不用光刻机造芯片（无需光刻机造芯片）

不用EUV光刻机也行？华为芯片研发新进展，老美只能无奈接受

相信大家对于近些日子以来，华为海思芯片遭到制裁之后，都有着一样的担忧和惆怅吧。要知道，传统的芯片工序繁杂，而且一切流程随处可见的是硅的身影。

就在这个时候，华为提出了研发芯片新技术的想法，并将其付诸实践。不用EUV光刻机也行？华为开启芯片新技术研发，这回谁也拦不住。

为了这次的公开专利显示，华为更是下重本申请了“光计算芯片”的专利，与以往的芯片不一样的是，这次要研发的新型芯片，基本方向是被定为光子芯片的。

而听到光子芯片这个名字，想必你也能够想象得到它所追求的，必然是飞快的速度，以及高效的效率了吧。不过也正因为如此，它的研发难度你可想而知。

不过一旦这种芯片研发能够成功，那么不用EUV光刻机也可以，它如果能够取得成功，势必将成为半导体行业的一大极具纪念意义的里程碑。

众所周知，华为一直以来，都是我国人民的骄傲。它不单单是拿下了5G的代理权，而且在半导体的芯片市场一直都是芯片厂家强有力的对手。

而华为能够取得如此傲人成绩的主要原因，还是源于它对于产品不断的研究和创新能力。

而这次，它更是主力要打破大众对于传统 芯片的认识，不再采用硅作为主要的原材料，而是申请了“光计算芯片”的专利，将此使用在了系统和数据处理技术上面。

华为此举，我们不得不说，是非常冒险而又极具胆识的举动。相信很多的企业都不得不佩服华为能够拥有这样过人的胆识和魄力吧，毕竟这也不是谁都能够做得到的。

而华为其实也是经过了很多层面的考虑和深思，才得出了这样的结论的吧。

之前，就有美国大学利用光作为传输媒介从而成功研发光子芯片的故事，那么想来，华为想要成功研发光计算芯片，也并不是异想天开的事情，这也是建立在现有的现实依据之上的，是经过精密的计算的。

其实，全世界的企业对于光子芯片这一个概念，并不是第一次听说了。相反，对于这个领域，大家伙都是充满着好奇和 探索 精神的，只是华为冲在了第一线上，成为了第一个吃螃蟹的人。

要知道，光子的速度和效率是非常之高的，几乎是电子的好几十倍的存在。所以，不少的人们预言，光子芯片或许有望成为新一代的芯片体系，引领着新一轮的半导体行业中的芯片技术体系。

不过，由于光子芯片的极快速度和极高的效率，我们也可以从侧面看出，它的研发所需要历经的困境之多，毕竟，这些都不是可以一蹴而就的。

一旦成功，那么就意味着我们将可以使用更加成熟的芯片制造技术，甚至于不用依赖EUV光刻机也可以实现算力的分析。

不过，我国目前对于光子芯片研究的企业和领域还是很稀少的，基本上还是比较依赖于海外的研究和技术成果。

而此次华为的芯片新技术的研究，涉及到了新型的光子芯片的新领域，它的每一个小的步伐，都将是整个行业的一大进步，所以也是备受世人的期待。

也正是因为如此，想来，华为身上所要承担的压力更是数不胜数的。不过，华为此次的决定，相信是谁也拦不住的，而华为也是下定了决心，要在往后的路上跟芯片的发展和新工艺的研发一路死磕到底了吧。

华为的这一个重大的举措，在我看来，是非常具有大企业气度行为。它丝毫不畏惧往后可能要面对的困境和很有可能遇到的失败的情形，是非常值得被世人所称赞的行为。

而且，我想，哪怕现在的传统芯片工艺制造地再精细，哪怕是从7纳米进化到5纳米，虽说每次都是在打破芯片行业的极限。

但是，我们也不得不承认，这样的前路是极其渺茫的。台积电花费了几十年的时间，取得了5纳米的成绩，但是未来呢？

芯片的发展又应该朝着怎么的步伐而去前行呢？这个时候，华为的光计算芯片的概念就成为了芯片行业新的指路灯。

我们必须相信， 科技 的发展是极其飞快的，它始终是令人感觉到不可思议的存在，与此同时，它也是最具现实主义的存在吧。

很多的产业发展都不会局限于一个方向，因为如果只有一个方向的话，这个行业将很难得到全面的发展。

芯片行业的发展也是如此，如果一味只是朝着传统芯片去精化，相信时间一长，也是难以承载的，所以对于芯片新技术的 探索 是势在必行的行为，而华为则是恰巧地勇敢踏出了这一步。

华为此次研发的方向是光子芯片的。不过也正因为如此，它的研发难度你可想而知，这也就是为什么那么多的企业，就算是极其专业的芯片生产厂家，也不敢贸然进行研发。

毕竟它不管是金钱的投入，时间上的成本，亦或者是对人才的需求，都是一个庞大的数字，令人望而止步。

不过我们也必须看到，成功往往都是建立在风险之上的，一旦这种芯片研发能够成功，那么在未来的时间里，我们就算不用EUV光刻机也可以进行芯片计算分析！

写在后面

这也从另一个层面，证明了它如果一旦能够取得成功，势必将成为半导体行业的一大极具纪念意义的里程碑，推动着整个芯片行业朝着新技术领域发展。

至于接下来的发展会是怎么样一个局面，相信谁也没有办法给出一个绝对的答案，那么就让我们把这个谜底的揭晓，留给时间吧，相信在未来的时间里，我们会受到一份满意的答卷的。

