国内自主研发的光刻机公司有几家（中国自己研发的光刻机）

中国大陆哪几家企业生产光刻机？

成都兴林真空设备有限公司主营业务是光刻机生产加工，光刻机主要用途来自以下场景：

（1）光刻机用于大学研发、实验室设备。

（2）工厂用于做空空导弹跟踪器、发光二极管、传感器、手机芯片、霍尔元件

A、发光二极管：用于在十字路口红绿灯、公交车、汽车灯用在每到一站的显示。

B、传感器：用于高铁到站传输信号准确定位。

C、手机芯片：用在手机卡上，还有手机显示屏面。

D、霍尔元件：用于冰箱开灯亮、关灯熄灭。

E、卫星：卫星上面用于卫星角度的调整。

主要合作院校和单位有：

中国科学院半导体研究所、中国工程物理研究所

清华大学、北京大学、北京理工大学、复旦大学

南开大学、福州大学、浙江大学、武汉大学

安徽大学、华东师范大学、东北大学、厦门理工学院

中国核动研究设计院、重庆技术职工学院、成都理工大学

贵州大学、昆明理工大学、华南师范大学、青岛航天半导体研究所

常州银河电器有限公司、浙江正邦电子股份有限公司、江苏一光仪器有限公司

江苏车晨电子科技有限公司、上海航天控制技术研究所、上海空间研究中心

中国光刻机生产厂家

掩模对准器的制造商是ASML。自1984年以来，ASML的光刻解决方案一直是半导体行业的创新领导者，并在如此小的规模内实现了巨大的飞跃。结合硬件和软件，它提供了在硅上大规模生产图案的整体方法。在全球16个国家和地区，有60家ASML公司的主要产品是光刻机，这是生产大规模集成电路的核心设备。在国际同类产品中占有90%的市场份额，14nm工艺以下市场份额100%。扩展信息:ASML为半导体制造商提供掩模对准器和相关服务。TWINSCAN系列是世界上最精确、最多产、应用最广泛的高端光刻模型。世界上大多数半导体制造商从ASML购买TWINSCAN型号，如英特尔、三星、海力士、TSMC、SMIC等。

中国最厉害的光刻机公司

上海微电子公司是中国最厉㝘的光刻机公司。在我国的光刻机制造领域，它打破了零的记录，成为了唯一一家制造光刻机公司。上海微电子公司成立于2002年，如今上海微电子公司拥有1000多名优秀人才，在国内占据了80%以上的市场份额。在我们国家的半导体产业发展当中，上海微电子公司起到了极其重要的作用。

生产光刻机有哪些上市公司？

生产光刻机上市公司有ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康、荷兰ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能的产品系列共分布于三大领域：个人产品、办公设备和工业设备，主要产品包括照相机及镜头、数码相机、打印机、复印机、传真机、扫描仪、广播设备、医疗器材及半导体生产设备等。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

5、荷兰ASML公司

这是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

参考资料来源：百度百科-荷兰ASML公司

参考资料来源：百度百科-尼康

参考资料来源：百度百科-佳能

参考资料来源：百度百科-上海微电子装备有限公司

参考资料来源：百度百科-ABM

中国有光刻机吗？能做几纳米技术的芯片

中国有光刻机的可以做5纳米技术的芯片的，可以关注这方面的科技信息，中国能够自主研发出5纳米长度的计数芯片了

光刻机唯一上市公司

光刻机唯一上市公司是张江高科公司，光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：

1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

拓展资料：

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。