世界最精密的光刻机（世界最高精度光刻机）

现代的高端光刻机，哪些国家才能制造？

荷兰和日本。最大的光刻机制造商是荷兰ASML，这是一家总部设在荷兰埃因霍芬（Eindhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

产品服务

ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等。

ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列现已停产；AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。

世界上能做出高端光刻机的国家有哪些

能制造高端光刻机的只有荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

拓展资料：

光刻机种类

一、接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。

1、软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；

2、硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；

3、真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）

二、接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。

三、投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。

光刻机——百度百科

全球最强的光刻机为何出在荷兰，而不是美国日本德国？

如果在马路上看到这种货车，一定要躲远一点，万一不小心碰一下，几个亿可能就没了。这里面装的就是目前世界上最高端的EUV光刻机，华为就是因为这个被卡了脖子，单台售价1.3亿美元，比波音737客机还要贵，全世界只有一家公司能够生产这种高端光刻机，就是荷兰的阿斯麦尔。那为什么只有荷兰能够制造出如此高端的光刻机呢？日本，德国，美国这些传统的 科技 强国，为啥就不行了呢？

我们先把视角从阿斯麦尔，拉到全球芯片业两大巨头的竞争。英特尔的新CEO基辛格，才刚刚上任就剑指台积电，他强调台湾是一个不稳定的地方，台积电一边争取美国的补助，一边却把最先进的产品留在台湾制造，他呼吁美国政府要重振自家芯片产业。他口中的自家人，就是英特尔。

而英特尔与台积电之间的对决，真正的重点就在于EUV光刻机。目前台积电在光刻机的数量与经验方面，都对英特尔保持领先。我们假设台积电和英特尔用相同的速度购买新设备和研发新技术，那么台积电就能一直保持对英特尔的领先地位，英特尔永远无法翻身做大哥。

芯片产业可以说是目前全球最重要的产业，这两年受到缺芯影响，很多电子产品以及 汽车 等需要用到芯片的产品，都有涨价的现象。现在的世界已经离不开芯片的计算。而影响芯片产业强弱格局的关键因素，就是阿斯麦尔生产的EUV光刻机。

EUV光刻机到底是一台什么样的机器？阿斯麦尔又是一家怎样的公司呢？想要了解这些东西，我们得先从芯片的制造过程谈起。所谓的芯片，还有另外一个名字叫做集成电路，一个指甲盖大小的芯片上面就能堆放上百亿个晶体管。几乎所有的电子产品都需要它，才能正常运转。

芯片的制造就像是盖房子，首先第一步是要先规划出房子的设计图，芯片工程师会根据芯片要有的功能，画出相对应的电路图，有了电路图之后，还要有地方堆放电子元件，就像是我们盖房子，必须要先有块地皮一样。而这个地皮就是晶元，有了晶元之后，要如何把电路设计图缩小并印上去呢？答案是靠光。透过紫外光把设计图缩小到晶元上面，一个晶元的最终品质如何，这一步非常关键。接下来晶圆还要再封装一个绝缘的外壳，到此芯片的生产就算是完成了。

上面我们说过：光刻是芯片品质的关键，换句话说就是谁能得到最先进的光刻机，谁就能在芯片竞赛中超越对手。那最优秀的光刻机要找谁买呢？当然就是阿斯麦尔，而且全球仅此一家。虽然光刻机市场上不止阿斯麦尔一家，还有日本的佳能和尼康，但日本的光刻机只能在低端领域混，高端光刻机只有阿斯麦尔能够制造。那为什么只有阿斯麦尔能够制造出最高端的光刻机呢？日本，德国，美国这些传统 科技 强国哪个不比荷兰要强。

阿斯麦尔的EUV光刻机单台造价1.3亿美元，为什么这么贵呢？因为它几乎是融合了当前全人类的最高智慧结晶，想要完成一台EUV光刻机的制造，需要集结全球10多家顶级公司才能做得到。可以这么说，目前不存在哪家公司可以单独搞定全部零配件，EUV光刻机是建立在一条极度精密的产业链之上的，每一个关键零配件单独拿出来，谁能做好谁就是那个领域的世界顶尖。

