的超分辨率光刻设备，为纳米光学加工提供了全新的解决方案。在光电所的努力下，我国的RD光刻机跳出了通过减小波长、增加数值孔径来提高分辨率的老路，为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了全新的技术，也为超分辨率光刻设备提供了理论基础。扩展信息:利用超分辨率光刻设备，项目组为航天科技集团第八研究院、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、电子科技大学、四川大学华西第二医院、重庆大学等单位制备了一系列纳米功能器件。包括大口径薄膜反射镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射装置、生化传感器芯片、超表面成像装置等。验证了超分辨光刻设备纳米功能器件加工能力，达到了实用化水平。

固态颗粒用国产光刻机吗

三款物美价廉的国产固态硬盘，颗粒主控都是大品牌，买到就赚了！

行业资讯与商界杂谈

2022-07-16 09:19山东电商达人,优质数码领域创作者,活力创作者

关注

过去，大家都有一种观念，那就是国产固态硬盘不如国外品牌，之所以会形成这样的观念，主要是过去多年我们自己没有固态硬盘存储颗粒生产能力，闪存颗粒生产主要被韩国、日本和美国厂商把控，比如说韩国的三星，海力士。日本的东芝（现在更名铠侠），美国的闪迪、镁光和英特尔等。

后来中国有了长江存储，前一阵子又订购了70多台光刻机，看这势头，今后国产化将越来越普及。

而之前之所以很多小伙伴对国产固态硬盘有些看法，主要是因为很多中小厂商以及山寨品牌使用的颗粒都不是原厂颗粒，使用白片算是良心了，一些山寨品牌甚至使用黑片甚至扩容颗粒来赚黑心钱，把国产固态硬盘市场搞乱了。

不过最近这几年随着大浪淘沙，以及消费者鉴别能力的提升，很多杂牌和山寨固态硬盘都慢慢被淘汰了，而目前涌现出一些非常具有性价比的国产固态硬盘品牌。这些固态硬盘使用国外货国内原厂颗粒， 使用主流主控，性价比还很高。

今天就给大家介绍三款物美价廉的国产固态硬盘，颗粒主控都是大品牌，可以说谁买到谁赚了。

第一款就是朗科固态硬盘。朗科固态硬盘在国产固态硬盘中属于第一阵营的品牌，其性能很强大。朗科512G固态硬盘顺序写入速度是530MB/s，顺序读速是560MB/s，在国产固态中也是属于第一阵营，超过了致钛和台电，但是朗科固态硬盘性价比比致钛高很多，512G大容量只有249元，而且是TLC颗粒，非常适合做系统盘和游戏盘。

朗科512GB SSD固态硬盘 SATA3.0接口 N550S超光系列 电脑升级核心组

¥209

领券

减10

京东

月销1.0万

购买

第二款，则是移速了，移速是一家上市公司旗下品牌，其生产的移速固态硬盘使用的都是原厂的颗粒，主要是英特尔和镁光的颗粒，其中镁光颗粒是TLC颗粒，擦写寿命高达上千次，而英特尔颗粒是QLC，但是因为采用了英特尔特有的专利技术，可以让擦写寿命达到大约1000次。移速因为是原厂颗粒，但是主控是国产低端入门级的，所以读写速度相比朗科要稍微慢一些，性能也差一些，更适合做数据盘。

移速（MOVE SPEED）512GB SSD固态硬盘 SATA3.0 金钱豹系列 五年质保

¥189

京东

月销1.0万

购买

最后一款，则是台电，台电固态硬盘性价比也很高，512G容量价格只要239元，不过台电固态硬盘的质保时间不如移速，移速是五年，而台电固态硬盘只有三年。另外移速512G容量TBW是320，而台电512G容量TBW只有200T，擦写质保寿命比较短，这和东芝铠侠以及英睿达西数绿盘等差不多了（TBW比西数绿盘和闪迪加强型要强一些）。

台电(TECLAST) 512GB SSD固态硬盘SATA3.0接口 稳影系列

¥199

京东

月销1.0万

购买

当然了，如果只论质量，还有几款国产固态也不错，比如说致钛的以及采用长江存储颗粒的鱼竿厂弈系列等，但是致钛价格有些偏高，性价比不高，目前不太值得考虑。

当然了，如果你想性能好，稳定性更可靠，不太在乎价格，可以选择三星固态硬盘以及性价比更高的M.2接口的西部数据蓝盘。因为SATA接口的国产和外国品牌差别不大，M.2接口的西部数据蓝盘是很多小伙伴提升电脑性能和玩游戏的首先。西部数据蓝盘采用的是闪迪原厂TLC颗粒，擦写质保寿命高达600TBW。

