光刻机问世时间（中国首台光刻机问世）

光刻机是谁发明的 光刻机发明的人是谁

1、1822年法国人Nicephore niepce发明了光刻机，在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验之后，Nicephore niepce发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的日晒，其透光部分的沥青就会变得很硬，但在不透光部分则可以用松香和植物油将其洗掉。

2、尽管光刻机发明的时间较早，不过在其发明之后，并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大的区别，在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中最为关键的材料之一。

光刻机霸主阿斯麦封神之路

芯 东西（ID：aichip001）文 | 董温淑

现在，5nm制程芯片作为目前可量产的最先进芯片，将是顶级手机的标配，也是摩尔定律真正的捍卫者。年内将推出的华为Mate 40采用的麒麟1020芯片、苹果iPhone 12搭载的A14仿生芯片不出意外，都会采用5nm制程。

不少证据正在证实这一点，3月份，有爆料称台积电成功流片麒麟1020；4月份，台积电宣布为苹果代工A14芯片；在近期的中美贸易摩擦中，台积电是否能按时向华为出货Mate 40芯片也着实让人捏了一把汗。这一连串事件之中，为两大手机龙头代工芯片的台积电成为关键角色，举足之间关系着华为手机芯片供应的命运。

然而， 台积电能吃下苹果、华为的5nm订单，背后还少不了一家荷兰厂商的存在 ：芯片制造要想突破10nm以下节点，必须要用到EUV（极紫外线）光刻技术，而 EUV光刻机只有荷兰公司阿斯麦（ASML）能造 。不论是5nm量产赛道第一名台积电，还是第二名三星，想造出产品，就只能先乖乖向阿斯麦订货。

作为全球5nm产线不可或缺的狠角色，阿斯麦到底是一家什么样的公司？

我们不妨先理解“光刻”这项技术的重要性。如果把芯片比作刻版画。芯片生产的过程就是在硅衬底这张“纸”上，先涂上一层名为光刻胶的“油墨”，再用光线作“笔”，在硅衬底上“拓”出需要的图案，然后用化学物质做“刻刀”，把图案雕刻出来。

其中，以光线为“笔”、拓印图案这一步被称为光刻。在芯片制造几百道工序里，光刻是芯片生产中最重要的步骤之一。图案线条的粗细程度直接影响后续的雕刻步骤。目前市场上主流的光刻技术是DUV（深紫外线）技术，最先进的则是EUV技术。

完成这一步需要用到的设备——光刻机，一台售价从数千万美元高至过亿美元。要知道，美国最先进的第五代战机F-35闪电II式的售价还不到8000万美元。

放眼全球，光刻机市场几乎被3家厂商瓜分：荷兰的阿斯麦（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在这3家中，阿斯麦又是当之无愧的一哥。据中银国际报告， 阿斯麦全球市场市占率高达89% ！其余两家的份额分别是8%和3%，加起来仅有11%。 在EUV光刻机市场中，阿斯麦的市占率则是100% 。

要指出的是，阿斯麦并非生来就含着金汤匙。阿斯麦成立于1984年，入局光刻机市场晚于尼康（1917年成立，1980年发售其首款半导体光刻机）和佳能（1937年成立，1970年推出日本首台半导体光刻机）。成立之初，阿斯麦只有31名员工，还曾面临资金链断裂的窘境。

36年间，这家几近破产的小公司是怎样成长为光刻机一哥的？又是如何在十多年里占据第一宝座屹立不倒的？今天，智东西就来复盘这家荷兰光刻机之星的逆袭之路。

更为重要的一点，在美国狙击华为芯片供应的组合拳里，阿斯麦间接或直接地成为一颗关键棋子，美国人凭什么限制阿斯麦的生意，背后又有怎样的渊源？

在郁金香国度荷兰的南部，坐落着一个居民人数20余万的市镇，艾恩德霍芬，阿斯麦（Advanced Semiconductor Material Lithography，直译：先进半导体材料光刻技术）总部就位于此。

阿斯麦是一家采用“无工厂模式”的光刻设备生产商，主要产品就是光刻机，还提供服务于光刻系统的计量和检测设备、管理系统等。

翻开全球芯片厂商的光刻机订货单，其中绝大多数都发给了阿斯麦。以2019年为例，阿斯麦共出货229台光刻机，净销售额为118.2亿欧元，净利润为25.2亿欧元。相比之下，尼康出货46台，佳能出货84台。

▲阿斯麦、尼康、佳能出货量对比

除了出货量占优，阿斯麦（ASML）也代表着全球最顶尖的光刻技术。在阿斯麦2019年卖出的229台光刻机中，有26台是当今最高端的EUV（极紫外线）光刻机。而在EUV光刻市场，阿斯麦是唯一的玩家。

EUV光刻机采用13.5nm波长的光源，是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说，就算DUV（深紫外线）光刻机能从尼康、佳能那里找到替代，但如果没有阿斯麦的EUV光刻机，芯片巨头台积电、三星、英特尔的5nm产线就无法投产。

时间迈进2020，光刻机市场三分的格局中，阿斯麦已稳居第一10多年。在“光刻机一哥”光环的背后，阿斯麦又有怎样的故事？

智东西从技术路线选择、先进技术攻关、资金支持、研发投入等方面入手，还原出这个故事真实、立体的脉络。

罗马不是一天建成的，阿斯麦的成功也绝非一蹴而就。今日风头无两的光刻机市场一哥背后，是一个卑微的开始和一段曲折的往事。

故事要从20世纪80年代讲起，那时候距离摩尔定律被正式提出（1975年）不到10年，增加芯片晶体管数目还不是让全球半导体学者挤破头的课题。相应地，对光刻机光源波长的要求较低。当时的光刻机采用干式微影技术，简言之，光源发光，光线在涂有光刻胶的硅基底上“画”就完了。

比如，1980年尼康推出的可商用步进式重复式光刻机（Stepper），光源波长为1微米。连芯片厂家英特尔也自己设了个光刻机部门，用买来的零件组装光刻机。

通俗来说，步进式重复光刻机的工作原理是使涂有光刻胶的硅片与掩膜板对准并聚焦，通过一次性投影，在晶圆片上刻画电路。

▲尼康1980年推出的光刻机NSR-1010G

在这种背景下，荷兰电子产品公司飞利浦在实验室鼓捣出了步进式扫描光刻技术的雏型，但拿不准这项技术的商业价值。思前想后，它决定拉人入伙，让合作者继续研发，这样既有人分摊成本，也给了自己观望的机会。

