央视光刻机（央视光刻机最后一块拼图）

央视: 中国中微正式宣布掌握5nm刻蚀机技术!

当中国中微公司宣布已经掌握5nm刻蚀机技术并领先全球的时候，有不少国内自媒体再次站出来，义正言辞地宣布中国的芯片制造业已经领先全球，不惧美国、荷兰、德国、日本等高科技国家。

就5nm刻蚀机技术而言，中微确实已经步入世界领先水平，但绝没有像公众号鼓吹的那般“实现弯道超车”。其实芯片制造业的上下游供应商和制造商有很多，中微也仅是在这一个闭环中的一个环节上取得领先地位，但在芯片制造业的整体水平仍是落后状态。

荷兰ASML公司几乎垄断了全球的高端光刻机生产及供应，尤其是EUV光刻机，在2019年仅向全球供应了26台，其中近一半都被提供给了中国台湾的台积电。而中国大陆的中芯国际连续多年向ASML公司提出购买要约，并先期支付巨额交易费用，却迟迟等不到荷兰ASML方面发货的消息。

央视正式宣布，国产EUV技术大获突破，ASML总裁预言成真

任正非曾表示，我国拥有世界顶级的芯片设计能力，掌握着世界上最先进、成熟的芯片制程工艺，由于光刻机和化学材料被卡了脖子，国内企业无法独自制造出高端芯片。

然而，让所有人没想到的是，不久前，央视正式宣布，国产EUV光刻机取得重大技术突破，且0.1nm的光源设备已投入使用！

随着 科技 的发展，智能电子产品的普及，很多领域的发展都已离不开芯片的支撑，掌握芯片已上升为世界各国的战略层次。

众所周知，我国进入半导体领域较晚，西方国家为了防止我国 科技 的崛起，早在几十年前签订了《瓦森堡协定》，禁止向我国出口高尖端技术，且国内企业过于追求轻资产的发展，而忽视了对重资产投资的重要性，以至于国内所消耗的芯片，70％以上都要依赖进口。

上文也提到了我国为何无法独自制造出高端芯片的原因，光刻机被卡了脖子！或许有的人会问，我们原子弹都能造出来，为何造不出EUV光刻机？

EUV光刻机的制造是一个项目工程，不仅需要大量的高尖端技术，还需要海量的高精密元器件。如ASML公司制造的EUV光刻机， 所需的元器件高达10万件，来自世界上35个国家的1500多个企业，且每一件都代表着业内的最高水准。 值得一提的是， ASML公司制造EUV光刻机所需的核心元器件，没有一件是来自我国企业，可以预见，我国要制造EUV光刻机的难度有多大。

随着美国不断对我国企业进行芯片制裁，让我们意识到： 在当今这个时代，要想摆脱被人鱼肉的命运，就必须实现技术独立，制造出EUV光刻机，实现高端芯片的国产化。

2020年9月16日，中科院正式宣布，已根据“卡脖子清单”成立了对应的科研攻关小组，且光刻机技术攻关团队的每一位科研人员立下了军令状，争取在短时间内攻克技术难关，制造出国产EUV光刻机。

随着国内“造芯”浪潮的掀起，ASML公司总裁在不久前发出警告： 如果不将光刻机卖给中国，三五年之后，中国就会拥有自己的光刻机，凭借着强大的成本优势，很可能在15年之内将ASML公司逼出光刻机市场。

如今，随着央视一则关于国产EUV光刻机的发布，终于进一步验证了ASML总裁的预言。

近日，央视正式宣布： 我国已经在EUV光源和双工件台技术上取得重大突破！

据央视公开的消息来看，中科院自研的国内首台高能光源设备已经开始使用，且安装完成度已超过70％。中科科美也掌握了透镜镀膜技术，制造出了光学零件0.1nm的镀膜设备。

了解EUV光刻机的朋友都知道，EUV光刻机是由3个核心部分构成的： EUV光源、双工件台和EUV光学镜头。如今，我们已经突破了EUV光源和双工件台技术，这也就意味着，我们只要实现了EUV光学镜头的制造，即可制造出国产EUV光刻机。

