90纳米光刻机可以生产多少纳米芯片（光刻机现在能做到几纳米的芯片）

国产芯片能生产多少纳米

国产芯片水平只能实现90纳米。

从芯片制造环节看，光刻机、蚀刻机、晶圆、光刻胶等设备和材料占比很大。其中光刻机设备，目前上海微电子是90纳米。高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口，其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此，我国要生产高度国产化的芯片，目前90纳米是一个分界点。

这其中还不包含芯片设计使用的EDA设计软件和其它的电子化学气体材料。EDA软件被誉为“芯片设计上的明珠”，国产率不到2%。

90纳米芯片！相当于2004年的半导体工艺。2007年，苹果上市的第一代手机就是使用了90纳米的处理器。可以说，90纳米芯片瞬间让大家回到了15年前的科技生活。

当然，这样的结果只是一种极端的假设。我国半导体产业链，并不是这么差。有些环节、技术、设备已经达到国际水平。譬如芯片设计、人工智能、大数据、5G、蚀刻机。换言之，半导体基础把我国半导体的综合能力拉低了。

90纳米光刻机芯片多大

90纳米光刻机芯片到底有多大？台积电在大概在04年和05年时它的90纳米制程工艺技术才完全成熟，纳米是比头发丝还小的概念，90纳米并不是说芯片的整体外观大小，而是指在芯片上光刻布置的元器件的间距。其实90纳米光刻机芯片整体外观大小与现在7纳米，14纳米光刻机芯片整体外观差不多是一样的，只是芯片上面布置的元器件多少的问题，比如90纳米光刻机芯片上可以光刻上10亿个元器件，而7纳米光刻机芯片就可以光刻上50亿个元器件。显然，7纳米光刻机芯片功能要强大的多，因为7纳米光刻机芯片上元器件要多得多，设计更完善，更合理，功能越强大。

中国有光刻机吗？能做几纳米技术的芯片

中国有光刻机的可以做5纳米技术的芯片的，可以关注这方面的科技信息，中国能够自主研发出5纳米长度的计数芯片了

上海微电子的90纳米光刻机已经通过了验收，它在该领域内是什么水平？

我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平。

但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的。对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法实现，毕竟我国在光刻机这一步起步要远远晚于国外。并且很多技术都已经被国外垄断，我国只能够自主进行设计，期待有一天能够实现弯道超车。

我国芯片水平难以前进，这与人才有关。

我国芯片水平局限于当前，这个标准与人才有关。我国无法培养出相关方面的人才，毕竟在这一领域内，我国还无法和西方进行比较。尤其是在人才方面根本无法和西方进行对比。这也导致我们没有优秀的工程师，只能够请国外的高薪工程师。但是国外请来的高薪工程师对技术把关非常严格，一般情况下是不会将技术透露给我国工程师，这也导致我国芯片水平局限于当前尴尬的地步。

第二点便是资金不够。

这里所说的资金不够，并不是所说的投资不够，而是光刻机芯片这一行业的利润不够。因为我国目前市场上的芯片都是由外国制造的，国产芯片在我国市场根本没有任何竞争空间。这也导致了很多科技公司不愿意往芯片这个方面发展，这也是我国芯片落后于西方国家的其中一个原因。

第三点便是没有自主设计专利。

目前国际上的芯片设计专利都已经被国外的光刻机公司垄断，我国能够申请的专利少之又少。基本上芯片设计的所有方面的专利都已经申请完了，剩下的专利技术对于芯片提升来说用处不大。所以归根结底以上三点便是我国芯片落后于西方国家的根本原因。