步进式扫描光刻技术的原理是，光线透过掩膜板上的狭缝照射，晶圆与掩膜板相对移动。完成当前扫描后，晶圆由工作台承载，步进至下一步扫描位置，进行重复曝光。整个过程经过重复步进、多次扫描曝光。

▲步进式扫描光刻技术示意图

在飞利浦的设想里，理想的合伙人当然是技术先进、实力雄厚的美国大厂，如IBM、GCA之流。但在美国走了一圈后，飞利浦意识到了现实的骨感：各大厂商纷纷表示拒绝。

但是，并非所有人都不看好飞利浦的光刻项目，就在飞利浦碰壁之际，荷兰小公司ASMI（ASM International，直译为ASM国际）的老板Arthur Del Prado跑来，自荐要接下飞利浦的光刻项目。

▲Arthur Del Prado

ASM International创立于1964年，是一家半导体设备代理商，对制造光刻机并无经验。因此，飞利浦犹豫了1年的时间。最终，1984年，飞利浦选择“屈就”，同意与ASMI公司各自出资210万美元，合资成立阿斯麦，由这才开启了阿斯麦的故事。

阿斯麦首任CEO为Gjalt Smit，任职时间为1984～1988年。据称，由于阿斯麦成立初期知名度较低，Gjalt Smit曾在未经授权的情况下在阿斯麦招聘广告中使用飞利浦的标志。

▲阿斯麦创始初期CEO Gjalt Smit

2013年至今，阿斯麦总裁兼CEO由Peter Wennink担任。Peter Wennink早在1999年就加入了阿斯麦，曾担任过执行副总裁、首席财务官等职。在加入阿斯麦之前，Peter就职于全球四大会计师事务所之一的德勤会计师事务所。

▲现任阿斯麦总裁兼CEO Peter Wennink

其实，在与飞利浦合资成立阿斯麦之前约10年的1975年，ASMI就曾在香港开设办公室。最初，ASMI香港办公室只负责销售，随着时间推移，该办公室发展出了生产能力。1988年，ASMI在香港办公室的基础上成立了新公司ASMPT（ASM PACIFIC Technology，直译为ASM太平洋技术）。到今天，ASMPT已成长为全球最大的半导体组装和封装技术供应商之一。

作为站在阿斯麦、ASMI、ASMPT背后的操盘手，Arthur Del Prado成为一代业界传奇，被誉为“欧洲半导体设备行业之父”。2016年，这位传奇人物以85岁高龄逝世，但与他渊源颇深的三家半导体公司仍在创造新故事。Arthur的长子Chuck Del Prado，于2008年接替Arthur继任为ASMI CEO，并于2019年退休。ASMI现任CEO是Benjamin Loh。ASMPT现任CEO是Robin Ng。

回到阿斯麦的故事，飞利浦同意出资210万美元成立阿斯麦，但拒绝提供更多资金和办公场地。成立之初的阿斯麦只有31名员工，由于没有办公室，这31名员工就窝在飞利浦大厦外的简易木板房里办公。当时， 飞利浦绝不会想到，这个几乎被当作“弃子”的项目和退而求其次选择的小公司，孕育出的是能把尼康拉下马的光刻机新星。

▲垃圾车后面就是阿斯麦成立之初的简易木板屋，其后的大厦是飞利浦大厦

如前所说，20世纪80年代还是光刻机的技术红利期。在干式微影技术的技术路线下，阿斯麦成立的第一年就造出了步进式扫描光刻机PAS 2000。 但是，技术的红利期很快就会过去，之后发生的一切会造就光刻机市场的新格局。

▲阿斯麦于1984年推出的PAS 2000

进入21世纪，为了延续摩尔定律，人们改进了晶体管架构方式，但光刻机光源波长卡在了193nm上。这造成的后果是光刻“画”出的线条不够细致，阻碍晶体管架构的实现。要解决这个问题，最直接的方式就是把光源波长缩短，比如尼康、SVG等厂商试图采用157nm波长的光线。

实践中，实现157nm波长的光刻机并不容易。首先，157nm波长的光线极易被193nm光刻机使用的镜片吸收；其次，光刻胶也要重新研发；另外，相比于193nm波长，157nm波长进步不到25%，回报率较低。但在当时，这似乎是唯一的办法。

到了2002年，时任台积电研发副经理林本坚提出：为什么非要改变波长？在镜头和光刻胶之间加一层光线折射率更好的介质不就行了？那么什么介质能增加光的折射率呢？林本坚说，水就可以。与干式光刻技术相对，林本坚的技术方案被称为浸没式光刻技术。经过水的折射，光线波长可以由193nm变为132nm。

时间再往回推15年（1987年），林本坚就职于IBM，那时他就有了浸没式光刻技术的想法。2002年芯片制程卡在65nm之际，林本坚看到了浸没式光刻技术的机会。为了解决技术难题、消除厂商疑虑，林本坚花费半年时间带领团队发表3篇论文。

当时，业界质疑水作为一种清洁剂，会把镜头上的脏东西洗出来，还有人担忧水中的气泡、光线明暗等因素会影响折射效果。根据林本坚团队的研究，他们提出了一种曝光机，可以保持水的洁净度和温度，使水不起气泡。虽然这种曝光机并未在实际中被采用，但林本坚的研究证明了技术上的难题是可以被解决的。

他还亲自奔赴美国、日本、德国、荷兰等地，向光刻机厂商介绍浸没式光刻的想法。但是，有能力进行研发的大厂普遍不买账。

▲林本坚

个中原因也不难理解，自20世纪60年代起，玩家入局光刻机市场，在干式光刻技术上投入了大量财力、人力、物力，好不容易踏出一条可行的技术路线。如果按照林本坚“加水”的想法，各位前辈就得“一夜回到解放前”，从技术到设备重新 探索 。很少有人舍得这么高的沉没成本。但是，“很少有人”不代表“没有人”。

奔波到荷兰后，林本坚终于听到了一个好消息： 阿斯麦愿做这第一个吃螃蟹的勇士 。2003年10月份，ASML和台积电研发出首台浸没式光刻设备——TWINSCAN XT：1150i。2004年，阿斯麦的浸没式光刻机改进成熟。同年，尼康宣布了157nm的干式光刻机和电子束投射产品样机。

