中国何时能造出高端光刻机呢知乎(光刻机谁能造)

2022-12-03 9:20:40 股票 xialuotejs

我国能不能自己造光刻机?大家相信我国能造出来吗?

确保国家粮食安全才是最重要的,在工业生产领域门类齐全,技术够用,怎么都能对付,当然,吃饱饭,有闲钱的时候做一些基础性前瞻性的技术研发和技术储备对一个央央大国来说也很有必要!但粮食安全仍然是之一位的。

改革开放以前,南京无线电所就在研发光刻机,,,还有大飞机运十,大连523军工厂主攻的是核电蓄电池和核电民用,后来这些项目先后下马,造成今天被动的局面,挺多的遗憾。有些高精尖的产品研发,不是一朝一夕能完成,真的需要积累突破,发现问题一项一项解决攻克难关。

不单是光刻机,其他还有许多尖端设备、技术还需要我们去攻刻。 我们中华大国,被外国强权欺凌百年,这笔账迟早要清算,英日美等心里也清楚,在我们刚建国时,即有胆量在朝鲜与老美一较高下,更何况当前我们发展的势头迅猛。 文无之一,武无第二。老美当然要千方百计给我们添堵,只有将我们搞垮,它才心安。

关系到国家发展关键困难时,举国之力制造光刻机不存在对他国来说是很恐怖的存在。这又不是毁灭人类的超级武器。只能让他国明白对中国的任何技术封锁在举国之力之下是徒劳的!

当年的钱学森教授,也是留学美国多年,几经周折才回国的。他所掌握的技术专业,也没有离开美国科技土壤。如今,中国开发研究芯片,也应本着全方位开放思想,有利的因素都调动起来。无论是国内,还是国外的,都把积极性整合好,奔向一个目标发力使劲,相信中国最终一定能攻克芯片之难关!

如果中国以一国之力很快轻而易举的造出了光刻机。5纳米、2纳米,就会给人感觉特别强势,世界其它国家就会更害怕了,就会更快的形成围堵中国的外部环境,得给它们留下慢慢适应的时间,或者叫温水煮青蛙。即使我们已经做出来了,也得给人感觉很不容易,我们付出了巨大代价。没有国家希望世界有个如此厉害的对手。

光刻机由多个系统组成,每个系统都是世界顶级技术,比如光学镜头是德国蔡司公司所制造。我们只要集中力量,三年后镜头超德国,五年后诺贝尔奖得主人数超欧美,只要五年时间,中国技术全面先进了,欧美学生纷纷来中国留学而不是中国学生去欧美留学,到了那一天高端光刻机必将能造!

说分分钟造出来虽然有些夸张,但造出来显然不是很难的问题。 高端光刻机,全球每年只有20亿美元的市场需求,在可以买到的情况下选择自己去造,那中国的公司一定是疯了。 用来制造国防军事领域芯片的大尺寸中端光刻机,中国一直有,而且早就有。 大家一定要搞明白这件事,和目前很多需要进口的零配件一样,中国不造,是基于市场考量,不是技术无法攻关。

很多中国没掌握的技术不是没能力,而是出于利益的问题不想做。举个圆珠笔那个圆珠的例子,很多人说偌大的国家笔芯圆珠都生产不出来,其实不是中国没能力做。日本有现成的珠子卖,价格也不高,买来用是最实惠的。如果中国自己作,首先研发是一笔费用,生产出来后因为附带研发成本,销售价格肯定要比日本同类产品价格高,销售没渠道,就是国内厂家也不会用高成本的产品,没有市场竞争力,也就是不赚钱,也就没有厂家做这事了。但如果上游掐了脖子不买给我们,做个笔芯珠子也就是很短时间的事。

光刻机不是人多就能造出来的。它需要的透镜的技术太苛刻,而且可能人工合成的透镜无法达到要求。日本有世界上唯一一块巨型天然透镜,是从非洲发现并购买回来的。唯一性是不可代替的,多少人也没办法弄出来。日本的顶级光刻机可能隐藏没有公布出来。