西部数据1TB SSD固态硬盘 M.2接口（NVMe协议）

¥589

领券

减10

京东

月销1.0万

购买

如果你想要SATA接口的，就没有必要选择所谓的国际大品牌了，性能都差不多，价格却相差悬殊，国产品牌更实惠，因为有五年质保期，有很高的TBW，没有必要去买什么性价比低的国际大品牌。

光刻机卖给中国股票会涨吗

不一定。光刻机只是制造芯片的一种高端机器，我们中国只是暂时生产不出来高精密的芯片。中国股票上涨是根据股市来决定的，当然如果拥有光刻机也会影响到股市。

中国光刻机处于什么水平

1.现在国内的光刻机能达到多少纳米的技术？

官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm。然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造。而且3nm工艺制作的芯片即将上市。不过根据相关信息，预计中国首款采用28nm工艺的国产浸没式光刻机即将交付。虽然国产光刻机和ASML的EUV光刻机差距还很大，虽然起步晚，但是中国人的不断努力还是会弯道超车的。

第二，国内公司能否自主采购EUV光刻机来解决这种情况？

答案是否定的，要知道华为缺芯是美国的阻碍，国内公司更不可能轻易买到高端光刻机自己制造芯。虽然ASML也是通过采购世界各地的优秀零件来补上最终的光刻机，但是没有任何零件可以避开美国的核心技术，所以美国不会为了控制中国的发展而轻易让中国购买光刻机。

做一个优秀的光刻机，要做很多艰苦的工作，不仅要达到美国光源和德国镜头的高水平，还要有很多精密的仪器。光刻机任重道远！这些精密仪器的背后，也需要更多的人才、研究技术、时间投入和技术积累，也需要大量的资金。我相信中国会克服这个困难，不再受其他国家的限制。

中国唯一一台euv光刻机现状

国产光刻机任重道远。“即使你给图纸，你也做不出一个光刻机。”“就算全国都发展半导体制造，也很难成功。”ASML掌门人、TSMC创始人张忠谋在过去两三年里不止一次公开表示，中国大陆自己无法成功制造光刻机。实际上，严格来说，位于荷兰的ASML公司(ASML)是世界上唯一一家可以生产光刻机的公司，但它只是一家组装公司。大量核心技术来自美国，在ASML的供应链中也有中国公司，如傅晶科技和沃尔特天然气公司。实际上，在光刻机成品方面，上海微电子自2002年成立以来，一直牢牢扎根于低端光刻机市场，90nm及以下工艺的产品一直在稳步出货。公开数据显示，2018年上海微电子出货量约为50-60台，约占大陆市场的80%。所以，以上两人的论断要加上一个前提条件，那就是“先进制造工艺”的光刻机。我们常说的高级芯片是指生产工艺小于28nm的芯片，也就是28\14\7\5\3nm的工艺。这次上海微电子在光刻机举行首个2.5D/3D高级封装交付仪式，标志着中国首个2.5D/3D高级封装在光刻机正式交付给客户，但对于我们目前的卡顿芯片制造来说，只是暗夜中的烛光。“1”和“0”的故事虽然近年来“光刻机”屡见报端，但很少有人提到光刻机主要分为“前路、后路、面板”三类。卡脖子的是前路光刻机，这次上海微电子发布了光刻机。如果把芯片制造比作食品生产，前面的路就是“食品”本身，后面的路就是包装袋。面板制造属于平时想不起来的“调味品”，但它的缺失会直接打击消费者的味蕾，给数字生活调味，因为面板是C端用户最“触手可及”的。因为没有驱动芯片，无论是前端还是后端芯片，C端用户都很难对芯片性能有直观的体验。但是，无论包装和调味品对食品有多重要，如果没有“食品”本身，它的价值就是“0”。所以要想充分体现后通道和面板芯片的价值，首先要有性能优异的前通道芯片。在以前的光刻机制造中，其实光刻机并不是按照“NM”的个数来分类的，而是按照光源的波长来分为436nm光源的“g线光刻机”；具有365纳米光源的“I线掩模对准器”;具有248纳米光源的“KrF掩模对准器”;193nm深紫外光源的“DUV光刻机”;以及13.5nm极紫外光源的“EUV光刻机”，也是目前卡脖子的主打产品。目前上海微电子的产品技术已经触及ArF技术和相应的光刻胶。目前，国内公司如上海新阳、通成新材料、南大光电、景瑞股份有限公司等都已开展研发和生产。其中，南大光电旗下的ArF光刻胶已于2020年底顺利通过客户验证，是国内首个通过产品验证的国产光刻胶。

国产光刻机真实现状

中国的光刻机现在达到22纳米。在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展，手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视，无一不离开集成电路的发展，也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，体积越来越小，性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展，芯片越来越小，集成电路越来越多，可以把终端做得小而精致。2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动成立上海微电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年，国家启动了“02”重大科技项目，持续攻关。经过十余年的研发，我国基本掌握了高端光刻机的集成技术，部分掌握了核心部件的制造技术，成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。