但是，一面是改进成熟的132nm波长新技术，一面是157nm波长的样机，胜负不言而喻。

数据显示，在2000年之前的16年里，ASML占据的市场份额不足10%。2000年后，阿斯麦市场份额不断攀升。 到2007年，阿斯麦市场份额已经超过尼康，达到约60%。

当命运之神把浸没式光刻微影的机遇摆放到阿斯麦、尼康等玩家面前，只有阿斯麦勇敢地伸出手，而尼康则是成也干式微影、败也干式微影。 在全球光刻机市场这一回合的较量中，阿斯麦选择了正确的技术路线，从而赢得了后来居上的机会。

▲首台浸没式光刻设备——TWINSCAN XT：1150i

如果说推出浸没式光刻机让阿斯麦领先尼康一步，那么突破EUV光刻技术则让它成为了名副其实的光刻机一哥。2010年至今，EUV光刻市场中只有阿斯麦一位玩家。

突破10nm节点能够带来的经济效益不必赘述，在众多玩家中，为什么只有阿斯麦掌握了EUV光刻机的核心技术？实际上，这与它集合了美国、欧洲的顶级科研力量有关。 这段故事还要从1997年讲起。

1997年，英特尔认识到跨越193nm波长的困难，渴望通过EUV来另辟蹊径。为了能从其他玩家处借力，英特尔说服了美国政府，二者一起组建了一个名为“EUV LLC（The Extreme Ultraviolet Limited Liability Company，极紫外线有限责任公司）”的组织。EUV LLC里可谓是群英荟萃，商业力量有摩托罗拉、AMD、英特尔等，还汇集了美国三大国家实验室。

EUV LLC里，美国成员构成了主体。在对外国成员的选择上，英特尔和白宫产生了分歧。英特尔看中阿斯麦和尼康在光刻机领域的经验，想拉他们入伙。但白宫认为如此重要的先进技术研发不该邀“外人”入局。

此时，阿斯麦显示出了惊人的前瞻能力，它向美国表示：我愿意出资在美国建工厂和研发中心，并保证55%的原材料都从美国采购，只求你们研究EUV一定要带我玩。

如此诚意让美国难以拒绝，就这样，阿斯麦成为EUV LLC里唯二的两家非美国公司之一，另一家是德国公司英飞凌。

反观尼康，这一次则完全是吃了国籍的亏。1998年发表的文件《合作研发协议和半导体技术：涉及DOE-Intel CRADA的事宜》，写明了尼康被排除在EUV LLC外的终极原因：“……有人担心尼康会成功将技术转移到日本，从而消灭美国的光刻工业。”

1997年到～2003年，阿斯麦和世界顶级的半导体领域玩家聚集在EUV LLC，用了6年时间回答一个问题：EUV有可能实现吗？他们发现答案是肯定的。至此，EUV LLC使命完成，在2003年就地解散，其中各个成员踏上独自研发之路。

其实，其他欧洲、日本、韩国的玩家也曾 探索 过EUV光刻技术。但是，他们的实力始终无法与汇集了美国顶级科研实力的EUV LLC相比，这意味着阿斯麦在EUV研发之路上占得先机。国际光电工程学会（SPIE）官网写出了EUV LLC的重要性：“如果不是EUV LLC对技术的形成和追求，EUV光刻技术就不会成为IC制造领域的未来竞争者。”

6年时间里，EUV LLC证明了用极紫外线作为光源造光刻机是可行的，但却没指出一条明路。到了2005年，EUV光刻机还是连个影子都没有，但巨额的研发资金、难以跨越的技术瓶颈已经足以让大多数玩家望而却步。但是，阿斯麦还是不肯死心，并且决定要牵头欧洲的EUV研发项目。 如果说在EUV LLC中，阿斯麦是蜷缩在角落里等待被其他大玩家“带飞”，那这一次，阿斯麦则是要自己做领头雁。

研发过程面临的困难无非集中在资金和技术两方面，阿斯麦把它们逐个击破。缺钱？那就去找，阿斯麦从欧盟第六框架研发计划中拉来2325万欧元经费。缺技术？阿斯麦集合3所大学、10个研究所、15个公司联合开展了“More Moore”项目，着力攻坚。

终于，2010年，阿斯麦出货了首台EUV光刻机。这台光刻机型号为NXE：3100，被交付给台积电，用于进行研发。

至此，在EUV市场，阿斯麦已经做到了人无我有，接下来的问题就是产品的迭代和进化。2013年，阿斯麦收购了光源提供商Cymer，为公司量产EUV设备打基础。经过几次升级，阿斯麦在2016年推出首台可量产的EUV光刻机NXE：3400B并获得订单。NXE：3400B售价约为1.2亿美元，从2017年第二季度起开始出货。直到今天，产品的迭代还在继续。根据阿斯麦的信息，EXE：5000系列光刻机样机最快在2021年问世。

从1997年到2010年，13年的艰难求索，终于让阿斯麦攻克了EUV的技术高地。辛勤付出终有回报， 目前，阿斯麦仍是唯一掌握EUV光刻技术的厂商。

▲阿斯麦的最新EUV光刻机TWINSCAN NXE：3400C

根据公开信息，一台EUV光刻机售价约为1.2亿美元，一台DUV光刻机的售价也要数千万美元。在高额售价的背后，是前期研发阶段巨量的资金投入。要支撑对光刻技术的研发，阿斯麦必须找到一条可持续的“财路”，否则就可能陷入困境。

事实上，阿斯麦也的确经历过“财政危机”。1988年，阿斯麦进军台湾市场，还未来得及在新的市场竞争中喘口气，老东家ASMI就因无法获得预期内的回报比作出撤资决定。同时，由于当时全球电子行业市场不乐观，飞利浦也宣布了一项成本削减计划。内外夹击之下，阿斯麦几近破产。好在危机时刻，时任阿斯麦CEO Gjalt Smit联系了飞利浦董事会成员Henk Bodt，后者说服了飞利浦董事会，为阿斯麦拉来一笔约1亿美元的“救命钱”。

这笔资金帮助阿斯麦在进军台湾市场的初期站稳了脚。随后几年，阿斯麦凭借步进式扫描光刻机扭亏为盈，并于1995年3月15日在阿姆斯特丹和纽约证券交易所成功上市，上市首日市值为约1.25亿美元。