光刻机是 *** 很多国家的高科技企业,历时十数年才有今天的成就,中间申请的专利权不计其数,光刻机制造原理都知道,要想制造出领先水平的光刻机,可能性微乎其微,因为首先你要绕过他们的专利技术,再制造出光源,光学镜片,精密机械,不是一个国家三年、五年,甚至十年能办成的事。

中国何时能造出高端光刻机呢知乎(光刻机谁能造) 第1张

中国现在能生产高端的光刻机 吗?

我国能生产光刻机。只是在技术水平上与国外更先进的有差距。

不过我们一直没放弃努力,现在已经有望缩小差距了。再坚持一下,黎明前的黑暗就会过去。

光刻机是芯片生产的关键设备之一。

芯片生产,需要用到几个最关键的设备:分别是光刻机、刻蚀机、清洗机、等离子注入机。我们都能生产。刻蚀机已经达到世界最顶尖水平。清洗设备和等离子注入也堪用。现在差的就是高精度的光刻机。

光刻机有什么用呢?下面通俗说一下光刻机在芯片生产中的作用。

下面把芯片生产比喻成木匠雕花,可以方便普通人理解。(二者主要是精度差别,材质差别。木匠雕花精度到毫米即可,芯片要到纳米。木匠用木头雕刻,芯片用硅的晶圆雕刻)

芯片生产:

之一步:设计。芯片设计公司进行设计,最后出图。这就像木匠雕花,先由设计师画图。

第二步:备料。芯片的主料是圆晶,就是硅,当然还要用些辅助材料。木匠买来木料等。

第三步:放样。这时要用到光刻机了。要用光刻机把设计好的图纸画到圆晶上。这里要求精度必须和设计精度匹配。如果这一步做不了,后面就只能干瞪眼了。木匠也要放样,根据图纸,在木料上把要雕刻的图样描画好。。

第四步:施工。这时刻蚀机上场。有等离子刻蚀或者化学刻蚀可选。刻蚀时按图施工。这就好比木匠师傅按画好的图案雕刻,使用凿子,刻刀是一样的。施工中要注意保持环境卫生。

第五步:清洗。其实是和施工混合在一起的,边施工边清洗。这就好比木匠雕刻时用毛刷,或者用嘴巴吹木屑。只是芯片要求的清洗超级严格。

第四、第五步要重复多次,具体情况视加工芯片的复杂情况而定。

第六步:封装。施工完毕后要保持住施工成果,隔绝一切可能的伤害,芯片封装要求也很高,要用到离子注入等设备。木匠这环节简单。施工完毕后,现场都清理干净了,弄点清漆把作品保护好。

如果不能用高精度的光刻机放样,是生产不出来高水平的芯片的。光刻机在制造流程中要使用多次,包括最后的封装环节也要用。

下面说说光刻机的市场状况:

现在高等级的光刻机世界上有美国、荷兰、日本三个国家5个公司能生产。分别是荷兰的A *** L、日本的Nikon、日本的cannon、美国的ultratech以及我国的上海微电子( *** EE)。

这五家里面,荷兰的A *** L一家独大,完全垄断了高精度光刻机。

目前还在追赶的,只有中国,其他几家都放弃了。因为难度太大。

目前A *** L的技术是10nm,马上是7nm。

上海微电子的技术是90nm。

我们能买到的最新设备的技术是中芯国际即将投产的生产线1

好消息是2017年,长春光机所承担的国家科技重大专项项目“极紫外光刻关键技术研究”顺利通过验收,这标志着国产22-32 nm设备就要出来了。我们离A *** L又近了一步。

如果中国举全国力量研发芯片和研制光刻机需要多长时间?

