波兰不生产光刻机,生产光刻机的是荷兰。
全球唯一能制造高端euv光刻机的是荷兰阿斯麦尔公司,euv光刻机是采用13.5纳米极紫外光光源,为第五代光刻机,与第四代光刻机光源的193纳米深紫外光光源,技术上提升非常巨大,该光刻机可以说是全球尖端技术集大成者。波兰这个国家不生产光刻机。
65纳米
asml与台积电联合制造的样机沉浸式光刻机TAT:1150i) 2005年65纳米。
15纳米。
在上世纪九十年代,尼康和佳能才是全球光刻机霸主,当时根本就没有ASML什么事,只是后来包括尼康和佳能都陷入了157纳米光刻机技术困境当中。
而他们又不转变思路,结果荷兰ASML通过采取台积电建议的浸入式技术,实现了技术上的突破,然后开始把尼康和佳能远远甩在身后,从2011年之后,ASML就几乎垄断了全球所有的高端光刻机市场。
我国光刻机研发
我国也有不少企业和科研院所在研发光刻机,而且我国在2007年就实现了90纳米光刻机的技术突破,但直到现在我国真正量产的光刻机也一直停留在90nm,虽然前段时间上海微电子宣布已经成功研发出28纳米光刻机,但要真正量产也需要等到2021年底或者2022年。
但是从28纳米到7纳米还有很长的路要走,在这过程当中,首先要突破14nm才可以,因此我国什么时候能够研发出7纳米光刻机还是一个未知数。
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