在这个经济全球化的时代，各国企业之间的联系越来越紧密，分工越来越清晰，已经形成了“你中有我，我中有你”的现象，如果一家企业受到非正常的“攻击”，整个产业链都会受到严重的影响， 美国制裁华为，加剧世界“芯荒”就是一个很好的证明。

国内半导体行业不断传出的好消息，向世界传递了一个重要信息： 任何要想奴役我们 科技 的国家，必将会在我国企业、科研人员和14亿国人用血肉筑成的铜墙铁壁面前，碰得头破血流！

荷兰解除禁令，向中国出口光刻机，他们是怎么想的呢？

荷兰最终解禁，卖给中国的光刻机，但这个荷兰先进的光刻机并不代表中国芯片行业的腾飞。中国芯片行业真正的救星，一定是中国自己。特朗普离开白宫后，外国强加给中国的所有技术限制似乎都失败了。就在上周，好消息来了，一直处于反对向中国出售光刻机保护主义状态的荷兰，同意以12亿美元的价格从全球光刻机巨头ASML (Asme)购买14nm光刻机。

很多人认为这次收购会拯救中国的芯片行业。但是真的是这样吗？

长期以来，由于光刻机的特殊性，中国网民甚至将其视为半导体行业的生命线。但其实光刻机只是芯片生产线的一部分。还是一个制作环节。芯片的生产至少需要七个主要过程，即扩散、光刻、蚀刻、离子注入、薄膜生长、抛光和金属化。那么每个流程需要多少设备呢？

以SMIC 12英寸集成电路为例，我们需要22种扩散设备、8种光刻机、25种刻蚀设备、13种离子注入设备、12种研磨抛光设备和17种清洗设备。此外，还有涂胶设备、PVD设备、检测设备、检测设备等。生产环节也就几百个。一台光刻机不是万能的，它可以解决上百个生产环节的问题。所以单用光刻机是绝对不可能实现中国芯片的全面飞跃的。然而，这并不意味着我是悲观主义者。外国人把光刻机卖给中国，确实可以算是中国芯片行业的一个重大转折点，但最重要的一点不在光刻机，而在卖光刻机。

事实上，中国现在可以制造激光雕刻机，主要制造商是上海微电子。这家公司曾经去过央视的节目，是做光刻机的。虽然它的技术在中国是顶尖的，但在世界上是落后的，落后于荷兰的两代ASML。不过根据中国人的实力，不用担心他们有多落后。如果他们有，他们很快就会赶上国际主流标准。

欧美国家这次愿意把自己的光刻机卖给中国馆的主要原因是老套的原因，就是因为中国有。当中国没有某项技术的时候，欧美国家肯定会想尽办法阻止中国购买或者研发。

但是当我们有了这项技术，对方就会解除对我国的一切限制。在同一个芯片行业，第一个拿到欧美提货单的其实不是光刻机，而是蚀刻机。这项技术禁令的接触时间是2015年。当时美国商务部下属的工业安全局这样说：中国实际上已经从中国企业获得了与美国产品数量和质量相当的蚀刻设备，继续实施国家安全出口管制措施毫无意义。现在的中国完全可以自己生产芯片制造所需的所有仪器，不会太落后于国际领先水平，顶多落后国际主流水平一到两代。还有一些产品，比如Microsemiconductor的蚀刻机，已经达到国际先进水平，有一小部分水平停留在三代之前。

其实这种发展状态可以说是相当不错了。毕竟大家都听过木桶理论，决定木桶能装多少水的永远是最短的短板。目前中国芯片行业的诚信度很高，不亚于美国日本这种老牌半导体大国。这意味着我们没有很多特别短的短板，只要努力就能赶上。另外，今天的芯片制造技术越来越接近物理极限。就像当年大规模集成电路取代晶体管一样，集成电路很难继续取得突破。如果没有新技术的出现，7nm芯片很可能是人类已经可以实现的最高工业成就。这给我们的半导体行业带来了一个非常宝贵的窗口期。

如今，中国半导体发展产业不缺科研人才和国家政策，发展速度和RD实力都很强。接下来，我们需要考虑保护技术不受损失的问题。北华创董事长赵曾说，中国芯片产业最大的优势是发展极快。这是好的，但是我们缺乏行业内的口碑和影响力。如此高价开发的芯片根本卖不出去。