▲Henk Bodt

为了能够获得充足的资金支持，2012年，阿斯麦提出一项 “客户联合投资计划”（CCIP，Customer Co-Investment Program） ，简单来说，就是接受客户的注资，客户成为股东的同时拥有优先订货权。这无疑是一个双赢的举措：把阿斯麦的研发资金压力转移出去，让客户为先进光刻技术的研发买单，这样不仅使阿斯麦无后顾之忧地进行研发，也保证了客户对先进光刻技术的优先使用权。

2012年，芯片制造行业3大龙头英特尔、台积电、三星都推出了22nm芯片产品。CCIP计划一经推出，这3家公司纷纷响应。根据协议，英特尔斥资41亿美元收购荷兰芯片设备制造商阿斯麦公司的15%股权，另出资10亿美元，支持阿斯麦加快开发成本高昂的芯片制造 科技 。台积电投资8.38亿欧元，获取阿斯麦公司约5%股权。三星斥资5.03亿欧元购得3%股权，并额外注资2.75亿欧元合作研发新技术。

最终，阿斯麦以23%的股权共筹得53亿欧元资金。要知道，2012年全年，阿斯麦的净销售额才约为47.3亿欧元。

在 科技 圈，研发、创新能力就是生命力。华为5G、芯片技术为什么强？任正非曾在接受采访时表示，2020年华为将把约200亿美元（约合人民币1420亿元）花在研发上。而在研发方面，阿斯麦与华为一样“疯狂”。

早在2002年，阿斯麦就敢向浸没式光刻技术押注。到了今天，大力投资搞技术研发已经成为阿斯麦的传统。

根据2019年度财报， 阿斯麦全年投入了20亿欧元用于技术研发，占到净销售额（118.2亿欧元）的16.9% 。相比之下，2019年尼康在光刻系统上的投资为3.98亿日元，占到光刻系统营收（2397.28亿日元）的约0.17%。

2007年开始，“时年”13岁的阿斯麦开始以领先的姿态傲然于光刻机市场，至今仍然如此。列出阿斯麦近些年的研发投入，或能解释它这么多年来屹立不倒的原因。

▲近5年阿斯麦研发投入及营收情况

另外，在专利网站Patentscope上的搜索结果显示， 阿斯麦申请的专利数目已经达到14444项 。阿斯麦虽然是一家商业公司，但支撑它走得更远的，不是对金钱的追求，而是对技术的长远投资。

回顾过去36年，阿斯麦从一个蜷缩在木板房中的小公司成长为一代光刻机巨擘，其中原因少不了 历史 的机遇，如林本坚适时提出了浸没式光刻技术的想法。但是，更具决定性意义的是阿斯麦准确的前瞻和果断的选择，比如，在21世纪初，阿斯麦放弃干式微影，转投浸没式光刻技术；再比如，早在1997年，阿斯麦以自身妥协换来EUV LLC的入场券。对于商业与技术相互促进的关系，阿斯麦还有着深刻的理解，多年来对技术研发的大力投入，成为它屹立不倒的重要原因。手握顶尖的技术，阿斯麦还获得了客户的支持，从而在全球光刻机市场中走得更远。

以阿斯麦这36年的历程为鉴，对比我国。1977年，我国第一台光刻机诞生，加工晶片直径为75毫米。今天，国产光刻机制造商有上海微电子、中科院光电所等，最先进的设备推进至22nm节点，而国际最先进工艺已突破5nm节点。国产光刻机无疑还有很长的路要走。

芯片是“中国制造”的痛点。不论是近期华为被美国断供芯片的新闻，还是两会政府工作报告中“国产化”“功率半导体”“传感器芯片”等话题被一再提及，背后的事实都让人黯然：我们曾在一穷二白的条件下造出原子弹，但在GDP总量近100万亿人民币的今天，中国还是难以独立造“芯”。在种种困难中，光刻技术直接卡住了芯片制造的“脖子”。

要解决这一问题，技术攻关当然是必不可少的。另外，借力国外成熟产品或可帮助芯片制造商实现突破。2018年，我国芯片公司中芯国际花费约1.2亿美元，向阿斯麦订购了一台EUV光刻机。由于种种原因，目前，这台光刻机还未成功交付。我们期待它能够尽快落地中国，助力我国的芯片事业再上一个台阶。中国有市场、有人才，也不缺恒心与毅力，相信我国光刻机事业会有光明的未来。

参考文献：

1、《曾经的光刻机霸主：尼康营收暴减九成，裁员 700 人》EE Times China

2、《全球半导体设备龙头专题（一）》安信证券

3、《阿斯麦封神记：这家荷兰公司，扼住了全球半导体芯片的咽喉》魔铁的世界

4、《光刻机的发展与荷兰ASML公司的故事》光纤在线

5、《做成那不可能之梦：低调华人科学家颠覆技术 影响人类》知识分子

6、《More Moore” Shows European EUV Innovation at EUV 2006 in Barcelona》CORDIS

光刻机的技术有没有可能是外星科技，欧美各国瓜分了技术？

没有可能是外星 科技 ，如果是外星 科技 现在就不是7nm技术了，就是1nm技术，甚至更极限的技术了。

大部分人不了解光刻机的发展历程，所以对于光刻机的原理，以及发展到如今，成为制约我们国家芯片发展的主要障碍，都感觉到迷惑。

我们先来说说光刻机的发展历程，让你明白光刻机是怎么来的？

1978年英特尔制造了第一个CPU名为i8086，这一款CPU所使用的指令集，后来被命名为X86指令集。这是世界上第一款微处理。英特尔之前的产品主要都是存储器。

同年1978年，美国GCA公司制造了第一台光刻机。工作节点是1.5μm（也就是1500nm），之后经过多年的发展，逐步发展到1999年的180nm。

这个时期采用的激光的光源，都是波长都比较长。有436nm，和365nm，之后开始使用248nm的波长作为光刻机。

在2001年后，光刻机市场在193nm光源处，停滞了多年。一直无法突破，没有办法在波长下降的同时达到能量的不变。

因此，经历了长达20年的研究（1999年就开始研发级紫外线技术，光刻机），终于在2013年成功，并且量产出货。如今EUV光刻工艺，已经到5nm工艺阶段，7nm工艺已经非常成熟。

2、光刻机的原理是啥？为什么他不是外星人的技术？这其实就是激光雕刻机！

全球激光技术起步很早，使用激光去除在硅表面的保护膜，蚀刻液会腐蚀保护膜较薄的地方。原理上就好像使用激光打标机，或者说激光刀切割东西是一个道理。但又有区别。

光刻的概念，最原始的应用，就是使用激光的高能量，可以灼烧，实现切割，雕刻。应用在芯片制造中，并不是直接的光雕刻，而是曝光后，蚀刻。有些类似于中国古人在石碑上，有腐蚀性液体写字，这种道理。

