一、晶瑞股份
核心逻辑:进口替代助力业绩增长,国产光刻胶核心标的。
晶瑞股份是国内技术领先的微电子化学品龙头,产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池粘结剂等。
二、上海新阳
核心逻辑:半导体业务驱动21Q1经营业绩高增长,购买光刻机布局高端光刻胶项目。
上海新阳为拓展业务范围及产品应用领域,投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。
三、南大光电
核心逻辑:ArF光刻胶认证通过,国产材料持续推进。
南大光电主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。公司设立光刻胶事业部,并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”,全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施
四、扬帆新材
公司是全球光引发剂重要供应商,公司主要的光引发剂品种众多,其中部分产品可以用于光刻胶生产领域。
光刻机品牌主要有:ASML,尼康,佳能,欧泰克,上海微电子装备,SUSS,ABM, Inc.
第一,目前全球最先进的光刻机,已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。
而ASML也不是自己一家就能够完成,而是国际合作才能实现的。其中,制造光源的设备来自美国公司;镜片,则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。
第二,中国进口最先进的光刻机,是7nm。
2018年,中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机,当时预交了1.2亿美元的定金。请注意,当时这台机器还没有交付,而是下订单。
但国内市场上,其实已经有7nm光刻机。在2018年12月,SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。
第三,目前国产最先进的光刻机,应该是22nm。
根据媒体报道,在2018年11月29日,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米。
请注意该报道的标题:“重大突破,国产22纳米光刻机通过验收。”
也就是22nm的光刻机,已经是重大突破。
22nm的光刻机,关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备,打破了传统路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主知识产权。”
有关报道中的“全新的技术”,也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下,实现的这一次技术突破
中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。
华为麒麟受制于人,中芯国际不堪大用,澎湃芯片久不见进展,虎愤芯片勉强能用。
实用更是有很远的路要走。
大家放平心态。
掩模对准器的制造商是ASML。自1984年以来,ASML的光刻解决方案一直是半导体行业的创新领导者,并在如此小的规模内实现了巨大的飞跃。结合硬件和软件,它提供了在硅上大规模生产图案的整体方法。在全球16个国家和地区,有60家ASML公司的主要产品是光刻机,这是生产大规模集成电路的核心设备。在国际同类产品中占有90%的市场份额,14nm工艺以下市场份额100%。扩展信息:ASML为半导体制造商提供掩模对准器和相关服务。TWINSCAN系列是世界上最精确、最多产、应用最广泛的高端光刻模型。世界上大多数半导体制造商从ASML购买TWINSCAN型号,如英特尔、三星、海力士、TSMC、SMIC等。
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