如果中国举全国力量研发芯片和研制光刻机,也需要10-20年左右。

在中国芯片制造被漂亮国“卡脖子”的时候,A *** L总裁Peter Wennink曾经在一次科技会议上明确表示,“高端的EUV光刻机永远不可能(被中国)模仿。”虽然说,皮特老板的话听起来不太顺耳,甚至有些打击我们的积极性和自信心,但是不得不说,人家能说出这一番话来,肯定是有人家的底气的。

A *** L的皮特老板还说:“因为我们是系统集成商,我们将数百家公司的技术整合在一起,为客户服务。这种机器有80000个零件,其中许多零件非常复杂。”据他介绍,许多企业专门为光刻机生产诸如镜头、反光镜和其他光学部件,目前为止,世界上的任何公司都不可能轻易地模仿制造。

实际上,许多网友对此言论是有些不屑一顾的,他们似乎觉得生产光刻机其实并不难,只要中国拿出当年自力更生地研发制造“两弹一星”的精神和意志来,那么,哪怕四处碰壁、困难重重,也一定能得偿所愿地制造出中国自主知识产权的光刻机来。

但是这样的说法,显然太过主观臆断。

无论如何,想要造出高精度、高可靠和高品质的光刻机,都不是一件容易的事。

就拿A *** L公司来说,虽然是荷兰公司,但是背后却是美国资本的掌控。在全部数万个零部件中,有许多关键部件,都是来自美国和日本的高科技公司。而美国科技的领先,一方面是在大量资本投入下设计研发的先进,另一方面更是世界各国科技人才的趋之若鹜。

有财富、有资本,又有人才,点满了“科技树”的美国科技,自然在光刻机和芯片领域一往无前。

纵观短短几十年的芯片技术发展史,荷兰的A *** L公司坚持技术整合,迎合客户需求,抓住了电脑、手机和数码产品水涨船高、突飞猛进的历史机遇,堪称是美日两国在半导体科技领域相互竞争的“幸运儿”。

就咱们国内的半导体行业来说,上海微电子的光刻机在2019年以前保持在90纳米左右,已经是国产光刻机的更高水平,但是在“卡脖子”事件之后,国产芯片制造产业显然得到了迅猛发展。据悉,上海微电子在两年内已经率先研发出28nm光刻机的先进技术,并有望尽快向企业交付。而中科院光电所已经研发出光刻分辨率达22nm的技术,但是研究归研究,想要量产出来,成千上万零部件的设计研发、制造整合,都会是层出不穷的大问题。

不管怎么说,上海微电子和中科院光电所能够研发出成熟可行的光刻机技术,值得我们每一个中国人庆贺,但是我们也要看到,国内光刻机和荷兰A *** L光刻机,仍然有设计研发、零部件整合与制造工艺方面的巨大差距,而西方国家深耕细作几十年的技术壁垒和鸿沟,我们想要在两三年内寻求突破,无疑是比较困难的。

虽然说,研发国产芯片和研制国产光刻机是摆在华为“打工人”和我们每个中国人面前的“当务之急”,但是正所谓“欲速则不达”,在当前的形势下,我们既需要快马加鞭地加速追赶速度,也需要统筹兼顾国内半导体行业的发展现状。

或许等到某一天,咱们中国人就是“专治各种不服”,成功地凭借着顽强不屈的精气神和举国之力的众志成城,研发出了高精度光刻机,到那时候我们也必须牢记:再先进的光刻机,也是用来脚踏实地生产芯片,完善和改进我国的半导体产业链的,而不是摆出来“论功行赏”,给脸上“贴金”的。

因此,正常来说,就算是中国举全国力量研发芯片和研制光刻机,也需要10-20年左右。

如果心急火燎,抡圆了胳膊,一窝蜂地“大干快上”,很容易忽略科技发展的正常规律,反而会造成各种意想不到的问题。

但是就我个人来说,我当然希望光刻机的研发制造越快越好!

中国有可能研发出成熟的光刻机吗?如果能,要多久?