后来缓慢的技术发展，不断地寻找更小的激光束，用来去除多晶硅表面的掩膜。也就是相当于，找到更小的刻刀，用来雕刻。

这个原理其实很容易理解。

其实就相当于，将放大的一个电路板，根据光照的情况，哪里没有遮挡，就会有光投过去，通过一个镜头（物镜）将激光投射到下面的晶圆上面，有激光照射的地方除去表面的掩膜，蚀刻液就会立刻进行雕刻。

这是多么单纯的技术，怎么能说是外星人的技术？外星人有这么low吗？

3、如果你清楚，尼康，佳能，ASML就知道知道，这就是人类的技术！

从上世纪开始，尼康，佳能，ASML三家就一直把持着光刻机的市场。

整个光刻机的市场，就是在光学技术领域的发展中不断进化的。所以不存在所谓的外来世界的技术。只是技术的进步比较快，并且我们国内错过了比较好的时期而已。

4、中国很早就开始研发光刻机了

1980年之前，中国其实很早就研发光刻机了。1978年上海光学机械厂就已经研制陈宫了JKG-3光刻机。当时ASML还没有成立，佳能，尼康还是光刻机行业的大佬。那个时候，国内同国外虽然有差距，但是还没有现在这么远。

在进入1980年之后，国内改革开放，大量国企改组，国家也没有再向之前那样扶持光刻机的发展，并且受到国际市场产品的冲击，国内国企当时的成本较高。没有足够的下游芯片制造市场购买光刻机，产品就逐步淘汰了。

可以说，中国曾经丢失了，我们可以留待今天绝地反击的底牌。

先假设推定一下，光刻机技术来自于外星 科技 ，那么，有能力捕捉或获取这一技术的当然是美国，如果美国获取了这项技术，应该是把光刻机工厂建设在美国才对，而不是建设在荷兰。另外，如果是外星技术，美国掠夺来的，外星人为何不回来报复美国？如果是免费赠送给地球的技术，那么就应该把这项技术公平地分享给世界各国，但事实上并非如此。

其实，答案非常简单，目前地球上的一切技术都来自于人类的智慧，没有任何一项技术来自于地球之外的文明。别把这个当真。更别把欧美妖魔化的太厉害，好像他们什么都能搞定一样。中国也有光刻机企业，如果欧美国家持续对于中国实施技术封锁，中国也会研发自己的高端光刻机。

目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中，荷兰ASML市场占有率达到80%以上，而且目前ASML是全球唯一能够达到7纳米精度光刻机的提供商，所以ASML才是全球芯片业真正的超级霸主一点都不过分。正因为得益于技术领先，目前ASML的市场份额也是很大的，目前全球知名芯片厂商包括英特尔、三星、台积电、SK海力士、联电、格芯、中芯国际、华虹宏力、华力微等等全球一线公司都是ASML的客户。

荷兰的光刻机技术强大主要靠ASML，ASML成立于1984年，由飞利浦与先进半导体材料国际（ASML）合资成立，总部位于荷兰的费尔德霍芬。1995年，ASML收购了菲利普持有的股份，称为完全独立的公司。

那么，为什么只有这家公司垄断世界光刻机市场呢？分析下来有如下几个原因：

1、持续不断的高强度研发投入。举例来说，2019年ASML的销售额大概是21亿欧元，而研发费用支出就达到了4.8亿欧元，研发费用占营收的比例达到22.8%，研发费用投入比例无有出基右者。正是因为连年的持续高额投入，才使得这家公司能够始终站在光刻机市场的前沿。如果中国耐心持续投入光刻机研发，假以时日，照样可以追赶上ASML的水平。

2、美国、欧盟等国家的大力扶持。这家公司比较特殊，尽管它自身每年投入巨资搞研发，与此同时，包括美国、欧盟等其他机构的技术研发成果，也都无条件地注入该公司，以确保其在光刻机产品上的领先地位。可以说，它是举欧美整体之力，而支撑起来的超级 科技 公司。目前世界上绝无仅有。它有点像飞机制造领域里的波音和空客，前者是美国举国之力，后者是欧洲举各国之力。

3、其实，光刻机市场并不大，占市场份额80%的ASML公司，2019年的销售额才21亿欧元，也就200亿元人民币的盘子。因此，很多公司看不上这一块市场。认为，有ASML就可以了，其生产能力也足以供应全球市场需求。然而，由于美国对中国搞技术封锁，使得中国无法购买到ASML最先进的光刻机设备，这才使得光刻机走上前台，备爱瞩目。

其实，世界上任何一个国家或公司，如果从头研发一种制造业的生产设备，都面临非常大的困难，何况要研发最精密制造设备光刻机呢？以美国当下的 科技 实力，如果让美国再创建一家光刻机公司的话，也得从头做起。

没见过光刻机，总看见过微雕了吧？没看见过微雕，总听过鸡蛋壳里做道场这句话。

光刻机是被中国人自己丢掉的，不要怪别人忽悠，是傻瓜才听别人忽悠，你能承认自己是傻瓜吗？还有就是软件，各种各样高精尖工业软件，也还在别人的手里。这些是美国人打压中国才露出的问题，美国可以肯定的讲早在一百年就布了个大局，从意识形态到文化经济，只有一个出乎美国意料是中国共产党的胜利和中国的崛起。

中国一直都在破美国的局同时也在崛起的路上。我只希望中国的智库先生多一些实事求是的精神给中国政府出一些有利于中国前进的方案和遇到困难解决的手段！

实事求是。这是毛泽东思想的精髓！毛泽东就是实事求是的根据中国不同阶段所产生的问题，不断的调整前进的方向和提出解决问题的方法。

我相信只要有共产党在，光刻机和芯片软件都是前进路上的小石头，办法总比困难多！

没有什么外星人和外星技术，至少目前还没有接触到！有的就是人类对自身的短视和偏见！短视和偏见最近在美国人身上看到了，希望中国人身上没有。

光刻机没有那么神秘，它只是一项技术。神秘的是 历史 总是每前进一波，就会回踩一下筑底确认，然后再艰难爬坡，而不是线性地一路向上，这里面有很多遗憾，让人唏嘘。

上世纪60年代，我国已布局研发光刻机，中科院于1965年研究出接触式光刻机，并于1970年开始研究计算机辅助光刻掩膜工艺。此外还有：武汉无线电元件三厂于1972年编写了《光刻掩膜版的制造》，清华大学1980年研制的光刻机技术精度已达3微米。但光科机技术于上世纪八十年代被叫停，20几年的技术积累就此终结。