反射镜是由德国的蔡司生产，对镜片光滑度的要求简直达到了逆天的级别。假设一个反射镜面跟德国面积一样大，那么镜片上最高的凸起也不能超过1厘米。阿斯麦尔的优势就在于，它牢牢掌控了整个产业链，光源来自美国，镜片来自德国，一台光刻机涉及多个 科技 强国的10多家顶级公司。之所以是荷兰的阿斯麦尔能够做到这件事，而不是日本，德国，美国的公司，这个是有 历史 原因的。

早期的光刻机出现在60到70年代，那时候的制程工艺远没有今天这么强大，光刻机的技术要求也相对较低，大多数搞半导体的公司，自己稍微加把劲都能做出来。在日本半导体行业快速崛起时，日本的佳能和尼康便顺势进入光刻机市场，并取得了非常好的成绩。再往后美国举全国之力打压日本半导体行业，逼迫日本签订了一系列协议，就和现在针对我们中国华为是一样的 ，唯一不同的是我们没有选择低头认怂。

此时的阿斯麦尔还是飞利浦旗下的一个小公司，全公司上上下下才30人，因为不赚钱后来被独立出来单独发展，其实也就是被抛弃了。在打压日本的同时，美国也需要扶持新的替代者，这时候阿斯麦尔因为押宝台积电林本坚提出的浸润式显影技术，让光源技术突破极限，这个坚持给阿斯麦尔带来了转机。

在美国的扶持下，多家顶级公司对阿斯麦尔提供技术帮助，供应关键零配件，阿斯麦尔终于制造出最高端的光刻机，从此独霸全球市场。我们熟悉的半导体大厂，英特尔，三星，台积电都是阿斯麦尔的股东，他们之间有着非常紧密的关联，这也是为什么美国不让台积电给华为代工，台积电就要乖乖听话，让阿斯麦尔不卖先进光刻机给中芯国际，中芯国际就只能干瞪眼的根本原因。因为阿斯麦尔是美国一手培养起来的。

至于我们究竟什么时候能造出最先进的光刻机？这个问题的答案不好说，但总之不会是最近几年，即便华为重金研发，也不可能在短期内赶上，那么多家顶级公司几十年甚至百年的技术积累，需要我们国内多个行业，众多公司一起努力，才有可能在未来的某个时间点，追赶上最先进技术。虽然不是近几年，但我相信这一天并不会太遥远。

世界上最好的光刻机来自荷兰，为什么不是芯片发达的美国？

世界上最顶端的光刻机来自荷兰阿斯麦的极紫外光光刻设备，差不多1.2亿美元一台，还垄断着世界高端光刻机市场，像现在最先进制程的7纳米，有的国家有钱也是买不到的。

那么为什么这种世界高科技光刻机公司不在美国，而在荷兰呢？首先最重要的这种技术并不是美国搞不出来。

一，是荷兰阿斯麦公司是自世界各国大公司投资的公司，其中大股东就有（美国）的英特尔公司，韩国三星，还有我国的台积电。这样的的好处是集资容易，风险共担，重要的是有美国大股东控制着。

二，是荷兰阿斯麦生产的光刻设备，一些重要部件来自世界很多国家，比如最重要的光源技术来自美国的一家公司，镜头来自德国等，这里又有美国公司参与控制。

三，是觉得把这种高科技公司放在荷兰可以更好的垄断这个产业，不使技术外流，一是荷兰是美国的小弟不担心；二是美国国内有反垄断法，如果把这样的公司放美国国内可能会被析分成至少两家公司，这样人才技术就会不集中，研发起来慢，也可能浪费钱，造成产能过剩，而在荷兰就没有这种法律，这样就比较好控制。

四，是美国掌握着世界芯片最顶端的芯片设计技术，光刻机是为芯片服务，如果美国停止设计高端芯片，那么荷兰的高端光刻机毫无用处，产量也是被美国控制着，不过这种优势美国越来越掌握不住了。

总的来说世界最高端的光刻机虽然在荷兰，但是被美国控制着。