当前中国有能力自己生产光刻机,上海微电子装备有限公司通过十七年的“卧薪尝胆”,持续攻关,基本掌握了高端光刻机的集成技术,并部分掌握了核心部件的制造技术,实现了“用中国人的光刻机造中国芯”的梦想。
光刻机是一个由几万个精密零件、几百个执行器传感器、千万行代码组成的超复杂思维系统,要制造出光刻机,不仅仅需要科学技术上的攻关突破,还需要将大量的技术集成起来。
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高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。
国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
参考资料来源:人民网——上海微电子的光刻机诞生之路
中国有自己的光刻机,由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备,为纳米光学加工提供了全新的解决途径。
在光电所的努力下,中国的光刻机研制跳出了缩小波长、增大数值口径来提高分辨力的老路子,为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了一种全新的技术,也为超分辨光刻装备提供了理论基础。
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利用超分辨光刻装备,项目组为航天科技集团第八研究院、中科院上海微系统与信息技术研究所、电子科技大学、四川大学华西二院、重庆大学等多家单位制备了一系列纳米功能器件。
包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等,验证了超分辨光刻装备纳米功能器件加工能力,已达到实用化水平。
参考资料来源:光明网——我国新一代超分辨光刻机通过验收
中国目前研制不出来光刻机,因为技术条件的要求太高了,而且,核心技术还被西方国家垄断,想要购买必须经过美国的同意,你们觉得美国会同意吗?
01、光刻机制造技术复杂。
光刻机的制造技术非常复杂,一个光刻机想要制造出来需要十几万个零部件,并且核心技术还是西方国家掌握,在没有相关技术的辅助下,想要制造出来光刻机真的是难上加难,我觉得光刻机是比原子弹更加难制作的,因为光刻机制作要求有更高的更精密的技术,更关键的是光刻机还是在不断的发展进步中的。
02、我们国家最好的光刻机可以制造14nm的芯片。
我们国际目前能够制作出来最精细的芯片是14nm的,并且这还是借助了美国的相关技术,但是一些公司已经能够把芯片做到5nm了,差了整整9nm,非常大的一个差距了,而且想要弥补回来还需要至少20年的努力。
03、我们国家在顶尖技术上和发达国家还有很大的差距。
从光刻机就能看出来,我们国家在一些技术上和西方国家还是有很大的差距的,而且这个差距是短时间内难以弥补的,在现在这个国际情况下,西方国家肯定是会藏好自己的技术,不会让我们那么轻易学走的,因为对他们来说,这是他们唯一领先我们的地方了,也是他们最后的一点骄傲,但是没关系,虽然我们国家光刻机发展时间短,制造很困难,但是我相信没有中国人过不去的坎,光刻机一定会被我们制造出来。
总结:
虽然技术落后,但是20年以后,我们国家一定会有最先进的光刻机技术,西方国家虽然想要实现技术封锁,但是他们最后还是会失望的。
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