光刻理论极限（光刻机理论极限）

光学光刻技术的极限是多少

这要看你的曝光机的精密度，范围比较大的在2um左右吧，极限肯定要比这个小

光刻机的极限在哪里？

2020年3月28日，中国计算机学会做了一个 CCF YOCSEF 技术论坛：量子计算机离我们还有多远？的主题，主题上 张辉（合肥本源量子计算 科技 有限责任公司副总裁，中国科学技术大学博士）做主题演讲时候有提到，3nm是经典计算机的工艺极限，就是因为量子的问题。本源量子是国内中科院旗下的做量子计算机方面的公司。

之前中芯国际副总曾经在喜马拉雅的音频节目中回答过这一提问，他说1nm的光刻机工艺并不是技术上难以逾越的门槛。只是目前采用投影或浸入式的技术还难以做到1nm工艺，但其实世界上已有直写技术可以做到1nm了，只是采用直写技术的硅片没有商用价值，只能制作掩膜版用，所以说3nm更不是极限了，那么光刻机的极限在哪里呢？接着往下看。

光刻机的极限

其实光刻机极限已经快到了，因为硅这种材料的极限在1纳米左右，如果想要超越1nm,那就得换材料了，但是目前地球上已经发现的材料中，没有比硅更适合的了，所以末来十年都很难超越1nm工艺，除非科学家能发现一种新材料，当然，这种可能很小。

超越1nm很难，那么达到1nm呢？目前要想达到1nm，目前当芯片内部线宽窄到3nm，电路中用于导电的铜线之间的间距太小，就会发生短路，所以说达到1nm都很难，只能寄希望于量子技术的突破了。

荷兰ASML（阿斯麦）公司的现状

在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。

根据ASML之前的报告，预计2020年将会交付35台EUV光刻机，到2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时，支持7nm、5nm。

荷兰ASML（阿斯麦）公司的极限

与之前的光刻机相比，ASML新一代光刻机的分辨率将会提升70%左右，可以进一步提升光刻机的精度，毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的。不过新一代EUV光刻机还有点早，至少到2022年才能出货，大规模出货要到2024年甚至2025年，届时台积电、三星等公司就可以考虑3nm以下的制程工艺了，所以说到2022年光刻机的精度有望达到3nm,要想达到1nm，估计要到2030年了。

总结

总结来说1nm应该是光刻机精度的极限，预计要10年左右才能达到这一目标，我是小熵，你有什么看法？快到下方评论区留言吧！欢迎关注，持续为您答疑解惑。

在紫外光谱。不同的材料有区别。

华为有可能造出光刻机吗？需要多久？看完长知识了

华为有可能造出光刻机吗？需要多久？看完长知识了

光刻机的国内自主研发是现在很多人都觉得势在必行的实行，主要原因就是因为这个东西我们的高端芯片产业被美国遏制确实很不爽。我们知道作为咱们国家民用芯片设计的王者，华为在这一次的芯片制裁事件之中受到的影响是最大的。要知道华为旗下的产品使用的都是自家的麒麟芯片，这就直接导致了手机出货量的下跌。而华为自建工厂开始生产芯片的新闻其实也早就已经报道过。

事实上很多人都觉得，只要生产出了自己的光刻机就能突破瓶颈，其实并不是单单如此。要知道芯片的生产制造本身就是一个不同种类企业协同工作相互传递的过程。光刻只是其中一个小小的环节。

事实上说得不好听一点，美国如果想要制裁的话，他们手中的牌还有很多，只不过光刻机是他们挑选择一张而已。所以我们看见华为的动作，或者说中国的动作并不是单单地制造一台光刻机，而是都建一整个芯片生产的链条。

华为的采用的稳扎稳打步步为营的策略。也就是说，从最一开始的超过140纳米的大工艺制式的芯片生产制造开始着手，在一步一步稳定生产的前提下，将工艺水平缩小到90纳米、甚至48纳米和28纳米的水平。因为现在中国能够在光刻领域达到的最号称就是稳定批量生产28纳米工艺的产品，理论极限7纳米可能还有待验证和实际使用方面的考察。

芯片的生产设计需要的不是一个头脑就能完成的。如此小的硅晶圆基底上密密麻麻层层叠叠分布的晶体管所要求的准确性和工作的正常性都是要经过一轮又一轮的验证的。这个验证的环节就需要大量的数据、大量的运算和相关软件的支持。现在国际上最有名的验证软件已经停止向海思授权。所以想要得到相关的数据和验证基础就要从零开始。

所以说这是一个非常漫长的过程。很多人想一蹴而就打破封锁的想法其实很好，但是终究有点理想化。假如事情真的那么简单，那为什么这么长时间过去了，我们依旧看不见相关方面的好消息呢？所以说有的研究可能真的需要时间和数据的验证。在一次又一次的实验、在无数次的验证和发展之后，才能趋向最稳定。

即便是华为这样拥有雄厚科研实力的世界级公司，在面对这件事情上其实也只能慢慢来。国家能够给予的支持也已经比较大，但是一个国家运转也不是靠着光刻机这一个东西。所以说这个领域是不是能够成功破局，还是要看高精尖的科研人士的努力和中国外交方面的一些突破。

生产光刻机，构建芯片生产链条从来就不能看作是一个企业的责任。它应该是咱们国家都应该为之努力的一个科研领域。