其实这个不难理解。毕竟商人出来挣钱。虽然他们有国家政策，但他们可以迅速开发新设备。但是如果设备开发出来卖不出去，那就是亏了。长期亏损会导致企业倒闭。看来能做的要么是国家强行购买输血，要么是企业倒闭，技术流失。这不是危言耸听。其实美国工业的空心化就是这个原因造成的。不说别的，就在前几天，美国还邀请人反向研究B-2轰炸机，这已经证明了市场的缺乏对一个企业是多么致命。所以，中国现在要做的，不仅仅是用政策来协助企业进行新产品的研究，还要给这些国有企业一个机会，让他们在一些国产产品上使用国产芯片，从而帮助他们做出口碑。否则，如果因为缺乏保护而破坏了技术，那就太可惜了。

所以我支持买荷兰现金光刻机，但是不能全买。卖完之后继续学习模仿才是正道。不要让国外的先进产品冲击中国本土的成就。总的来说，中国芯片行业的未来是光明的，但这光明的未来不是荷兰光刻机带来的。相反，因为中国的芯片产业前景光明，荷兰愿意给我们光刻机。

中国有荷兰光刻机吗

有。

目前荷兰终于解除禁令，卖给中国光刻机了。所以中国有荷兰光刻机。

但这个荷兰先进光刻机并不能代表中国芯片行业的腾飞。中国芯片行业真正的拯救者还得是中国自己。

原本外国加在中国身上的科技限制仿佛全都失效了一样。就在上周，有一个好消息传了过来，那就是一直以来处于保护主义不卖给中国光刻机的荷兰，同意我国以高价从全球光刻机巨头，ASML（阿斯麦）手中，采购14nm光刻机。

长久以来由于光刻机本身的特殊性，我国的网民甚至一度将其看作了半导体产业的救命稻草。但事实上，光刻机，只不过是芯片生产线上的一个零部件而已。或者说是一个生产环节。而一个芯片的生产，至少需要七大流程，分别是扩散，光刻，刻蚀，离子注入，薄膜生长，抛光以及金属化。

那么每个流程又需要多少设备呢？我们以中芯国际的12寸集成电路为例，造一个这玩意儿需要扩散设备22种，光刻机需要8种，刻蚀设备需要25种，离子注入设备需要13种，研磨抛光设备需要12种，清洗设备需要17种。

此外，还有涂胶设备，PVD设备，测试设备，检测设备，等等等等，林林总总少说得要数百个生产环节。一个光刻机，可不是万能药，能解决数百个生产环节的问题。

所以，单纯一个光刻机，肯定不可能实现中国芯片的全面飞跃。

但是，这并不意味着我是一个悲观主义者，外国人卖给中国光刻机这件事情的确

可以看作是中国芯片行业的重大转折，只不过最重要的点，并不是在光刻机上，而是在卖上面。

我国现在其实已经可以制造激光刻机了，主要制造厂商不是别家，是上海微电子。这家企业曾经还上过央视的节目，就是在将光刻机的制造。

其技术虽然是国内顶尖，但是在国际上就比较落后了，落后于荷兰的ASML两代水准。但是按照中国人的实力，别管落后多少，有就行，只要有了，很快就能追赶上国际主流水准。

而这次之所以欧美国家愿意把自家的光刻机卖给中国馆，其最主要的原因还是那个老生常谈的理由，那就是因为中国有了。在中国没有某项技术的时候，欧美国家肯定会横下一条心，用全力阻止中国购买或者是研发。

但是当我们有了这项技术的时候，那么对方就会知趣地解除掉所有关于我国的限制。同样是芯片产业，最先拿到欧美解除令的其实还真不是光刻机，而是刻蚀机。这项技术禁令的接触时间，是在2015年。

当时美国商务部下属的产业安全局是这么说的：中国已经从事实上获取了来自中国企业的、和美国产品数量、品质相当的刻蚀设备，继续实施国家安全出口管制措施已然毫无意义。

现如今中国已经可以完全可以自行生产芯片制造环节中需要的全部仪器，而且不会落后于国际领先水准太多，最多也就落后国际主流水准一代到两代。也有个别产品，比如中微半导体的蚀刻机已经达到了国际先进水准，还有一小部分水平停留在三代以前。