此外还有一些出乎我们意料的情形：

武汉于晚清末期，已在洋务重臣张之洞主持下，街头出现了国内最早的公用电话；电影于1895年诞生在法国，第二年便落脚于上海，上海电影产业于上世纪二十年代，几乎和世界电影发展保持了同步，被称为东方好莱坞。

最初实验性的动画虽然不是诞生于中国，但万氏兄弟于1922年在上海做出了动画片《舒振东华文打字机》，1926年做出了《大闹画室》。美国迪士尼由米老鼠主演的《汽船威利号》于1928年才正式诞生，这至少说明中国动画起不一点也不晚。万氏兄弟于1941年制作的《铁扇公主》，和迪士尼于1937年制作的《白雪公主》难分伯仲，它深刻影响了日本一位名叫手冢炙虫的医生，手冢毅然转行学习动画，并以代表作《铁臂阿童木》为日本动画打下了基础。

以上既不是为了说明“我们祖上比你强多了”，也不是为了发放马后炮式的牢骚，而是想表明，纯粹技术性的 探索 和发现，中国就算在比较困难的时期也总是走在世界前列的，但我们似乎总是在系统性、长远性的设定上欠缺，一再地吃那种“起得很早，却赶了晚集”的亏，这也表明，一个国家、民族的真正复兴，苦练内功的时候已经到来了，躺赢的想法再也立不住脚了。

地球上，一切 科技 的发展，都是人类智慧的结晶，至少在当下，没有足够令人信服的理由，能证明有外星人的存在，并将光刻机技术传授给了欧美国家。

光刻机，是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，被称为“现代光学工业之花”，制造难度非常大。

目前，全世界只有ASML、尼康、佳能、SUSS、.台积电、中芯国际、上海微电子装备等少数几家公司能制造，可谓高 科技 领域的皇冠。

其中，荷兰的ASML是全球唯一能够达到7纳米精度光刻机的供应商，市场占有率达至少有到80%，显示了此领域排头兵毫不动摇的地位。

5月15日，美国商务部宣布，将全面限制华为，购买采用美国软件和技术生产的半导体。对此，华为仅用一句话回应：“没有伤痕累累，哪来皮糙肉厚，英雄自古多磨难。回头看，崎岖坎坷；向前看，永不言弃。”

美国竭尽全力，打压一家中国民营企业，要将其置于死地，这在全世界都是绝无仅有的，为了打击华为，美国修改制裁规则，要求所有用过美国技术或设备的公司，不得卖芯片给华为。

由于美国的全力打压，对中国搞技术封锁，将使得中国无法通过正常渠道，购买到全球最先进的光刻机设备，一旦总部位于中国台湾新竹科学园区的台积电被切断，内行人都知道，形势就急转直下了。

在美国宣布限制代工厂给华为供货的同一天，位于上海的中芯国际，突然宣布重大消息：国家集成电路基金二期和上海集成电路基金二期，将分别向中芯控股旗下的中芯南方注资15亿美元和7.5亿美元，以获取23.08%和11.54%的股份，总计22.5亿美元。

与此同时，华为与中芯国际则已强强联手，中芯国际14纳米给华为代工了麒麟710A芯片，良品率达到95%以上。

目前，中芯国际已攻克了7纳米技术，并不依赖最先进的EUV光刻机，估计年内可以量产，这也能解决华为7纳米芯片的生产，至少在芯片领域，美国人已无法令华为似中兴那般举手投降。

假以时日，中国科研工作者也能攻克比7纳米精度更高的芯片，对华为的保护显然已上升到国家层面，政府不可能让华为倒下。

在芯片领域，将投入海量资金和科研人员，绝不甘心被他人打压而彻底趴下而认怂，这不符合中华民族生生不息的强大战斗精神。

多少听上去不可能，如航空发动机，被称做“螺蛳壳里做道场”，光刻机用的纳米 科技 ，纳米不过一个较小的长度单位，10的负9次方米，打个比喻，一根头发直径的六万分之一，这样一说可见，7纳米的芯片，也没有多大对吧？因此被称为外星 科技 ，也不过分。

现在的芯片，多种多样，开始进入信息时代的全球 科技 ，因为使用广泛，从而成为 科技 领域的最高代表之作，其中尤以荷兰的阿斯麦芯片，最为突出，占据全球高端芯片市场的90%。

芯片制造，使摩尔定律开始失效，集中体现在光刻机，被称为打印思想的钢印机器。要说到它的恐怖程度，给了你制造光刻机的图纸，同样造不出来，原因正在于它的一切设备都集中了最具尖端的技术。

如光源来自美国的Cymer，镜头则来自德国。谁供设备谁受益，成为股东之一，三大股东分别是美国英特尔，韩国三星和中国台湾的台积电。公司总部虽设在荷兰，技术则没有荷兰多少事。

形成了垄断，自可分食而肥，一台上亿美元，即便如此，此前几年，7纳米的光刻机，还不卖我们呢，有意思的是今年在无锡设立了维护工厂，也见我们经过持续努力，进步有多么大。

技术集中于欧美，实事上正对不少国家形成技术瓶颈，这便是拼了命也要打压华为的原因呀。过去传说从不招中国工人，现在随着多少核心技术的陷落，不得不从魔性与任性掉下来，全球化有你，也有我。

光刻机可以说是半导体工业的尖端技术，在半导体集成电路方面有着至关重要的作用。光刻机的主要技术确实掌握在欧美国家手里，中国在这一方面还有很大的差距。

由于这个东西实在太过于间断，也许有人认为这个东西是不是外星人的技术，事实上这主要是中国和美国的差距太大导致的。美国有很多技术，在如今的中国人看来都可以算是外星人的技术，例如军舰用的LM2500燃气轮机，美国上世纪70年代的产品，中国现在都还羡慕得要命。虽然通过乌克兰，中国弄出了燃气轮机，但是性能还是差不少。美国的黑鹰直升机，中国现在还做不出性能这么好的直升机。美国的核动力航母、核动力潜艇，更是让中国羡慕得要命，这里面的差距恐怕不必光刻机少。