对此，你有什么样的看法呢？

制造芯片不再难，量子芯片无需用光刻机？

因为在 科技 圈发生的各种问题，比如华为等企业被美国供断芯片，国内一度为芯片供应问题而一筹莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面，传统硅基芯片制造必定需要光刻机，纳米制程越小难度就越大，对光刻要求也就越高。虽然在高 科技 领域，我国已跻身前列，然而在芯片制造、光刻机等方面却是非常薄弱的，所以现在就因为光刻机的问题让中国芯片在制造上举步维艰。但是中国在世界上也不缺少顶尖 科技 ，其中一个就是量子技术，那么到底能不能利用量子技术直接让芯片的发展绕开光刻方面的封锁呢？

从理论上说，量子芯片是可以绕开传统硅基芯片制造必备的光刻机，量子芯片是将量子线路集成在基片上，通过量子碰撞技术以进行信息的处理和传输，制造方面完全用不到光刻机。

中国科研人员主导的国际团队在美国《科学进展》期刊上发表了一篇论文，论文中提到团队已经研发出了一种新型可编程光量子芯片，可实现多种图论问题的量子算法求解，这种新型可编程的光量子芯片，被外界看做是跳过光刻机的办法之一。该芯片采用硅基集成光学技术，通过微纳加工工艺在单个芯片上集成大量光量子器件，对实现量子信息的编码和量子算法的映射，具有高集成度、高稳定性、高精确度等优势。这种新型光量子芯片虽然也是采用微纳加工工艺，但主要是在单个芯片上集成大量光量子器件，由于生产原理上的不同，所以可以绕开光刻机的限制。

虽然量子技术取得了一定的成就,但到投入商业应用还需要走一段路。一旦量子芯片成功商用，量子芯片跳过光刻机,而不依赖它，芯片制造领域将迈进一个新的里程，那么光刻机对于我们来说也就不那么重要了，我们在芯片制造上也将告别过去被卡脖子的尴尬境况。

量子芯片需要光刻机吗

近年来，芯片的热度不减，尤其是随着5G的大规模发展和新能源汽车的发展。对芯片的需求可以说达到了前所未有的程度。全世界都在“缺芯片”。作为全球最大的芯片进口国，台湾省受到的影响越来越大。虽然部分芯片的采购仍受制于海外公司，但好消息是，未来这种情况可能会有很大改变。因为量子芯片即将问世。如果量子芯片能够研发成功，将彻底改变目前的局面。量子芯片是组装在主面板上的量子电路，具有量子信息处理的功能。论量子力学的叠加和纠缠特性，量子计算机在计算能力上已经远远超越了传统计算机。它被称为信息时代的“核武器”，关系到一个国家未来的核心竞争力。量子芯片是这项颠覆性技术的核心。理论上，量子芯片是一种可以绕过传统硅片制造的光刻机。量子芯片在衬底上集成量子电路，通过量子碰撞技术处理和传输信息，完全不需要光刻机。虽然量子技术已经取得了一些成果，但是距离投入商业应用还有很长的路要走。一旦量子芯片成功商业化，量子芯片将超越光刻技术，芯片制造领域将进入一个新的里程碑。那么光刻对我们来说就没那么重要了，告别了过去卡在芯片制造的尴尬局面。值得一提的是，目前我国量子芯片的生产仍以实验室加工为主。要实现量子芯片的大规模生产，必须要有成熟的制造技术和成熟的生产加工模式。事实上，合肥本元量子和合肥晶和集成电路有限公司两家公司的最终目的都是为了尽快上马量子计算芯片生产线，这也是国内量子计算产业发展的最大障碍。关于建立原晶量子芯片联合实验室，美国院士詹姆斯直言，美国未来不会用芯片制造中国的问题，芯片之争终将结束。相信未来中国的量子芯片也会在国际上大放异彩。

不需要光刻机，真的能够制造出芯片吗？

不需要光刻机，真的能够制造出芯片吗？

芯片制造是我国科学家面临的大问题。有必要突破西方国家的芯片封锁，不仅需要升级闪电机，还需要具有高强度掌握光刻胶的应用。光刻和蚀刻机是芯片制造所需的两个主要设备。现在我国的研究人员通过蚀刻机的技术困难成功地突破，但瞬间机器的困难并没有破碎。很多人都担心，没有照明机器，芯片会不会做到吗？事实上，它不必担心太多了。这不是中国专家打破常规取代了光刻技术并给了！

有人说，中国希望制作芯片，即使有一个轻微的时刻还是不够，也有必要打破西方国家的垄断师的光致抗辩。光刻的第一步是在样品上施加光致抗蚀剂，然后将其覆盖到所需位置。目前，我国的光刻技术和欧洲和美国是差距，所以最好的方法是跳出来，取代了其他技术计划。据浙江新闻报道称，母鸡恏研究小组决定打破常规，用水而不是光致抗蚀剂，将样品放入真空设备中，在样品冷却后，然后注射水蒸气，等待它，研究人员将是他们自己的“冰明胶”。

“icelastic”技术是非常有利的，并且水蒸气可以覆盖任何形状的表面，即使是小样品也可以，并且水蒸气非常光，并且如果施加可以在脆弱的材料上加工。水的性质是相对特别有利的，并且电子束可以分散水，从而可以节省非常麻烦的步骤，并且不需要重新使用传统光刻等化学试剂。清洁模具并形成模具，不仅可以避免洗涤引起的污染，或避免由未清洁引起的质量问题。

该技术已经能够完成数十个纳米的程度，并且随着科学研究水平不断改进，当前光致抗蚀剂的最终雕刻也很可能也很可能。从世界研究的角度来看，对“冰胶”取代光致抗蚀剂并不大量的研究。除了我的国家外，只能使用两个实验室，另一个是丹麦。当我了解到我国获得的这个重要科研结果时，一些网友嘲笑，在这项技术中美国似乎很慢这次我给了西方课程。