中国、日本、荷兰。
在能够制造机器的这几家公司中,尤其以荷兰(ASML)技术最为先进。价格也最为高昂。光刻机的技术门槛极高,堪称人类智慧集大成的产物。
目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中,荷兰ASML市场占有率达到80%以上,而且目前ASML是全球唯一能够达到7纳米精度光刻机的提供商,所以ASML才是全球芯片业真正的超级霸主一点都不过分。
主要性能指标
光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
光刻机难造.全球目前能制造出尖端光刻机的国家也就只有荷兰和日本这两个国家。光刻机以光为媒介,刻画微纳于方寸之间,实现各种微米甚至纳米级别的图形加工。
荷兰和日本。最大的光刻机制造商是荷兰ASML,这是一家总部设在荷兰埃因霍芬(Eindhoven)的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。
产品服务
ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TWINSCAN机型,比如英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、台积电(TSMC)、中芯国际(SMIC)等。
ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列,其中PAS系列现已停产;AT系列属于老型号,多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列,为ArF和KrF激光光源,XT系列是成熟的机型,分为干式和沉浸式两种,而NXT系列则是现在主推的高端机型,全部为沉浸式。
德国有光刻机
光刻机其实是需要 韩国(SK海力士)、德国(蔡司)、荷兰(ASML)三个国家的企业的EUV技术整合在一起,才能做的出来。虽然ASML是荷兰的企业,但是光刻机的技术是这三家企业的专利整合在一起的结果
7nm以内制程的半导体,必须要用EUV光刻机才能做的出来。目前全球只有ASML公司能做的出来EUV光刻机。但是EUV光刻机并不是ASML一个人的技术,ASML有两大光刻机专利合作伙伴,分别是 SK海力士(韩国)和 蔡司(德国)。ASML、SK海力士、蔡司 这三家公司技术整合,才能做出目前全球最先进的EUV光刻机。
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