光刻机主要是因为涉及到光源、精密仪器等工业基础方面的东西，中国在这方面的短板实在是太大。现在虽然在奋起直追，但是也不是短期内能够解决的。这些都是西方国家经过上百年的积累才有了今天这样的成就，中国想在这方面赶上还需要很多人力物力时间的投入。光刻机之所以这么受瞩目，主要是因为在芯片制造方面起着不可替代的作用，荷兰的ASML公司目前几乎垄断了世界高级别的光刻机，由于西方的封锁，中国无法得到最先进的极紫外线光刻机，所以在芯片制造方面一直落后于台积电，这也极大地制约了中国的半导体发展。

总之，中国现在也意识到了这一方面的差距，也投入大量的人力物力，但是说实话，短期内真的很难赶上，这是西方上百年积累的优势，不是那么容易突破的。

光刻机的技术有没有可能是外星 科技 ，欧美各国瓜分了技术

要说有这样想打的脑洞确实挺大的，光刻机的技术并不是什么外星人技术，而是人类文明的成果，如果说是外星人的 科技 成果，那么就不可能仅仅是7nm或者是5nm制程的芯片了，而是采用1nm制程，或者是更加先进的制程。

目前来说， 真正能够生产制造光刻机的公司就是荷兰的ASML公司，也是全球最大的光刻机设备以及服务提供商家，而且在光刻机的高端市场中，荷兰ASML公司可以说是独占80%的市场份额，而升级的20%光刻机市场份额还是属于低端市场的，有中芯国际和上海微电子占据。

刚开始的研发光刻机公司是由飞利浦公司和荷兰ASML公司联合制造的，后来荷兰ASML公司收购飞利浦的股份， 开始真正的独立研发出来光刻机设备，而要说光刻机这种设备，并不是什么外星 科技 ，而是由不同国家能够合力生产出来的设备，有来自美国的光源，这是光刻机非常重要的设备部件，还有德国的镜头，瑞士的轴承等， 这些都是荷兰ASML公司经过几十年时间慢慢积累出来的，不是说能够一朝一夕生产出来或者研发出来的。

我国光刻机的发展状态以及能够达到的先进制程工艺

现在我们国家也是能够独立的生产出来光刻机的的，虽然说在光刻机的制程工艺上面不及荷兰顶级光刻机，但是也是能够有达到90nm或者28nm的水平， 在2002年的时候，光刻机被列为重大的 科技 攻关计划，在上海市和 科技 部的共同推动下，成立有上海微电子有限公司，经过十几年潜心的发展，现在的已经能够基本掌握光刻机制造的基本技术 。

光刻机的技术难以掌握是由于西方国家对我们的技术封锁，以及我们还没有形成一种完善的周边元器件的供应，这才是为何现在的国产光刻机制程远不如荷兰ASML公司的原因，这里面不仅仅涉及到芯片的研发，还有芯片的制造，芯片最为先进工艺的封装等，可以说光刻机是工业上的一颗明珠也是毫不过分的。

这个问题很有意思，但我觉得这绝对不是外星 科技 ，因为光刻机的原理其实并不复杂，在普通人眼里可能是觉得很神奇，但光刻机这个东西真的并没有那么神器，下面我说一下为什么我觉得这绝对不是外星 科技 。

外星 科技

很早以前就有很多自称见过外星飞船的目击者，我们试想一下，如果这是真的呢？

如果真的是外星人，光刻机的技术是他们带到地球来，然后被某个国家拦截打了下来，发现了光刻机的技术，那么外星人都已经有可以远距离行驶的宇宙飞船了，甚至可以进行空间跳跃， 那么为什么他们还会有光刻机这样的技术？ 光刻机对地球人来说可能非常先进，但对已经拥有宇宙飞船的外星人来说，这项技术明显应该是很落后了，所以我才觉得这不是外星人的技术，这只是第一点。

第二点

这第二点就是按照上面说的是光刻机的技术是外星人带过来的，被其它国家拦截击落发现的，那么按理来说这项技术只应该会被那个国家或某个企业给垄断，

但是现在光刻机市场只有80%是阿斯麦的还有20%的剩余，阿斯麦并没有完全垄断，现在其它国家还有很多企业在研制光刻机，所以完全说不通，难度这项技术被共享了?

我觉得没有哪个国家愿意开放这种技术，所以我觉得这不是外星 科技 。

光刻机的原理

上面说了光刻机并没有那么神奇所以我在这了解一下光刻机。

光刻机别名“掩模对准曝光机”主要用于生产芯片、封装和制造LED。

光刻机还分为3种类型， 接触式光刻、直写式光刻、投影式光刻 。

接触式光刻通过无限接近然后进行复制图案。

直写式光刻是将光束汇集成一点，然后通过运转工作台和扫描镜头来进行图形加工。

投影式光刻就是类似胶片摄影里的洗胶片，将光线投影到胶片上曝光，然后浸泡到显影液里得到想要的图像，投影式光刻机的工作原理就是这样的，也因为这样投影式光刻机有效率高并准确的优点，现在成为了主流的光刻技术。

看完这个现在感觉光刻机原理没有那么神奇了吧。

最后

最后总结一下，光刻机这项技术是人类自己创造了，并不是外星技术。光刻机是人类 科技 发展的必经过程，有了光刻机人类 科技 才能更近一步。

现在的时代用三体里面的一个词我觉得只能是 科技 爆炸，因为变化实在太快了，手机这种东西出现的时间不长，现在却已经成为了可以替代电脑的存在，其中手机芯片的光刻机更是进步飞快，但我们中国的光刻机技术起步晚，对最先进的阿斯麦显得非常落后，不过现在中国的光刻机技术进步是十分明显的，要不了多久，可能就可以超过阿斯麦，成为全球第一了。

【我国光刻机发展困难，是因为光刻机中有被外国瓜分的外星 科技 ？】

有人觉得现在我国光刻机发展困难，是因光刻机的技术中有含有外星技术。 所以我们不能突破的因素就在于此，我们没有获得外星技术，所以光刻机领域一直处在一种被动的境地。 这种情况的可能性大吗？我们的光客机真的是因为缺乏外星技术，所以发展困难吗？今天我们就来一起研究一下。

那离不开的技术限制

光刻机一直是一个令我们头疼，甚至感觉到窝心的问题。而我国光刻机技术为何难以发展？我觉得最主要的因素还是在于技术的限制，以欧美国家为首国家，他们签订了瓦森纳协议，在这个协议中明确规定了，成员国之间享受技术互惠，而对于中国朝鲜等国家，是禁止技术的传递。