总的来说，中国的芯片行业，前途是光明的，但是这个光明前途，并非是荷兰光刻机带来的，相反，是因为我国芯片行业的未来光明，荷兰才愿意给我们光刻机。

未来世界最大的机遇是中国。随着超级市场的需求和教育水平的提高，中国将有越来越多的科技人才，芯片光刻技术顺理成章轻松解决。

0.1nm！央视宣布好消息：EUV光刻机最后的一片拼图

EUV光刻机号可以说是人类工业史上的皇冠，其内部的零部件就达到了10万颗，背后还有5000多家供应商，所以说，单凭一个国家的 科技 水准，是很难制造出完整EUV光刻机的。

谈到光刻机就肯定避免不了芯片，当下芯片领域的发展一直是全球关注的重点，光刻机作为芯片制造的基础，一直是我国难以跨越的鸿沟，尤其是在高端光刻机方面，但是好在是EUV光刻机虽然难度大，哪怕是ASML公司也是集合各家所厂研发而成，这样一来，在一定程度上完成逐一突破便也有了可能。

说到这，就必须要提到EUV光刻机的三大核心组件：双工件台系统、EUV光源系统、EUV光学镜头

不过功夫不负有心人，我国在光刻机领域终有所进展

此前，关于双工作台组件，清华大学与北京华卓精科合作，已经实现了65nm工艺光刻机需求的双工件台样机。这一突破也表示，我们成功打破了ASML公司在双工件台上的技术垄断，实现了自主研发生产。

另外一个用于EUV光刻机设备的EUV光源，同样也是清华大学率先破局！

据“央视新闻联播”报道，由国家发改委立项支持、中科院高能物理研究院承建，国内首台高能同步辐射光源科研设备于2021年6月28日上午安装。与此同时，负责为这台光源设备提供技术研发与测试支撑能力的先进光源技术研发与测试平台启动试运行

此外，中科科仪旗下的中科科美也传来佳讯，其研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置于2021年6月28日正式投入使用。央视新闻联播对此也做出报道。

正所谓好事成双，关于这两项重大突破，可能不少人还是一头雾水。笔者尽量简洁明了地概述一下。

其一，中科院的高能光源设备是全球最亮的光源之一，在实现设备安装之后，也让中国在光源技术上有了深厚的积累。对国产光刻机的意义也是十分重大的，如果用在高端光刻机上，解决光源问题，避免国外依赖，那么在国内自主光刻机产业中将取得更大的话语权。并且在此项设备建好并安装完成之后，将成为国内首台高能量辐射光源、全球亮度最高的第四代光源之一，为很多重要的科研领域提供了最基本的技术支撑。

这是中国首次研制出高能量同步辐射光源，也是全球亮度最高的第四代同步辐射光源之一。

而且为了提高光源的精度和质量，中科院还专门配套研究了一个真空镀膜设备，可以将光学镀膜的厚度降低到0.1nm以内，能达到什么程度呢？实现0.1nm（100皮米）以内的真空纳米镀膜，要知道ASML的EUV光刻机都是德国0.蔡司提供的光刻机镜头，而蔡司公司也只有20多个工程师达到该水准。

也就是说，中科院的光学镀膜水平已经达到了世界前列，再加上第四代辐射光源的支持，国内要不了多久就能全面攻克EUV光刻机。

写在最后

伴随国家对半导体行业的重视，国产厂商在半导体领域中实现了许多从无到有的突破。照此趋势下去，相信我们距离实现先进制程芯片自主化生产的目标已经不远了。祝愿国产半导体厂商能够愈发强大，早日解决半导体核心技术卡脖子的问题，在半导体领域中所向披靡。

有志者，事竟成，相信随着中国科学家，科研人员的不断研究，还会取得更多项技术的攻克。

光刻机只是生产芯片的一部分设备，虽然实现了这部分某些技术领域的突破，但要想打通全产业链的自给自足，仍需要努力前行。美国的光源技术，德国的光学系统都处于世界顶尖水准。

但不管有多大的困难，中国都不会放弃自研，国产光刻机一定能迎来最终的崛起。