中国目前已经有了成熟的光刻机产品,只是说在技术水平上和光刻机的领头羊A *** L差距比较大而已。

我国企业已经量产了90nm制程的光刻机虽说中国在中高端光刻机市场缺乏竞争力,但是在低端光刻机领域还是占据了相当大的市场。目前国内更好的光刻机企业是上海微电子,已经能够生产出来90nm制程的光刻机;据相关报道该企业的28nm制程的光刻机将于2021年正式量产,有生产出7nm芯片的能力。不过现在并没有成品曝光,相关的数据暂时还不能确定。现在的难点就是如何在中高端光刻机领域取得突破,如果一直只是在低端市场摸爬滚打,那么最后的收益相当有限。

光刻机技术落后其实是历史遗留问题其实在上世纪八十年代的时候中国光刻机技术处于世界领先水平,当时A *** L还只是一个小公司,在众多企业中并不显眼。为什么中国的光刻机最终全面落后?主要有外企进入中国和不舍得花钱两个原因。在八十年代大量的外企进入中国,带来了众多成熟的产品和技术,芯片就是当时技术含量更高的商品之一。外企的芯片相较于国内的企业来说质量好价格也便宜,于是众多的企业纷纷开始直接购买外企的成品而放弃了自主研发。由于缺乏国内订单大量光刻机企业开始谋求转型,再加上当时国家也并没有进行相关扶持,最终在光刻机领域就慢慢的落后其他国家。

目前国内的研发环境并不算好毫无疑问光刻机算的上目前科技界最顶尖的技术之一,这种技术要完成赶超需要不断的和其他国家交流合作,从他们的产品中吸取经验和教训,进而才能在有限的时间内完成赶超。但是现在是什么情况呢?国外的企业在光刻机领域纷纷拒绝合作,我们只能选择闭门造车。只要美国不放松对国内光刻机企业的围追堵截,那么我们只能投入巨额的资金和技术慢慢追赶。不过A *** L公司的产品已经和国内产品差距太大,短时间内没有任何追赶上的可能性。如果我们想要绕过现有的光刻机技术走出一条自研道路,那么需要的时间可能更久。从目前的形势上看,我们的光刻机如果想追上现在国际一流水准的话最起码都要十年以上,想要完成赶超更是天方夜谈。不过现在压力大也是好事,在强压的下的中国企业肯定会更有拼劲,说不定未来会创造奇迹呢?

中国何时能造出来自己的光刻机?

现在世界上顶级的设备毋庸置疑就是A *** L的5纳米光刻机。这台机器如果一一拆分开来的话可以装进大约40个集装箱之中,超过100000万个零件的总数量在机器领域绝对算得上是庞然大物。而且这10万个零件之中,精密仪器、顶级光源、超稳定轴承和计量器一个都不少。它们分别来自全球各个国家,包括日本、德国和美国。而其中,美国为光刻机提供的基础零件其实也比较多,正因如此他们才能如此硬气的要求芯片代加工厂商禁止向华为输出产品。

中国能造光刻机吗?

以我国现在的实力当然有能力生产光刻机。在很早以前,中国上海微电子 *** EE就已经生产了SSB500/10A型号的光刻机产品,并且已经交付使用,不过,目前中国能够量产的光刻机性能更好的是90nm光刻机,和荷兰A *** L公司更先进的5nm光刻机仍有着巨大的差异,然而制造先进光刻机技术的封锁,那我们还无法学到难道更为先进的光刻机技术,以致于现在国内所需要的高端光刻机也只能依赖进口。

现在,在高端光刻机领域荷兰A *** L一直霸占了龙头老大的位置,他们生产的光刻机占据了市场份额的80%左右,可以说近乎垄断了高端光科技的市场,目前在世界上更先进的EUV光刻机也只有A *** L能够生产,而这种光刻机的售价高达1亿美元一台,无论是Intel还是台积电所需要的14nm光刻机,都需要从他们这里购买。