我们的技术一直在被限制；各种协议的不到限定，让我们在技术发展中一直受到了影响。而光刻机对于技术的要求更大，因此我们很难发展。

从ASML成功找原因

1.ASML的成功之一，是因为多种技术的集合。比如它的光源来自于美国Cymer，光学模组来自德国蔡司，计量设备是美国，德国 科技 ，传送带则来自荷兰VDL集团。可以说多种技术的来源让光刻机能够迅速的发展，也成就了ASML。

2.拉拢股东，三星，台积电，海力士，英特尔等企业拉拢成为它的股东，从而得到丰富的技术和资金的支持。

其实，光刻机中将近80000多零部件，这些大多数是国外进口，比如离子注入机，单晶炉，晶圆划片机，纳米级陶瓷粉，微波陶瓷粉体，功能性金属粉体，来自于全球几百家企业。它的零部件才能够形成最优组合！

打破束缚，是一种长期的旅途

我们可以通过阿麦斯成功之道，如果中国光光刻机想获得成功，就必须要打破种种的束缚，而这种束缚不仅仅是多个国家多加企业所提供的零部件，更多的是在技术上面的共享以及技术上面的突破。

我一直认为我国如果想突破光刻机，一定要走自己之路。如果一味的去想模仿或者仿制，我们只会拾人牙慧，只有自己打破技术的限制，寻求一条属于我们的路，才能真正的实现光刻机的自主。

国产最新光刻机多少纳米（中国首台28nm光刻机问世）

;     国产芯中国“芯”!如果没有华为在通信科技领域的异军突起直接威胁到西方发达国家的核心利益，美国也不会如此丧心病狂的用一个国家的力量对付一个企业，当然我们老百姓也不会去关注芯片这个原本属于科技领域的事情。如今在中国的大街小巷和餐馆排挡，要说什么话题最火，那莫过于“华为5G”和“芯片”这两个话题了。

      人们除了惊讶于我国的科技水平居然已经达到了这种地步的时候，也在为我国什么时候才能突破高端芯片的技术封锁而着急。毕竟我们很多人都知道，我国在错过了第一次、第二次工业革命之后，就落后挨打了两百多年的时间，所以每人都都很清楚下一波工业革命的重要性。恰好华为5G的全球领先让我们看到了中国不仅能够赶上第四次工业革命，甚至很大程度上还有引领第四次工业革命的可能，每个人都兴奋不已。

      但是目前，我们不得不认识到我国在半导体集成电路方面还和西方发达国家及企业有着不小的差距。在这个节骨眼上，偏偏美国又开始歇斯底里的打击中国科技企业，企图拖慢整个中国的半导体领域发展进程，因此我们很着急，我国何时才能突破芯片的技术封锁呢?

      当然，着急是不解决任何问题的，如果着急有用的话，还要那些科研工作者和科学家干什么呢?我们一方面在着急的同时，也得清楚的认识到，即便在西方国家合力封锁我国芯片技术的背景下，我国自己的科技企业，还是取得了突破性的研究结果。

      比如我国现有享誉世界的北斗全球定位导航卫星，其中所用的三号芯片现在已经成功的打破了22nm的上限，上海微电子也在当前大背景下加班加点的研制出了能够生产22nm的光刻机。这个消息让全国的科技圈都十分的振奋。

      国产光刻机突破22纳米，差距还很大，为啥科研人员如此兴奋?

      有不明所以的网友会比较好奇，现在全球最顶尖的芯片是5nm制程技术，甚至连3nm制程的也已经在研发设计中，为什么我们才刚刚到22nm就让国内科研人员异常兴奋呢?原因其实很简单，打个比方在你极度饥饿的时候，别说给你一桌山珍海味了，就是给你一个平淡无奇的白面馒头你都能吃的津津有味!

      在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

      与此同时，西方发达国家的硅基芯片的制造已经接近了物理极限，“摩尔定律”正在逐渐的失效，我国的芯片技术又在不断的突围。此消彼长之下，我国芯片制造能力追平世界领先水平也只是时间问题而已，更何况我国也在同步研究更加具有竞争力的“碳基芯片”，如果一旦研制成功，我们甚至都不需要再依赖光刻机，那么西方国家的封锁手段也会随之土崩瓦解。

      所以，我们不能只是干着急，对于我国的芯片领域发展，还是要充满信心的。

全球有几台光刻机

从2015年第一台EUV光刻机问世以来，ASML的产量逐年增加：2015年1台，2016年4台，2017年11台，2018年18台，2019年26台，2020年31台，2021年41台。因此到2021年㡳全球EUV光刻机累计数量已经达到132台。

1965年我国就有了光刻机，为什么现在却大幅度落后？

我国从1965年起就已经有了光刻机，但之所以现在大幅度落后，可能是由于以下几个原因造成的：

在有了光刻机之后遭遇了国际间的冲突，导致我国的观客机发展受到阻碍。1965年，我国的第1台光刻机是从外国进口的，直到现在为止全国只有两个国家拥有光刻机的高科技手段。特别是荷兰的光刻机技术在全球是遥遥领先的，但由于荷兰受到美国的影响，并不愿意把光刻机的相关技术和设备出口给中国，导致中国的光刻机的技术研发和发展，大幅落后，经过了几十年的不断演变，也就造成了我国现在的光刻机的技术仍然没有达到成熟阶段。

很多光刻机的零件部位需要出口，本地没有生产。光刻机所要求的科技含量非常高，特别是一些零件部位需要完全依赖外国的出口，因为这些零件需要有专业的设计师和科技人员进行长时间的打磨和研发之后，才达到了光刻机零件的标准。从中国目前已有的相关技术来看，想要达到此项科技仍然需要一定的时间，因此从这一角度而言，也会出现大幅度的落后。

光刻机的印制必须清晰和准确，这一点我国的技术尚未达到。光刻机对镜头技术的要求很高，基本上达到了普通镜头的千万分之一，这就意味着芯片上的所有电路图除了依靠高科技手段之外，还需要有独特的光刻机研发技术，才可以使得芯片上的印制图案清晰准确。虽然我国也有部分的光刻机，但精确度没有外国出口的光刻机清晰度和准确度高，导致我国在后续的芯片研发和光刻机的发展中受到了很大的阻碍，在使用的过程中并没有体现出良好的性价比，种种因素就造成了我国的光刻机在全球都已经大幅的落后。